Вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів Джозефсона

Досліджено транспорт зарядів в переходах надпровідник–ізолятор–надпровідник. Використання в якості підкладок надтвердого матеріалу – лейкосапфіру – для створення переходів Джозефсона дозволило вперше отримати взаємозв’язок між технологічними параметрами процесу осадження шарів переходу, структурою б...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Сверхтвердые материалы
Datum:2014
Hauptverfasser: Шатернік, А.В., Шаповалов, А.П., Пріхна, Т.О.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainian
Veröffentlicht: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2014
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/126111
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів Джозефсона / А.В. Шатернік, А.П. Шаповалов, Т.О. Пріхна // Сверхтвердые материалы. — 2014. — № 3. — С. 48-56. — Бібліогр.: 8 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-126111
record_format dspace
spelling Шатернік, А.В.
Шаповалов, А.П.
Пріхна, Т.О.
2017-11-14T15:37:58Z
2017-11-14T15:37:58Z
2014
Вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів Джозефсона / А.В. Шатернік, А.П. Шаповалов, Т.О. Пріхна // Сверхтвердые материалы. — 2014. — № 3. — С. 48-56. — Бібліогр.: 8 назв. — укр.
0203-3119
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/126111
537.312.62
Досліджено транспорт зарядів в переходах надпровідник–ізолятор–надпровідник. Використання в якості підкладок надтвердого матеріалу – лейкосапфіру – для створення переходів Джозефсона дозволило вперше отримати взаємозв’язок між технологічними параметрами процесу осадження шарів переходу, структурою бар’єру та модельними параметрами транспорту зарядів в цих переходах. Розглянуто результати експериментальних досліджень нанорозмірних структур, створених на основі тонких плівок MoRe-надпровідників. Транспорт зарядів в цих гетероструктурах аналізується в межах модифікованої теоретичної моделі багаторазових андріївських відбивань з урахуванням функції розподілу прозоростей бар’єру. Такий підхід дозволяє описати еволюцію форми реальних вольт-амперных характеристик гетероструктур в залежності від технологічних умов їх виготовлення.
Исследован транспорт зарядов в переходах сверхпроводник–изолятор–сверхпроводник. Использование в качестве подложек сверхтвердого материала – лейкосапфира – для создания переходов Джозефсона позволило впервые осветить взаимосвязь между технологическими параметрами процесса осаждения слоев перехода, структурой барьера и модельными параметрами транспорта зарядов в этих переходах. Рассмотрены результаты экспериментальных исследований наноразмерных структур, созданных на основе тонких пленок MoRe-сверхпроводников. Транспорт зарядов в этих гетероструктурах анализируется в рамках модифицированной теоретической модели многократных андреевских отражений с учетом функции распределения прозрачностей в барьере. Такой подход позволяет описать эволюцию формы реальных вольт-амперных характеристик гетероструктур в зависимости от технологических условий их изготовления.
We study charge transport in superconductor–insulator–superconductor junctions. Using of the substrates which are fabricated from a superhard material, for example, from the sapphire gives us a possibility to investigate experimentally the correlations in between the technological parameters of the Josephson junctions fabrication, their barriers crystallographic structure and model parameters of the charge transport in these junctions. Consideration is based on our interpretation of experimental results for the nanosized heterostructures fabricated on the base of MoRe superconducting thin films. Charge transport in these heterostructures is analyzed within the modified theoretical model of the multiple Andreev reflections with taking in account the transparency distribution functions for the barriers. Our approach allows us to describe the evolution of the shape of real heterostructures volt-ampere characteristics in dependence on technological conditions of fabrication.
uk
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
Сверхтвердые материалы
Получение, структура, свойства
Вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів Джозефсона
Effect of the deposition technological parameters on the transparences distribution functions of Josephson junction barriers
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів Джозефсона
spellingShingle Вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів Джозефсона
Шатернік, А.В.
Шаповалов, А.П.
Пріхна, Т.О.
Получение, структура, свойства
title_short Вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів Джозефсона
title_full Вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів Джозефсона
title_fullStr Вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів Джозефсона
title_full_unstemmed Вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів Джозефсона
title_sort вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів джозефсона
author Шатернік, А.В.
