Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала

Представлены новые варианты химической очистки детонационных наноалмазов и алмазосодержащей детонационной шихты от водонерастворимых металлосодержащих примесей обработкой при высокой температуре растворами комплексонов концентрации 0,5–20 % (по массе) при соотношении детонационного наноамазного мате...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Сверхтвердые материалы
Datum:2013
Hauptverfasser: Долматов, В.Ю., Веханен, А., Мюллюмяки, В., Рудометкин, К.А., Панова, А.Н., Королев, К.М., Шпадковская, Т.А.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2013
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/126077
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала / В.Ю. Долматов, А. Веханен, В. Мюллюмяки, К.А. Рудометкин, А.Н. Панова, К.М. Королев, Т.А. Шпадковская // Сверхтвердые материалы. — 2013. — № 6. — С. 102-112. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-126077
record_format dspace
spelling Долматов, В.Ю.
Веханен, А.
Мюллюмяки, В.
Рудометкин, К.А.
Панова, А.Н.
Королев, К.М.
Шпадковская, Т.А.
2017-11-12T19:07:46Z
2017-11-12T19:07:46Z
2013
Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала / В.Ю. Долматов, А. Веханен, В. Мюллюмяки, К.А. Рудометкин, А.Н. Панова, К.М. Королев, Т.А. Шпадковская // Сверхтвердые материалы. — 2013. — № 6. — С. 102-112. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.
0203-3119
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/126077
666.233
Представлены новые варианты химической очистки детонационных наноалмазов и алмазосодержащей детонационной шихты от водонерастворимых металлосодержащих примесей обработкой при высокой температуре растворами комплексонов концентрации 0,5–20 % (по массе) при соотношении детонационного наноамазного материала и комплексона более 0,2. В качестве комплексонов можно использовать 2,3-димеркаптопропансульфонат натрия, динатриевую соль этилендиаминтетрауксусной кислоты (трилон), тиокарбамид, роданид калия, дициандиамид, гексаметилентетрамин. Очистку детонационных наноамазов можно также проводить при ультразвуковом воздействии. Наиболее эффективным оказалось совместное применение ультразвуковой обработки и обработки растворами комплексонов, при этом количество металлосодержащих примесей значительно сократилось.
Представлено нові варіанти хімічного очищення детонаційних наноалмазів і алмазовмісної детонаційної шихти від водонерозчинних металовмісних домішок обробкою при високій температурі розчинами комплексонів концентрації 0,5–20 % (за масою) при співвідношенні детонаційного наноамазного матеріалу і комплексона більше 0,2. Як комплексони можна використати 2,3-димеркаптопропансульфонат натрію, динатрієву сіль этилендіамінтетраоцтової кислоти (трилон), тіокарбамід, роданід калію, диціандіамід, гексаметилентетрамін. Очистку детонаційних наноамазів можна також проводити при ультразвуковому впливі. Найбільш ефективним виявилося спільне застосування ультразвукової обробки з обробкою розчинами комплексонів, при цьому кількість металовмісних домішок значно скоротилася.
The paper presents new alternative procedures of chemical purification of detonation nanodiamonds and diamond-bearing detonation soot to remove water-insoluble metal-containing impurities through a high-temperature treatment using solutions of complexons of concentration 0.5 to 20 wt %, where the ratio between the detonation nanodiamond material and the complexon is above 0.2. The following substances can be used as complexons: sodium 2,3-dimercaptopropanesulfonate, disodium dihydrogen ethylenediaminetetraacetate (Trilon), thiocarbamide, potassium rhodanate, dicyandiamide, hexamethylenetetramine. Purification of detonation nanodiamonds can be also performed by exposing them to an ultrasonic action. A combination of the ultrasonic treatment and treatment with complexon solutions has proved most efficient, significantly reducing the amount of metal-containing impurities.
ru
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
Сверхтвердые материалы
Инструмент, порошки, пасты
Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала
Deep cleaning of detonation nanodiamond material
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала
spellingShingle Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала
Долматов, В.Ю.
Веханен, А.
Мюллюмяки, В.
Рудометкин, К.А.
Панова, А.Н.
Королев, К.М.
Шпадковская, Т.А.
Инструмент, порошки, пасты
title_short Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала
title_full Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала
title_fullStr Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала
title_full_unstemmed Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала
title_sort глубокая очистка детонационного наноалмазного материала
author Долматов, В.Ю.
Веханен, А.
Мюллюмяки, В.
Рудометкин, К.А.
Панова, А.Н.
