Исследование фазовых переходов в кремнии методами сканирующей туннельной спектроскопии и наноиндентирования
Представлены результаты экспериментов по наноцарапанию и наноиндентированию поверхности кремния с использованием сканирующего туннельного микроскопа, оснащенного полупроводниковым алмазным зондом. Обсуждены физические явления в кремнии, возникающие при различных уровнях контактного давления. Предста...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Сверхтвердые материалы |
|---|---|
| Дата: | 2013 |
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
2013
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/126071 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Исследование фазовых переходов в кремнии методами сканирующей туннельной спектроскопии и наноиндентирования / О.Г. Лысенко, С.Н. Дуб, В.И. Грушко, Е.И. Мицкевич, Г.Н. Толмачева // Сверхтвердые материалы. — 2013. — № 6. — С. 28-35. — Бібліогр.: 21 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Представлены результаты экспериментов по наноцарапанию и наноиндентированию поверхности кремния с использованием сканирующего туннельного микроскопа, оснащенного полупроводниковым алмазным зондом. Обсуждены физические явления в кремнии, возникающие при различных уровнях контактного давления.
Представлено результати експериментів з нанодряпання та наноіндентування поверхні кремнію з використанням скануючого тунельного мікроскопа, оснащеного напівпровідниковим алмазним вістрям. Обговорено фізичні явища в кремнії, що виникають при різних рівнях контактного тиску.
Results of experiments on silicon samples that include nanoscratching and nanoindantation, using the scanning tunelling microscope with conductive diamond tip are presented. Physical phenomena in the silicon arising from different levels of the contact pressure are discussed.
|
|---|---|
| ISSN: | 0203-3119 |