Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ.
Saved in:
| Date: | 1999 |
|---|---|
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
1999
|
| Series: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122735 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. |