Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали
Досліджено кінетику диспергування хромових та нікелевих наноплівок завтовшки 100 нм, які нанесені на зразки з кераміки на основі Si₃N₄ і скловуглецю та відпалені у вакуумі при температурах 1000—1200 °С впродовж різних часових проміжків (2—20 хв). Встановлено, що плівки обох металів на скловуглеці та...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Адгезия расплавов и пайка материалов |
|---|---|
| Дата: | 2014 |
| Автори: | , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Українська |
| Опубліковано: |
Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України
2014
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/125468 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали / Ю.В. Найдіч, І.І. Габ, Т.В. Стецюк, Б.Д. Костюк, С.І. Мартинюк, Т.Б. Коноваленко // Адгезия расплавов и пайка материалов. — 2014. — Вып 47. — С. 76-83. — Бібліогр.: 14 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862673474128969728 |
|---|---|
| author | Найдіч, Ю.В. Габ, І.І. Стецюк, Т.В. Костюк, Б.Д. Мартинюк, С.І. Коноваленко, Т.Б. |
| author_facet | Найдіч, Ю.В. Габ, І.І. Стецюк, Т.В. Костюк, Б.Д. Мартинюк, С.І. Коноваленко, Т.Б. |
| citation_txt | Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали / Ю.В. Найдіч, І.І. Габ, Т.В. Стецюк, Б.Д. Костюк, С.І. Мартинюк, Т.Б. Коноваленко // Адгезия расплавов и пайка материалов. — 2014. — Вып 47. — С. 76-83. — Бібліогр.: 14 назв. — укр. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Адгезия расплавов и пайка материалов |
| description | Досліджено кінетику диспергування хромових та нікелевих наноплівок завтовшки 100 нм, які нанесені на зразки з кераміки на основі Si₃N₄ і скловуглецю та відпалені у вакуумі при температурах 1000—1200 °С впродовж різних часових проміжків (2—20 хв). Встановлено, що плівки обох металів на скловуглеці та кераміці на основі Si₃N₄ повністю розпадаються при 1200 °С, крім того, плівки нікелю ще й взаємодіють з матеріалом підкладки. Використовувати такі плівки на Si₃N₄ та скловуглеці можна для паяння при температурах до 1100 °С.
Исследована кинетика диспергирования хромовых и никелевых нанопленок толщиной 100 нм, нанесенных на поверхность керамики на основе Si₃N₄ и стеклоуглерода и отожженных в вакууме при температурах 1000—1200 °С в течение различных промежутков времени (2—20 мин). Установлено, что пленки обоих металлов на керамике на основе Si₃N₄ и стеклоуглероде полностью распадаются при 1200 °С, кроме того, пленки никеля еще и взаимодействуют с материалом подложки. Использовать такие пленки на Si₃N₄ и стеклоуглероде можно для пайки при температурах до 1100 °С.
Dispersion kinetics which is proceeds in chromium and nickel nanofilms by thickness of 100 nm deposited onto oxygen-free inorganic materials as a result of them annealing in vacuum at temperatures 1000—1200 °С during various time (2—20 min) is investigated. It is established that both metal films onto carbon glass and Si₃N₄ ceramics are completely disintegrated at 1200 °С besides nickel film also interact with the substrate material. These films onto Si₃N₄ and carbon glass can be used for brazing at temperatures up to 1100 °C.