Шаповалов, А.П.
Пріхна, Т.О.
author_facet Шатернік, А.В.
Шаповалов, А.П.
Пріхна, Т.О.
topic Получение, структура, свойства
topic_facet Получение, структура, свойства
publishDate 2014
language Ukrainian
container_title Сверхтвердые материалы
publisher Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
format Article
title_alt Effect of the deposition technological parameters on the transparences distribution functions of Josephson junction barriers
description Досліджено транспорт зарядів в переходах надпровідник–ізолятор–надпровідник. Використання в якості підкладок надтвердого матеріалу – лейкосапфіру – для створення переходів Джозефсона дозволило вперше отримати взаємозв’язок між технологічними параметрами процесу осадження шарів переходу, структурою бар’єру та модельними параметрами транспорту зарядів в цих переходах. Розглянуто результати експериментальних досліджень нанорозмірних структур, створених на основі тонких плівок MoRe-надпровідників. Транспорт зарядів в цих гетероструктурах аналізується в межах модифікованої теоретичної моделі багаторазових андріївських відбивань з урахуванням функції розподілу прозоростей бар’єру. Такий підхід дозволяє описати еволюцію форми реальних вольт-амперных характеристик гетероструктур в залежності від технологічних умов їх виготовлення. Исследован транспорт зарядов в переходах сверхпроводник–изолятор–сверхпроводник. Использование в качестве подложек сверхтвердого материала – лейкосапфира – для создания переходов Джозефсона позволило впервые осветить взаимосвязь между технологическими параметрами процесса осаждения слоев перехода, структурой барьера и модельными параметрами транспорта зарядов в этих переходах. Рассмотрены результаты экспериментальных исследований наноразмерных структур, созданных на основе тонких пленок MoRe-сверхпроводников. Транспорт зарядов в этих гетероструктурах анализируется в рамках модифицированной теоретической модели многократных андреевских отражений с учетом функции распределения прозрачностей в барьере. Такой подход позволяет описать эволюцию формы реальных вольт-амперных характеристик гетероструктур в зависимости от технологических условий их изготовления. We study charge transport in superconductor–insulator–superconductor junctions. Using of the substrates which are fabricated from a superhard material, for example, from the sapphire gives us a possibility to investigate experimentally the correlations in between the technological parameters of the Josephson junctions fabrication, their barriers crystallographic structure and model parameters of the charge transport in these junctions. Consideration is based on our interpretation of experimental results for the nanosized heterostructures fabricated on the base of MoRe superconducting thin films. Charge transport in these heterostructures is analyzed within the modified theoretical model of the multiple Andreev reflections with taking in account the transparency distribution functions for the barriers. Our approach allows us to describe the evolution of the shape of real heterostructures volt-ampere characteristics in dependence on technological conditions of fabrication.
issn 0203-3119
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/126111
citation_txt Вплив технологічних параметрів осадження на функції розподілу прозоростей бар’єрів переходів Джозефсона / А.В. Шатернік, А.П. Шаповалов, Т.О. Пріхна // Сверхтвердые материалы. — 2014. — № 3. — С. 48-56. — Бібліогр.: 8 назв. — укр.
work_keys_str_mv AT šaterníkav vplivtehnologíčnihparametrívosadžennânafunkcíírozpodíluprozorosteibarêrívperehodívdžozefsona
AT šapovalovap vplivtehnologíčnihparametrívosadžennânafunkcíírozpodíluprozorosteibarêrívperehodívdžozefsona
AT príhnato vplivtehnologíčnihparametrívosadžennânafunkcíírozpodíluprozorosteibarêrívperehodívdžozefsona
AT šaterníkav effectofthedepositiontechnologicalparametersonthetransparencesdistributionfunctionsofjosephsonjunctionbarriers
AT šapovalovap effectofthedepositiontechnologicalparametersonthetransparencesdistributionfunctionsofjosephsonjunctionbarriers
AT príhnato effectofthedepositiontechnologicalparametersonthetransparencesdistributionfunctionsofjosephsonjunctionbarriers
first_indexed 2025-12-07T20:00:28Z
last_indexed 2025-12-07T20:00:28Z
_version_ 1850880953644220416