Вплив ізовалентної домішки Ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію

У зразках Cz−Si n-типу, легованих ізовалентною домішкою германію, виявлено суттєве
 зниження ефективності утворення термодонорів у процесі термовідпалів, а також
 встановлено підвищення радіаційної стійкості приблизно на порядок при опроміненні
 nSi ⟨Ge⟩ швидкими нейтронами р...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Доповіді НАН України
Date:2016
Main Authors: Гайдар, Г.П., Баранський, П.І.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: Видавничий дім "Академперіодика" НАН України 2016
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/125716
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Вплив ізовалентної домішки Ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію / Г.П. Гайдар, П.І. Баранський // Доповіді Національної академії наук України. — 2016. — № 7. — С. 62-69. — Бібліогр.: 15 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862642336361611264
author Гайдар, Г.П.
Баранський, П.І.
author_facet Гайдар, Г.П.
Баранський, П.І.
citation_txt Вплив ізовалентної домішки Ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію / Г.П. Гайдар, П.І. Баранський // Доповіді Національної академії наук України. — 2016. — № 7. — С. 62-69. — Бібліогр.: 15 назв. — укр.
collection DSpace DC
container_title Доповіді НАН України
description У зразках Cz−Si n-типу, легованих ізовалентною домішкою германію, виявлено суттєве
 зниження ефективності утворення термодонорів у процесі термовідпалів, а також
 встановлено підвищення радіаційної стійкості приблизно на порядок при опроміненні
 nSi ⟨Ge⟩ швидкими нейтронами реактора. В образцах Cz−Si n-типа, легированных изовалентной примесью германия, выявлено существенное снижение эффективности образования термодоноров в процессе термоотжигов, а также установлено повышение радиационной стойкости приблизительно на порядок при облучении n-Si ⟨Ge⟩ быстрыми нейтронами реактора. In n-type Cz−Si samples doped by the germanium isovalent impurity, a significant decrease in the
 efficiency of formation of thermodonors in the thermoannealing process is found, as well as an
 increase of the radiation hardness by order of magnitude under the irradiation of n-Si ⟨Ge⟩ by
 fast-pile neutrons is established.
first_indexed 2025-12-01T05:14:03Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-125716
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1025-6415
language Ukrainian
last_indexed 2025-12-01T05:14:03Z
publishDate 2016
publisher Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
record_format dspace
spelling Гайдар, Г.П.
Баранський, П.І.
2017-11-02T13:22:20Z
2017-11-02T13:22:20Z
2016
Вплив ізовалентної домішки Ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію / Г.П. Гайдар, П.І. Баранський // Доповіді Національної академії наук України. — 2016. — № 7. — С. 62-69. — Бібліогр.: 15 назв. — укр.
1025-6415
DOI: doi.org/10.15407/dopovidi2016.07.062
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/125716
621.315.592
У зразках Cz−Si n-типу, легованих ізовалентною домішкою германію, виявлено суттєве
 зниження ефективності утворення термодонорів у процесі термовідпалів, а також
 встановлено підвищення радіаційної стійкості приблизно на порядок при опроміненні
 nSi ⟨Ge⟩ швидкими нейтронами реактора.
В образцах Cz−Si n-типа, легированных изовалентной примесью германия, выявлено существенное снижение эффективности образования термодоноров в процессе термоотжигов, а также установлено повышение радиационной стойкости приблизительно на порядок при облучении n-Si ⟨Ge⟩ быстрыми нейтронами реактора.
In n-type Cz−Si samples doped by the germanium isovalent impurity, a significant decrease in the
 efficiency of formation of thermodonors in the thermoannealing process is found, as well as an
 increase of the radiation hardness by order of magnitude under the irradiation of n-Si ⟨Ge⟩ by
 fast-pile neutrons is established.
uk
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
Доповіді НАН України
Фізика
Вплив ізовалентної домішки Ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію
Влияние изовалентной примеси Ge и термоотжигов на электрофизические свойства кристаллов кремния
Influence of Ge isovalent impurity and thermoannealings on the electrophysical properties of silicon crystals
Article
published earlier
spellingShingle Вплив ізовалентної домішки Ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію
Гайдар, Г.П.
Баранський, П.І.
Фізика
title Вплив ізовалентної домішки Ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію
title_alt Влияние изовалентной примеси Ge и термоотжигов на электрофизические свойства кристаллов кремния
Influence of Ge isovalent impurity and thermoannealings on the electrophysical properties of silicon crystals
title_full Вплив ізовалентної домішки Ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію
title_fullStr Вплив ізовалентної домішки Ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію
title_full_unstemmed Вплив ізовалентної домішки Ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію
title_short Вплив ізовалентної домішки Ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію
title_sort вплив ізовалентної домішки ge і термовідпалів на електрофізичні властивості кристалів кремнію
topic Фізика
topic_facet Фізика
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/125716
work_keys_str_mv AT gaidargp vplivízovalentnoídomíškigeítermovídpalívnaelektrofízičnívlastivostíkristalívkremníû
AT baransʹkiipí vplivízovalentnoídomíškigeítermovídpalívnaelektrofízičnívlastivostíkristalívkremníû
AT gaidargp vliânieizovalentnoiprimesigeitermootžigovnaélektrofizičeskiesvoistvakristallovkremniâ
AT baransʹkiipí vliânieizovalentnoiprimesigeitermootžigovnaélektrofizičeskiesvoistvakristallovkremniâ
AT gaidargp influenceofgeisovalentimpurityandthermoannealingsontheelectrophysicalpropertiesofsiliconcrystals
AT baransʹkiipí influenceofgeisovalentimpurityandthermoannealingsontheelectrophysicalpropertiesofsiliconcrystals