Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации

В кристалле KI–Tl по регистрации спектров рентгенолюминесценции установлено воздействие низкотемпературной одноосной деформации на длину свободного пробега экситона до автолокализации. Анализ соотношения интенсивностей свечения таллиевого (2,85 эВ) и автолокализованного экситонов (π-компонент; 3,3...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Физика низких температур
Datum:2016
Hauptverfasser: Шункеев, К.Ш., Жантурина, Н.Н., Аймаганбетова, З.К., Бармина, A.A., Мясникова, Л.Н., Сагимбаева, Ш.Ж., Сергеев, Д.М.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України 2016
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129197
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации / К.Ш. Шункеев, Н.Н. Жантурина, З.К. Аймаганбетова, А.А. Бармина, Л.Н. Мясникова, Ш.Ж. Сагимбаева, Д.М. Сергеев // Физика низких температур. — 2016. — Т. 42, № 7. — С. 738-742. — Бібліогр.: 34 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-129197
record_format dspace
spelling Шункеев, К.Ш.
Жантурина, Н.Н.
Аймаганбетова, З.К.
Бармина, A.A.
Мясникова, Л.Н.
Сагимбаева, Ш.Ж.
Сергеев, Д.М.
2018-01-16T18:05:24Z
2018-01-16T18:05:24Z
2016
Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации / К.Ш. Шункеев, Н.Н. Жантурина, З.К. Аймаганбетова, А.А. Бармина, Л.Н. Мясникова, Ш.Ж. Сагимбаева, Д.М. Сергеев // Физика низких температур. — 2016. — Т. 42, № 7. — С. 738-742. — Бібліогр.: 34 назв. — рос.
0132-6414
PACS: 62.40.+i, PACS: 71.35.–y, 78.55.Fv
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129197
В кристалле KI–Tl по регистрации спектров рентгенолюминесценции установлено воздействие низкотемпературной одноосной деформации на длину свободного пробега экситона до автолокализации. Анализ соотношения интенсивностей свечения таллиевого (2,85 эВ) и автолокализованного экситонов (π-компонент; 3,3 эВ) в зависимости от степени низкотемпературной деформации показывает, что в кристалле KI–Tl (3·10–3 моль%) длина свободного пробега экситона до автолокализации соизмерима с межталлиевым расстоянием (20–27)a при деформации ε = 2%, а c ростом степени сжатия ε ≥ 2–5% уменьшается до (27–5,35)a. Результаты моделирования на основе континуального приближения показывают, что с ростом температуры и степени низкотемпературной деформации происходит уменьшение высоты потенциального барьера для автолокализации экситона, что согласуется с сокращением длины пробега свободного экситона в кристалле KI–Tl.
У кристалі KI–Tl по реєстрації спектрів рентгенолюмінесценції встановлено дію низькотемпературної одновісної деформації на довжину вільного пробігу екситона до автолокалізації. Аналіз співвідношення інтенсивностей світіння талієвого (2,85 еВ) та автолокалізованого екситонів (π-компонент; 3,3 еВ) залежно від міри изькотемпературної деформації показує, що в кристалі KI–Tl (3·10–3 моль%) довжина вільного пробігу екситона до автолокалізації є сумірною з міжталієвою відстанню (20–27)a при деформації ε = 2%, а із зростанням міри стискування ε ≥ 2–5% зменшується до (27–5,35)a. Результати моделювання на основі континуального наближення показують, що із зростанням температури та міри низькотемпературної деформації відбувається зменшення висоти потенційного бар'єру для автолокалізації екситона, що узгоджується із скороченням довжини пробігу вільного екситона у кристалі KI–Tl.
