Исследование фазовых переходов в кремнии методами сканирующей туннельной спектроскопии и наноиндентирования

Представлены результаты экспериментов по наноцарапанию и наноиндентированию поверхности кремния с использованием сканирующего туннельного микроскопа, оснащенного полупроводниковым алмазным зондом. Обсуждены физические явления в кремнии, возникающие при различных уровнях контактного давления. Предста...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Сверхтвердые материалы
Date:2013
ISSN:0203-3119
Main Authors: Лысенко, О.Г., Дуб, С.Н., Грушко, В.И., Мицкевич, Е.И., Толмачева, Г.Н.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2013
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/126071
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Исследование фазовых переходов в кремнии методами сканирующей туннельной спектроскопии и наноиндентирования / О.Г. Лысенко, С.Н. Дуб, В.И. Грушко, Е.И. Мицкевич, Г.Н. Толмачева // Сверхтвердые материалы. — 2013. — № 6. — С. 28-35. — Бібліогр.: 21 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:Представлены результаты экспериментов по наноцарапанию и наноиндентированию поверхности кремния с использованием сканирующего туннельного микроскопа, оснащенного полупроводниковым алмазным зондом. Обсуждены физические явления в кремнии, возникающие при различных уровнях контактного давления. Представлено результати експериментів з нанодряпання та наноіндентування поверхні кремнію з використанням скануючого тунельного мікроскопа, оснащеного напівпровідниковим алмазним вістрям. Обговорено фізичні явища в кремнії, що виникають при різних рівнях контактного тиску. Results of experiments on silicon samples that include nanoscratching and nanoindantation, using the scanning tunelling microscope with conductive diamond tip are presented. Physical phenomena in the silicon arising from different levels of the contact pressure are discussed.
ISSN:0203-3119