Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу

Виконано інноваційний проект з розробки технологічного методу виготовлення сенсорних чипів з підвищеною
 чутливістю для біосенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу (ППР), які працюють в схемі Кречмана.
 Підвищення чутливості такого сенсора досягається за рахунок формуван...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Наука та інновації
Date:2017
Main Authors: Данько, В.А., Індутний, І.З., Ушенін, Ю.В., Литвин, П.М., Минько, В.І., Шепелявий, П.Є., Луканюк, М.В., Корчовий, А.А., Христосенко, Р.В.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: Видавничий дім "Академперіодика" НАН України 2017
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129867
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу / В.А. Данько, І.З. Індутний, Ю.В. Ушенін, П.М. Литвин, В.І. Минько, П.Є. Шепелявий, М.В. Луканюк, А.А. Корчовий, Р.В. Христосенко // Наука та інновації. — 2017. — Т. 13, № 6. — С. 25-35. — Бібліогр.: 19 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862665882977697792
author Данько, В.А.
Індутний, І.З.
Ушенін, Ю.В.
Литвин, П.М.
Минько, В.І.
Шепелявий, П.Є.
Луканюк, М.В.
Корчовий, А.А.
Христосенко, Р.В.
author_facet Данько, В.А.
Індутний, І.З.
Ушенін, Ю.В.
Литвин, П.М.
Минько, В.І.
Шепелявий, П.Є.
Луканюк, М.В.
Корчовий, А.А.
Христосенко, Р.В.
citation_txt Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу / В.А. Данько, І.З. Індутний, Ю.В. Ушенін, П.М. Литвин, В.І. Минько, П.Є. Шепелявий, М.В. Луканюк, А.А. Корчовий, Р.В. Христосенко // Наука та інновації. — 2017. — Т. 13, № 6. — С. 25-35. — Бібліогр.: 19 назв. — укр.
collection DSpace DC
container_title Наука та інновації
description Виконано інноваційний проект з розробки технологічного методу виготовлення сенсорних чипів з підвищеною
 чутливістю для біосенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу (ППР), які працюють в схемі Кречмана.
 Підвищення чутливості такого сенсора досягається за рахунок формування високочастотної періодичної ґратки на
 поверхні сенсорного чипа за допомогою інтерференційної фотолітографії. Оптимізовано технологічні процеси, виготовлено та випробувано дослідний зразок модернізованого ППР рефрактометра та експериментальну партію
 наноструктурованих сенсорних чипів з просторовими частотами до 3400 лін/мм. Досягнуто збільшення чутливості
 ППР рефрактометра у 4,7 рази за рахунок застосування наноструктурованих чипів. Выполнен инновационный проект по разработке технологического метода изготовления сенсорных чипов с
 повышенной чувствительностью для биосенсоров на
 основе поверхностного плазмонного резонанса (ППР),
 работающих в схеме Кречмана. Повышение чувствительности такого сенсора достигается путем формирования высокочастотной периодической решетки на
 поверхности сенсорного чипа с помощью интерференционной фотолитографии. Оптимизировано технологические процессы, изготовлен и испытан экспериментальный образец модернизированного ППР рефрактометра,
 а также экспериментальная партия наноструктурированных сенсорных чипов с пространственными частотами
 до 3400 лин/мм. Достигнуто увеличение чувствительности ППР рефрактометра в 4,7 раза за счет использования наноструктурированных чипов. An innovative project on the development of a method
 for manufacturing sensor chips with increased sensitivity for
 biosensors based on surface plasmon resonance (SPR) operating
 in the Kretschmann scheme has been completed. An
 increase in sensitivity of such sensor has been achieved by
 high-frequency periodic grate on the sensor chip surface
 formed by interference photolithography. All technology
 processes have been optimized. A pilot sample of modernized
 SPR refractometer as well as a pilot batch of nanostructured
 sensor chips with spatial frequencies up to 3400 mm—1 have
 been manufactured and tested. The use of nanostructured
 chips resulted in a 4.7-time increase in the SPR refractometer sensitivity.
first_indexed 2025-12-07T15:18:19Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-129867
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1815-2066
language Ukrainian
last_indexed 2025-12-07T15:18:19Z
publishDate 2017
publisher Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
record_format dspace
spelling Данько, В.А.
Індутний, І.З.
Ушенін, Ю.В.
Литвин, П.М.
Минько, В.І.
Шепелявий, П.Є.
Луканюк, М.В.
Корчовий, А.А.
Христосенко, Р.В.
2018-01-31T16:33:25Z
2018-01-31T16:33:25Z
2017
Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу / В.А. Данько, І.З. Індутний, Ю.В. Ушенін, П.М. Литвин, В.І. Минько, П.Є. Шепелявий, М.В. Луканюк, А.А. Корчовий, Р.В. Христосенко // Наука та інновації. — 2017. — Т. 13, № 6. — С. 25-35. — Бібліогр.: 19 назв. — укр.
