Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу
Виконано інноваційний проект з розробки технологічного методу виготовлення сенсорних чипів з підвищеною
 чутливістю для біосенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу (ППР), які працюють в схемі Кречмана.
 Підвищення чутливості такого сенсора досягається за рахунок формуван...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Наука та інновації |
|---|---|
| Дата: | 2017 |
| Автори: | , , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Українська |
| Опубліковано: |
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
2017
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129867 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу / В.А. Данько, І.З. Індутний, Ю.В. Ушенін, П.М. Литвин, В.І. Минько, П.Є. Шепелявий, М.В. Луканюк, А.А. Корчовий, Р.В. Христосенко // Наука та інновації. — 2017. — Т. 13, № 6. — С. 25-35. — Бібліогр.: 19 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862665882977697792 |
|---|---|
| author | Данько, В.А. Індутний, І.З. Ушенін, Ю.В. Литвин, П.М. Минько, В.І. Шепелявий, П.Є. Луканюк, М.В. Корчовий, А.А. Христосенко, Р.В. |
| author_facet | Данько, В.А. Індутний, І.З. Ушенін, Ю.В. Литвин, П.М. Минько, В.І. Шепелявий, П.Є. Луканюк, М.В. Корчовий, А.А. Христосенко, Р.В. |
| citation_txt | Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу / В.А. Данько, І.З. Індутний, Ю.В. Ушенін, П.М. Литвин, В.І. Минько, П.Є. Шепелявий, М.В. Луканюк, А.А. Корчовий, Р.В. Христосенко // Наука та інновації. — 2017. — Т. 13, № 6. — С. 25-35. — Бібліогр.: 19 назв. — укр. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Наука та інновації |
| description | Виконано інноваційний проект з розробки технологічного методу виготовлення сенсорних чипів з підвищеною
чутливістю для біосенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу (ППР), які працюють в схемі Кречмана.
Підвищення чутливості такого сенсора досягається за рахунок формування високочастотної періодичної ґратки на
поверхні сенсорного чипа за допомогою інтерференційної фотолітографії. Оптимізовано технологічні процеси, виготовлено та випробувано дослідний зразок модернізованого ППР рефрактометра та експериментальну партію
наноструктурованих сенсорних чипів з просторовими частотами до 3400 лін/мм. Досягнуто збільшення чутливості
ППР рефрактометра у 4,7 рази за рахунок застосування наноструктурованих чипів.
Выполнен инновационный проект по разработке технологического метода изготовления сенсорных чипов с
повышенной чувствительностью для биосенсоров на
основе поверхностного плазмонного резонанса (ППР),
работающих в схеме Кречмана. Повышение чувствительности такого сенсора достигается путем формирования высокочастотной периодической решетки на
поверхности сенсорного чипа с помощью интерференционной фотолитографии. Оптимизировано технологические процессы, изготовлен и испытан экспериментальный образец модернизированного ППР рефрактометра,
а также экспериментальная партия наноструктурированных сенсорных чипов с пространственными частотами
до 3400 лин/мм. Достигнуто увеличение чувствительности ППР рефрактометра в 4,7 раза за счет использования наноструктурированных чипов.
An innovative project on the development of a method
for manufacturing sensor chips with increased sensitivity for
biosensors based on surface plasmon resonance (SPR) operating
in the Kretschmann scheme has been completed. An
increase in sensitivity of such sensor has been achieved by
high-frequency periodic grate on the sensor chip surface
formed by interference photolithography. All technology
processes have been optimized. A pilot sample of modernized
SPR refractometer as well as a pilot batch of nanostructured
sensor chips with spatial frequencies up to 3400 mm—1 have
been manufactured and tested. The use of nanostructured
chips resulted in a 4.7-time increase in the SPR refractometer sensitivity.
|
| first_indexed | 2025-12-07T15:18:19Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-129867 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1815-2066 |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2025-12-07T15:18:19Z |
| publishDate | 2017 |
| publisher | Видавничий дім "Академперіодика" НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Данько, В.А. Індутний, І.З. Ушенін, Ю.В. Литвин, П.М. Минько, В.І. Шепелявий, П.Є. Луканюк, М.В. Корчовий, А.А. Христосенко, Р.В. 2018-01-31T16:33:25Z 2018-01-31T16:33:25Z 2017 Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу / В.А. Данько, І.З. Індутний, Ю.В. Ушенін, П.М. Литвин, В.І. Минько, П.Є. Шепелявий, М.В. Луканюк, А.А. Корчовий, Р.В. Христосенко // Наука та інновації. — 2017. — Т. 13, № 6. — С. 25-35. — Бібліогр.: 19 назв. — укр. 1815-2066 DOI: doi.org/10.15407/scin13.06.025 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129867 Виконано інноваційний проект з розробки технологічного методу виготовлення сенсорних чипів з підвищеною
 чутливістю для біосенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу (ППР), які працюють в схемі Кречмана.
