Исследование топологических особенностей формирования рельефа поверхности пленок нитрида титана на кремниевой подложке при диффузионном массопереносе и отжиге методом сканирующей туннельной микроскопии

• Опубліковано в: : Сверхтвердые материалы
• Дата: 2013
• Автор: Цысарь, М.А.
• Формат: Стаття
• Мова: Російська
• Опубліковано: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2013
• Теми: Получение, структура, свойства
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/126025
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Исследование топологических особенностей формирования рельефа поверхности пленок нитрида титана на кремниевой подложке при диффузионном массопереносе и отжиге методом сканирующей туннельной микроскопии / М.А. Цысарь // Сверхтвердые материалы. — 2013. — № 1. — С. 56-65. — Бібліогр.: 22 назв. — рос.

Рассмотрены особенности структуры и свойств наноструктурных пленок нитрида титана на кремниевой подложке и построена физико-математическая модель формирования рельефа их поверхности на основе деформационной теории. Получена зависимость длины волны поверхностной гофрировки от толщины пленки. Исследована топография рельефа поверхности, сформированного в результате диффузионного массопереноса и измененного при отжиге. Определена амплитуда образовавшихся гофр. Розглянуто особливості структури і властивостей наноструктурних плівок нітриду титану і побудовано фізико-математичну модель формування рельєфу поверхні на основі деформаційної теорії. Отримано залежність довжини хвилі поверхневого гофрування від товщини плівки при відпалі. Досліджено топографію рельєфу поверхні, сформованого в результаті дифузійного масопереносу і зміненого при відпалі. Визначено амплітуду гофр, що було утворено. The features of the structure and properties of nanostructured titanium nitride films, according to these data was constructed physical and mathematical model of the surface relief on the basis of deformation theory. Derived on the wavelength of the film thickness during thermal annealing. Studies of the surface topography of the films formed by diffusion mass transfer and thermal annealing at 400 °C showed an increase in wave length from 125 nm to 282 nm, respectively.