Королев, К.М.
Шпадковская, Т.А.
author_facet Долматов, В.Ю.
Веханен, А.
Мюллюмяки, В.
Рудометкин, К.А.
Панова, А.Н.
Королев, К.М.
Шпадковская, Т.А.
topic Инструмент, порошки, пасты
topic_facet Инструмент, порошки, пасты
publishDate 2013
language Russian
container_title Сверхтвердые материалы
publisher Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
format Article
title_alt Deep cleaning of detonation nanodiamond material
description Представлены новые варианты химической очистки детонационных наноалмазов и алмазосодержащей детонационной шихты от водонерастворимых металлосодержащих примесей обработкой при высокой температуре растворами комплексонов концентрации 0,5–20 % (по массе) при соотношении детонационного наноамазного материала и комплексона более 0,2. В качестве комплексонов можно использовать 2,3-димеркаптопропансульфонат натрия, динатриевую соль этилендиаминтетрауксусной кислоты (трилон), тиокарбамид, роданид калия, дициандиамид, гексаметилентетрамин. Очистку детонационных наноамазов можно также проводить при ультразвуковом воздействии. Наиболее эффективным оказалось совместное применение ультразвуковой обработки и обработки растворами комплексонов, при этом количество металлосодержащих примесей значительно сократилось. Представлено нові варіанти хімічного очищення детонаційних наноалмазів і алмазовмісної детонаційної шихти від водонерозчинних металовмісних домішок обробкою при високій температурі розчинами комплексонів концентрації 0,5–20 % (за масою) при співвідношенні детонаційного наноамазного матеріалу і комплексона більше 0,2. Як комплексони можна використати 2,3-димеркаптопропансульфонат натрію, динатрієву сіль этилендіамінтетраоцтової кислоти (трилон), тіокарбамід, роданід калію, диціандіамід, гексаметилентетрамін. Очистку детонаційних наноамазів можна також проводити при ультразвуковому впливі. Найбільш ефективним виявилося спільне застосування ультразвукової обробки з обробкою розчинами комплексонів, при цьому кількість металовмісних домішок значно скоротилася. The paper presents new alternative procedures of chemical purification of detonation nanodiamonds and diamond-bearing detonation soot to remove water-insoluble metal-containing impurities through a high-temperature treatment using solutions of complexons of concentration 0.5 to 20 wt %, where the ratio between the detonation nanodiamond material and the complexon is above 0.2. The following substances can be used as complexons: sodium 2,3-dimercaptopropanesulfonate, disodium dihydrogen ethylenediaminetetraacetate (Trilon), thiocarbamide, potassium rhodanate, dicyandiamide, hexamethylenetetramine. Purification of detonation nanodiamonds can be also performed by exposing them to an ultrasonic action. A combination of the ultrasonic treatment and treatment with complexon solutions has proved most efficient, significantly reducing the amount of metal-containing impurities.
issn 0203-3119
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/126077
citation_txt Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала / В.Ю. Долматов, А. Веханен, В. Мюллюмяки, К.А. Рудометкин, А.Н. Панова, К.М. Королев, Т.А. Шпадковская // Сверхтвердые материалы. — 2013. — № 6. — С. 102-112. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT dolmatovvû glubokaâočistkadetonacionnogonanoalmaznogomateriala
AT vehanena glubokaâočistkadetonacionnogonanoalmaznogomateriala
AT mûllûmâkiv glubokaâočistkadetonacionnogonanoalmaznogomateriala
AT rudometkinka glubokaâočistkadetonacionnogonanoalmaznogomateriala
AT panovaan glubokaâočistkadetonacionnogonanoalmaznogomateriala
AT korolevkm glubokaâočistkadetonacionnogonanoalmaznogomateriala
AT špadkovskaâta glubokaâočistkadetonacionnogonanoalmaznogomateriala
AT dolmatovvû deepcleaningofdetonationnanodiamondmaterial
AT vehanena deepcleaningofdetonationnanodiamondmaterial
AT mûllûmâkiv deepcleaningofdetonationnanodiamondmaterial
AT rudometkinka deepcleaningofdetonationnanodiamondmaterial
AT panovaan deepcleaningofdetonationnanodiamondmaterial
AT korolevkm deepcleaningofdetonationnanodiamondmaterial
AT špadkovskaâta deepcleaningofdetonationnanodiamondmaterial
first_indexed 2025-12-07T19:03:28Z
last_indexed 2025-12-07T19:03:28Z
_version_ 1850877368180146176