Термодинамическое исследование легирования композиции алмаз–WC–Co силицидами переходных металлов

Изучено взаимодействие силицидов CoSi₂, NiSi₂, CrSi₂ с композициею алмаз–WC–Co. Показано, что стабильными фазами в этой композиции являются CoSi, SiC, CrSi, Cr₃C₂, Cr₇C₃, WSi₂. Для легирования композиции алмаз–WC–Co рекомендуются силициды NiSi₂ и CrSi₂. Вивчено взаємодію силіцидів CoSi₂, NiSi₂, CrSi...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Сверхтвердые материалы
Дата:2012
Автори: Лисовский, А.Ф., Бондаренко, Н.А.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2012
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/125988
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Термодинамическое исследование легирования композиции алмаз–WC–Co силицидами переходных металлов / А.Ф. Лисовский, Н.А. Бондаренко // Сверхтвердые материалы. — 2012. — № 4. — С. 33-37. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Изучено взаимодействие силицидов CoSi₂, NiSi₂, CrSi₂ с композициею алмаз–WC–Co. Показано, что стабильными фазами в этой композиции являются CoSi, SiC, CrSi, Cr₃C₂, Cr₇C₃, WSi₂. Для легирования композиции алмаз–WC–Co рекомендуются силициды NiSi₂ и CrSi₂. Вивчено взаємодію силіцидів CoSi₂, NiSi₂, CrSi₂ з композицією алмаз–WC–Co. Доведено, що стабільними фазами в цій композиції є CoSi, SiC, CrSi, Cr₃C₂, Cr₇C₃, WSi₂. Для легування композиції алмаз–WC–Co рекомендовано силіциди NiSi₂ і CrSi₂. The interaction of the CoSi₂, NiSi₂, CrSi₂ silicides with a diamond–WC–Co composition has been studied. It has been shown that in this case the stable phases are the following CoSi, SiC, CrSi, Cr₃C₂, Cr₇C₃, WSi₂. To alloy the diamond–WC–Co composition, the NiSi₂ and CrSi₂ silicides have been recommended.Keywords: diamond, silicides phases.
ISSN:0203-3119