|
| first_indexed | 2025-12-07T15:38:28Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-125468 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 0136-1732 |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2025-12-07T15:38:28Z |
| publishDate | 2014 |
| publisher | Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Найдіч, Ю.В. Габ, І.І. Стецюк, Т.В. Костюк, Б.Д. Мартинюк, С.І. Коноваленко, Т.Б. 2017-10-27T17:58:11Z 2017-10-27T17:58:11Z 2014 Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали / Ю.В. Найдіч, І.І. Габ, Т.В. Стецюк, Б.Д. Костюк, С.І. Мартинюк, Т.Б. Коноваленко // Адгезия расплавов и пайка материалов. — 2014. — Вып 47. — С. 76-83. — Бібліогр.: 14 назв. — укр. 0136-1732 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/125468 539.216.2: 546.882:546.83 Досліджено кінетику диспергування хромових та нікелевих наноплівок завтовшки 100 нм, які нанесені на зразки з кераміки на основі Si₃N₄ і скловуглецю та відпалені у вакуумі при температурах 1000—1200 °С впродовж різних часових проміжків (2—20 хв). Встановлено, що плівки обох металів на скловуглеці та кераміці на основі Si₃N₄ повністю розпадаються при 1200 °С, крім того, плівки нікелю ще й взаємодіють з матеріалом підкладки. Використовувати такі плівки на Si₃N₄ та скловуглеці можна для паяння при температурах до 1100 °С. Исследована кинетика диспергирования хромовых и никелевых нанопленок толщиной 100 нм, нанесенных на поверхность керамики на основе Si₃N₄ и стеклоуглерода и отожженных в вакууме при температурах 1000—1200 °С в течение различных промежутков времени (2—20 мин). Установлено, что пленки обоих металлов на керамике на основе Si₃N₄ и стеклоуглероде полностью распадаются при 1200 °С, кроме того, пленки никеля еще и взаимодействуют с материалом подложки. Использовать такие пленки на Si₃N₄ и стеклоуглероде можно для пайки при температурах до 1100 °С. Dispersion kinetics which is proceeds in chromium and nickel nanofilms by thickness of 100 nm deposited onto oxygen-free inorganic materials as a result of them annealing in vacuum at temperatures 1000—1200 °С during various time (2—20 min) is investigated. It is established that both metal films onto carbon glass and Si₃N₄ ceramics are completely disintegrated at 1200 °С besides nickel film also interact with the substrate material. These films onto Si₃N₄ and carbon glass can be used for brazing at temperatures up to 1100 °C. uk Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України Адгезия расплавов и пайка материалов Контактное взаимодействие твердых тел на границе с твердыми и жидкими фазами Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали Kinetics of dispersion of chromium and nickel nanofilms deposited onto oxygen-free inorganic materials which was a result of annealing them in vacuum Article published earlier |
| spellingShingle | Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали Найдіч, Ю.В. Габ, І.І. Стецюк, Т.В. Костюк, Б.Д. Мартинюк, С.І. Коноваленко, Т.Б. Контактное взаимодействие твердых тел на границе с твердыми и жидкими фазами |
| title | Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали |
| title_alt | Kinetics of dispersion of chromium and nickel nanofilms deposited onto oxygen-free inorganic materials which was a result of annealing them in vacuum |
| title_full | Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали |
| title_fullStr | Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали |
| title_full_unstemmed | Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали |
| title_short | Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали |
| title_sort | кінетика диспергування при відпалі у вакуумі хромових та нікелевих наноплівок,нанесених на неоксидні матеріали |
| topic | Контактное взаимодействие твердых тел на границе с твердыми и жидкими фазами |
| topic_facet | Контактное взаимодействие твердых тел на границе с твердыми и жидкими фазами |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/125468 |
| work_keys_str_mv | AT naidíčûv kínetikadisperguvannâprivídpalíuvakuumíhromovihtaníkelevihnanoplívoknanesenihnaneoksidnímateríali AT gabíí kínetikadisperguvannâprivídpalíuvakuumíhromovihtaníkelevihnanoplívoknanesenihnaneoksidnímateríali AT stecûktv kínetikadisperguvannâprivídpalíuvakuumíhromovihtaníkelevihnanoplívoknanesenihnaneoksidnímateríali AT kostûkbd kínetikadisperguvannâprivídpalíuvakuumíhromovihtaníkelevihnanoplívoknanesenihnaneoksidnímateríali AT martinûksí kínetikadisperguvannâprivídpalíuvakuumíhromovihtaníkelevihnanoplívoknanesenihnaneoksidnímateríali AT konovalenkotb kínetikadisperguvannâprivídpalíuvakuumíhromovihtaníkelevihnanoplívoknanesenihnaneoksidnímateríali AT naidíčûv kineticsofdispersionofchromiumandnickelnanofilmsdepositedontooxygenfreeinorganicmaterialswhichwasaresultofannealingtheminvacuum AT gabíí kineticsofdispersionofchromiumandnickelnanofilmsdepositedontooxygenfreeinorganicmaterialswhichwasaresultofannealingtheminvacuum AT stecûktv kineticsofdispersionofchromiumandnickelnanofilmsdepositedontooxygenfreeinorganicmaterialswhichwasaresultofannealingtheminvacuum AT kostûkbd kineticsofdispersionofchromiumandnickelnanofilmsdepositedontooxygenfreeinorganicmaterialswhichwasaresultofannealingtheminvacuum AT martinûksí kineticsofdispersionofchromiumandnickelnanofilmsdepositedontooxygenfreeinorganicmaterialswhichwasaresultofannealingtheminvacuum AT konovalenkotb kineticsofdispersionofchromiumandnickelnanofilmsdepositedontooxygenfreeinorganicmaterialswhichwasaresultofannealingtheminvacuum |