 Підвищення чутливості такого сенсора досягається за рахунок формування високочастотної періодичної ґратки на
 поверхні сенсорного чипа за допомогою інтерференційної фотолітографії. Оптимізовано технологічні процеси, виготовлено та випробувано дослідний зразок модернізованого ППР рефрактометра та експериментальну партію
 наноструктурованих сенсорних чипів з просторовими частотами до 3400 лін/мм. Досягнуто збільшення чутливості
 ППР рефрактометра у 4,7 рази за рахунок застосування наноструктурованих чипів. Выполнен инновационный проект по разработке технологического метода изготовления сенсорных чипов с
 повышенной чувствительностью для биосенсоров на
 основе поверхностного плазмонного резонанса (ППР),
 работающих в схеме Кречмана. Повышение чувствительности такого сенсора достигается путем формирования высокочастотной периодической решетки на
 поверхности сенсорного чипа с помощью интерференционной фотолитографии. Оптимизировано технологические процессы, изготовлен и испытан экспериментальный образец модернизированного ППР рефрактометра,
 а также экспериментальная партия наноструктурированных сенсорных чипов с пространственными частотами
 до 3400 лин/мм. Достигнуто увеличение чувствительности ППР рефрактометра в 4,7 раза за счет использования наноструктурированных чипов. An innovative project on the development of a method
 for manufacturing sensor chips with increased sensitivity for
 biosensors based on surface plasmon resonance (SPR) operating
 in the Kretschmann scheme has been completed. An
 increase in sensitivity of such sensor has been achieved by
 high-frequency periodic grate on the sensor chip surface
 formed by interference photolithography. All technology
 processes have been optimized. A pilot sample of modernized
 SPR refractometer as well as a pilot batch of nanostructured
 sensor chips with spatial frequencies up to 3400 mm—1 have
 been manufactured and tested. The use of nanostructured
 chips resulted in a 4.7-time increase in the SPR refractometer sensitivity. uk Видавничий дім "Академперіодика" НАН України Наука та інновації Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу Разработка технологии производства сенсорных чипов с повышенной чувствительностью и улучшенными физико-механическими характеристиками для оптических сенсоров на основе поверхностного плазмонного резонанса Development of Technology for Sensor Chip Production with Increased Sensitivity and Improved Physical and Mechanical Characteristics for Optical Sensors Based on Surface Plasmon Resonance Article published earlier |
| spellingShingle | Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу Данько, В.А. Індутний, І.З. Ушенін, Ю.В. Литвин, П.М. Минько, В.І. Шепелявий, П.Є. Луканюк, М.В. Корчовий, А.А. Христосенко, Р.В. Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України |
| title | Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу |
| title_alt | Разработка технологии производства сенсорных чипов с повышенной чувствительностью и улучшенными физико-механическими характеристиками для оптических сенсоров на основе поверхностного плазмонного резонанса Development of Technology for Sensor Chip Production with Increased Sensitivity and Improved Physical and Mechanical Characteristics for Optical Sensors Based on Surface Plasmon Resonance |
| title_full | Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу |
| title_fullStr | Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу |
| title_full_unstemmed | Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу |
| title_short | Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу |
| title_sort | розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу |
| topic | Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України |
| topic_facet | Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129867 |
| work_keys_str_mv | AT danʹkova rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu AT índutniiíz rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu AT ušenínûv rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu AT litvinpm rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu AT minʹkoví rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu AT šepelâviipê rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu AT lukanûkmv rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu AT korčoviiaa rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu AT hristosenkorv rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu AT danʹkova razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa AT índutniiíz razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa AT ušenínûv razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa AT litvinpm razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa AT minʹkoví razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa AT šepelâviipê razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa AT lukanûkmv razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa AT korčoviiaa razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa AT hristosenkorv razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa AT danʹkova developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance AT índutniiíz developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance AT ušenínûv developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance AT litvinpm developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance AT minʹkoví developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance AT šepelâviipê developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance AT lukanûkmv developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance AT korčoviiaa developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance AT hristosenkorv developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance |