Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала

• Veröffentlicht in: Сверхтвердые материалы
• Datum: 2013
• Hauptverfasser: Долматов, В.Ю., Веханен, А., Мюллюмяки, В., Рудометкин, К.А., Панова, А.Н., Королев, К.М., Шпадковская, Т.А.
• Format: Artikel
• Sprache: Russian
• Veröffentlicht: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2013
• Schlagworte: Инструмент, порошки, пасты
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/126077
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала / В.Ю. Долматов, А. Веханен, В. Мюллюмяки, К.А. Рудометкин, А.Н. Панова, К.М. Королев, Т.А. Шпадковская // Сверхтвердые материалы. — 2013. — № 6. — С. 102-112. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.

Представлены новые варианты химической очистки детонационных наноалмазов и алмазосодержащей детонационной шихты от водонерастворимых металлосодержащих примесей обработкой при высокой температуре растворами комплексонов концентрации 0,5–20 % (по массе) при соотношении детонационного наноамазного материала и комплексона более 0,2. В качестве комплексонов можно использовать 2,3-димеркаптопропансульфонат натрия, динатриевую соль этилендиаминтетрауксусной кислоты (трилон), тиокарбамид, роданид калия, дициандиамид, гексаметилентетрамин. Очистку детонационных наноамазов можно также проводить при ультразвуковом воздействии. Наиболее эффективным оказалось совместное применение ультразвуковой обработки и обработки растворами комплексонов, при этом количество металлосодержащих примесей значительно сократилось. Представлено нові варіанти хімічного очищення детонаційних наноалмазів і алмазовмісної детонаційної шихти від водонерозчинних металовмісних домішок обробкою при високій температурі розчинами комплексонів концентрації 0,5–20 % (за масою) при співвідношенні детонаційного наноамазного матеріалу і комплексона більше 0,2. Як комплексони можна використати 2,3-димеркаптопропансульфонат натрію, динатрієву сіль этилендіамінтетраоцтової кислоти (трилон), тіокарбамід, роданід калію, диціандіамід, гексаметилентетрамін. Очистку детонаційних наноамазів можна також проводити при ультразвуковому впливі. Найбільш ефективним виявилося спільне застосування ультразвукової обробки з обробкою розчинами комплексонів, при цьому кількість металовмісних домішок значно скоротилася. The paper presents new alternative procedures of chemical purification of detonation nanodiamonds and diamond-bearing detonation soot to remove water-insoluble metal-containing impurities through a high-temperature treatment using solutions of complexons of concentration 0.5 to 20 wt %, where the ratio between the detonation nanodiamond material and the complexon is above 0.2. The following substances can be used as complexons: sodium 2,3-dimercaptopropanesulfonate, disodium dihydrogen ethylenediaminetetraacetate (Trilon), thiocarbamide, potassium rhodanate, dicyandiamide, hexamethylenetetramine. Purification of detonation nanodiamonds can be also performed by exposing them to an ultrasonic action. A combination of the ultrasonic treatment and treatment with complexon solutions has proved most efficient, significantly reducing the amount of metal-containing impurities.