Модифікування поверхні активованого вугілля методом газо-фазного хлорування тетрахлоридом вуглецю

• Опубліковано в: : Сверхтвердые материалы
• Дата: 2015
• Автори: Веселовська, К.І., Веселовський, В.Л., Діюк, В.Є., Гайдай, С.В., Іщенко, О.В.
• Формат: Стаття
• Мова: Українська
• Опубліковано: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2015
• Теми: Получение, структура, свойства
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/126171
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Модифікування поверхні активованого вугілля методом газо-фазного хлорування тетрахлоридом вуглецю / К.І. Веселовська, В.Л. Веселовський, В.Є. Діюк, С.В. Гайдай, О.В. Іщенко // Сверхтвердые материалы. — 2015. — № 3. — С. 61-66. — Бібліогр.: 10 назв. — укр.

Досліджено модифікування поверхні активованого вугілля марки СКН методом газофазного хлорування парою CCl₄. Вивчено вплив температури проведення реакції на кількість прищепленого хлору в температурному інтервалі 200–500 °С, а також термічну стійкість приєднаного хлору. Показано, що хлорування парою CCl₄ в газовій фазі веде до прищеплення в поверхневий шар вугілля до 19,5 % (за масою) (5,5 ммоль/г) хлору. Встановлено, що амінування хлор­вмісних зразків СКН приводить до заміщення поверхневого галогену азото­вмісними групами у кількостях до 1,14 ммоль/г. Исследовано модифицирование поверхности активированного угля марки СКН методом газофазного хлорирования парами CCl₄. Изучено влияние температуры проведения реакции на количество привитого хлора в температурном интервале 200–500 °С, а также термическую устойчивость присоединенного хлора. Показано, что хлорирование парами CCl₄ в газовой фазе ведет к присоединению в поверхностный слой угля до 19,5 % (по массе) (5,5 ммоль/г) хлора. Установлено, что аминирование хлорсодержащих образцов СКН приводит к замещению поверхностного галогена азотсодержащими группами в количествах до 1,14 ммоль/г. The surface modification of activated carbons SCN by gas-phase chlorination with CCl₄ vapor was investigated. The influence of the reaction temperature on the grafted amount of chlorine in the temperature range 200–500ºC and thermal stability of the chlorine were studied. It was shown that chlorination with CCl₄ vapor in gaseous phase leads to grafting of 19.5 wt.% (5.5 mmol/g) chlorine into the surface layer. It was found that amination of chlorinated samples SCN leads to substitution of the surface-halogen to nitrogen groups up to 1.14 mmol/g.