The effect of low-temperature uniaxial deformation on the self-trapping-limited mean free path of excitons in a KI–Tl crystal was revealed from x-ray luminescence spectra. The analysis of the dependence of the intensity ratio of the Tl-center emission (2.85 eV) and the luminescence of self-trapped excitons (π-component; 3.3 eV) on the extent of low-temperature deformation showed that in the KI–Tl crystal (3 × 10 −³ mol. %) the self-trapping-limited mean free path of excitons is comparable with the distance between Tl atoms (20–27) a under a deformation ε = 2%. As the compression increases to ε ≥ 2%–5%, the mean free path drops to (27-5.35) a. The results of modeling based on the continuum approximation showed that with increasing temperature and the degree of low-temperature deformation the height of the potential barrier for the exciton self-trapping drops, which is consistent with the reduction of the mean free path of excitons in the KI–Tl crystal.
Благодарим сотрудников Института физики Тартуского университета за предоставленные образцы кристаллов KI–Tl. Работа выполнена при поддержке грантов МОН РК №4903/ГФ4, 4904/ГФ4.
ru
Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України
Физика низких температур
Low-Temperature Radiation Effects in Wide Gap Materials
Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации
The specifics of radiative annihilation of self-trapped excitons in a KI–Tl crystal under low-temperature deformation
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации
spellingShingle Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации
Шункеев, К.Ш.
Жантурина, Н.Н.
Аймаганбетова, З.К.
Бармина, A.A.
Мясникова, Л.Н.
Сагимбаева, Ш.Ж.
Сергеев, Д.М.
Low-Temperature Radiation Effects in Wide Gap Materials
title_short Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации
title_full Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации
title_fullStr Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации
title_full_unstemmed Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации
title_sort специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле ki–tl при низкотемпературной деформации
author Шункеев, К.Ш.
Жантурина, Н.Н.
Аймаганбетова, З.К.
Бармина, A.A.
Мясникова, Л.Н.
Сагимбаева, Ш.Ж.
Сергеев, Д.М.
author_facet Шункеев, К.Ш.
Жантурина, Н.Н.
Аймаганбетова, З.К.
Бармина, A.A.
Мясникова, Л.Н.
Сагимбаева, Ш.Ж.
Сергеев, Д.М.
topic Low-Temperature Radiation Effects in Wide Gap Materials
topic_facet Low-Temperature Radiation Effects in Wide Gap Materials
publishDate 2016
language Russian
container_title Физика низких температур
publisher Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України
format Article
title_alt The specifics of radiative annihilation of self-trapped excitons in a KI–Tl crystal under low-temperature deformation
description В кристалле KI–Tl по регистрации спектров рентгенолюминесценции установлено воздействие низкотемпературной одноосной деформации на длину свободного пробега экситона до автолокализации. Анализ соотношения интенсивностей свечения таллиевого (2,85 эВ) и автолокализованного экситонов (π-компонент; 3,3 эВ) в зависимости от степени низкотемпературной деформации показывает, что в кристалле KI–Tl (3·10–3 моль%) длина свободного пробега экситона до автолокализации соизмерима с межталлиевым расстоянием (20–27)a при деформации ε = 2%, а c ростом степени сжатия ε ≥ 2–5% уменьшается до (27–5,35)a. Результаты моделирования на основе континуального приближения показывают, что с ростом температуры и степени низкотемпературной деформации происходит уменьшение высоты потенциального барьера для автолокализации экситона, что согласуется с сокращением длины пробега свободного экситона в кристалле KI–Tl. У кристалі KI–Tl по реєстрації спектрів рентгенолюмінесценції встановлено дію низькотемпературної одновісної деформації на довжину вільного пробігу екситона до автолокалізації. Аналіз співвідношення інтенсивностей світіння талієвого (2,85 еВ) та автолокалізованого екситонів (π-компонент; 3,3 еВ) залежно від міри изькотемпературної деформації показує, що в кристалі KI–Tl (3·10–3 моль%) довжина вільного пробігу екситона до автолокалізації є сумірною з міжталієвою відстанню (20–27)a при деформації ε = 2%, а із зростанням міри стискування ε ≥ 2–5% зменшується до (27–5,35)a. Результати моделювання на основі континуального наближення показують, що із зростанням температури та міри низькотемпературної деформації відбувається зменшення висоти потенційного бар'єру для автолокалізації екситона, що узгоджується із скороченням довжини пробігу вільного екситона у кристалі KI–Tl. The effect of low-temperature uniaxial deformation on the self-trapping-limited mean free path of excitons in a KI–Tl crystal was revealed from x-ray luminescence spectra. The analysis of the dependence of the intensity ratio of the Tl-center emission (2.85 eV) and the luminescence of self-trapped excitons (π-component; 3.3 eV) on the extent of low-temperature deformation showed that in the KI–Tl crystal (3 × 10 −³ mol. %) the self-trapping-limited mean free path of excitons is comparable with the distance between Tl atoms (20–27) a under a deformation ε = 2%. As the compression increases to ε ≥ 2%–5%, the mean free path drops to (27-5.35) a. The results of modeling based on the continuum approximation showed that with increasing temperature and the degree of low-temperature deformation the height of the potential barrier for the exciton self-trapping drops, which is consistent with the reduction of the mean free path of excitons in the KI–Tl crystal.