1815-2066
DOI: doi.org/10.15407/scin13.06.025
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129867
Виконано інноваційний проект з розробки технологічного методу виготовлення сенсорних чипів з підвищеною
 чутливістю для біосенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу (ППР), які працюють в схемі Кречмана.
 Підвищення чутливості такого сенсора досягається за рахунок формування високочастотної періодичної ґратки на
 поверхні сенсорного чипа за допомогою інтерференційної фотолітографії. Оптимізовано технологічні процеси, виготовлено та випробувано дослідний зразок модернізованого ППР рефрактометра та експериментальну партію
 наноструктурованих сенсорних чипів з просторовими частотами до 3400 лін/мм. Досягнуто збільшення чутливості
 ППР рефрактометра у 4,7 рази за рахунок застосування наноструктурованих чипів.
Выполнен инновационный проект по разработке технологического метода изготовления сенсорных чипов с
 повышенной чувствительностью для биосенсоров на
 основе поверхностного плазмонного резонанса (ППР),
 работающих в схеме Кречмана. Повышение чувствительности такого сенсора достигается путем формирования высокочастотной периодической решетки на
 поверхности сенсорного чипа с помощью интерференционной фотолитографии. Оптимизировано технологические процессы, изготовлен и испытан экспериментальный образец модернизированного ППР рефрактометра,
 а также экспериментальная партия наноструктурированных сенсорных чипов с пространственными частотами
 до 3400 лин/мм. Достигнуто увеличение чувствительности ППР рефрактометра в 4,7 раза за счет использования наноструктурированных чипов.
An innovative project on the development of a method
 for manufacturing sensor chips with increased sensitivity for
 biosensors based on surface plasmon resonance (SPR) operating
 in the Kretschmann scheme has been completed. An
 increase in sensitivity of such sensor has been achieved by
 high-frequency periodic grate on the sensor chip surface
 formed by interference photolithography. All technology
 processes have been optimized. A pilot sample of modernized
 SPR refractometer as well as a pilot batch of nanostructured
 sensor chips with spatial frequencies up to 3400 mm—1 have
 been manufactured and tested. The use of nanostructured
 chips resulted in a 4.7-time increase in the SPR refractometer sensitivity.
uk
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
Наука та інновації
Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу
Разработка технологии производства сенсорных чипов с повышенной чувствительностью и улучшенными физико-механическими характеристиками для оптических сенсоров на основе поверхностного плазмонного резонанса
Development of Technology for Sensor Chip Production with Increased Sensitivity and Improved Physical and Mechanical Characteristics for Optical Sensors Based on Surface Plasmon Resonance
Article
published earlier
spellingShingle Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу
Данько, В.А.
Індутний, І.З.
Ушенін, Ю.В.
Литвин, П.М.
Минько, В.І.
Шепелявий, П.Є.
Луканюк, М.В.
Корчовий, А.А.
Христосенко, Р.В.
Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
title Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу
title_alt Разработка технологии производства сенсорных чипов с повышенной чувствительностью и улучшенными физико-механическими характеристиками для оптических сенсоров на основе поверхностного плазмонного резонанса
Development of Technology for Sensor Chip Production with Increased Sensitivity and Improved Physical and Mechanical Characteristics for Optical Sensors Based on Surface Plasmon Resonance
title_full Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу
title_fullStr Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу
title_full_unstemmed Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу
title_short Розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу
title_sort розробка технології виготовлення сенсорних чипів з підвищеною чутливістю та покращеними фізико-механічними характеристиками для оптичних сенсорів на основі поверхневого плазмонного резонансу
topic Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
topic_facet Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129867
work_keys_str_mv AT danʹkova rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu
AT índutniiíz rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu
AT ušenínûv rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu
AT litvinpm rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu
AT minʹkoví rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu
AT šepelâviipê rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu
AT lukanûkmv rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu
AT korčoviiaa rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu
AT hristosenkorv rozrobkatehnologíívigotovlennâsensornihčipívzpídviŝenoûčutlivístûtapokraŝenimifízikomehaníčnimiharakteristikamidlâoptičnihsensorívnaosnovípoverhnevogoplazmonnogorezonansu
AT danʹkova razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa
AT índutniiíz razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa
AT ušenínûv razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa
AT litvinpm razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa
AT minʹkoví razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa
AT šepelâviipê razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa
AT lukanûkmv razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa
AT korčoviiaa razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa
AT hristosenkorv razrabotkatehnologiiproizvodstvasensornyhčipovspovyšennoičuvstvitelʹnostʹûiulučšennymifizikomehaničeskimiharakteristikamidlâoptičeskihsensorovnaosnovepoverhnostnogoplazmonnogorezonansa
AT danʹkova developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance
AT índutniiíz developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance
AT ušenínûv developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance
AT litvinpm developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance
AT minʹkoví developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance
AT šepelâviipê developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance
AT lukanûkmv developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance
AT korčoviiaa developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance
AT hristosenkorv developmentoftechnologyforsensorchipproductionwithincreasedsensitivityandimprovedphysicalandmechanicalcharacteristicsforopticalsensorsbasedonsurfaceplasmonresonance