issn 0132-6414
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129197
citation_txt Специфика излучательной аннигиляции автолокализованных экситонов в кристалле KI–Tl при низкотемпературной деформации / К.Ш. Шункеев, Н.Н. Жантурина, З.К. Аймаганбетова, А.А. Бармина, Л.Н. Мясникова, Ш.Ж. Сагимбаева, Д.М. Сергеев // Физика низких температур. — 2016. — Т. 42, № 7. — С. 738-742. — Бібліогр.: 34 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT šunkeevkš specifikaizlučatelʹnoiannigilâciiavtolokalizovannyhéksitonovvkristallekitlprinizkotemperaturnoideformacii
AT žanturinann specifikaizlučatelʹnoiannigilâciiavtolokalizovannyhéksitonovvkristallekitlprinizkotemperaturnoideformacii
AT aimaganbetovazk specifikaizlučatelʹnoiannigilâciiavtolokalizovannyhéksitonovvkristallekitlprinizkotemperaturnoideformacii
AT barminaaa specifikaizlučatelʹnoiannigilâciiavtolokalizovannyhéksitonovvkristallekitlprinizkotemperaturnoideformacii
AT mâsnikovaln specifikaizlučatelʹnoiannigilâciiavtolokalizovannyhéksitonovvkristallekitlprinizkotemperaturnoideformacii
AT sagimbaevašž specifikaizlučatelʹnoiannigilâciiavtolokalizovannyhéksitonovvkristallekitlprinizkotemperaturnoideformacii
AT sergeevdm specifikaizlučatelʹnoiannigilâciiavtolokalizovannyhéksitonovvkristallekitlprinizkotemperaturnoideformacii
AT šunkeevkš thespecificsofradiativeannihilationofselftrappedexcitonsinakitlcrystalunderlowtemperaturedeformation
AT žanturinann thespecificsofradiativeannihilationofselftrappedexcitonsinakitlcrystalunderlowtemperaturedeformation
AT aimaganbetovazk thespecificsofradiativeannihilationofselftrappedexcitonsinakitlcrystalunderlowtemperaturedeformation
AT barminaaa thespecificsofradiativeannihilationofselftrappedexcitonsinakitlcrystalunderlowtemperaturedeformation
AT mâsnikovaln thespecificsofradiativeannihilationofselftrappedexcitonsinakitlcrystalunderlowtemperaturedeformation
AT sagimbaevašž thespecificsofradiativeannihilationofselftrappedexcitonsinakitlcrystalunderlowtemperaturedeformation
AT sergeevdm thespecificsofradiativeannihilationofselftrappedexcitonsinakitlcrystalunderlowtemperaturedeformation
first_indexed 2025-12-07T20:08:47Z
last_indexed 2025-12-07T20:08:47Z
_version_ 1850881477698387968