Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы
При разработке магнетронной распылительной системы для осаждения двухкомпонентной плёнки заданного состава с одного источника, где один из компонентов — магнитный материал, необходимо решить ряд задач: разработать конструкцию магнетрона, которая позволит решить проблему шунтирования магнитного поля...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології |
|---|---|
| Дата: | 2016 |
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
2016
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129956 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы / О.М. Бевза, С.Б. Сидоренко, А.В. Мумладзе // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2016. — Т. 14, № 4. — С. 577-589. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-129956 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Бевза, О.М. Сидоренко, С.Б. Мумладзе, А.В. 2018-02-02T19:44:06Z 2018-02-02T19:44:06Z 2016 Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы / О.М. Бевза, С.Б. Сидоренко, А.В. Мумладзе // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2016. — Т. 14, № 4. — С. 577-589. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. 1816-5230 PACS: 34.50.-s, 41.20.Gz, 52.25.Tx, 52.77.Dq, 81.15.Cd, 84.40.Fe, 85.70.Ay https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129956 При разработке магнетронной распылительной системы для осаждения двухкомпонентной плёнки заданного состава с одного источника, где один из компонентов — магнитный материал, необходимо решить ряд задач: разработать конструкцию магнетрона, которая позволит решить проблему шунтирования магнитного поля материалом мишени; обеспечить необходимое соотношение материалов в осаждаемой плёнке. В работе проанализированы способы решения проблемы шунтирования магнитного поля материалом мишени. Разработана конструкция магнетронной распылительной системы, которая позволяет распылять одновременно магнитный и немагнитный материалы. Разработан простой метод определения соотношения материалов в осаждаемой плёнке при осаждении их с одной магнетронной распылительной системы. Представлены результаты моделирования и экспериментального исследования разработанной магнетронной распылительной системы При розробці магнетронної розпорошувальної системи для осадження двокомпонентної плівки заданого складу з одного джерела, де один з компонентів — магнетний матеріял, необхідно вирішити ряд завдань: розробити конструкцію магнетрона, яка уможливить розв’язати проблему шунтування магнетного поля матеріялом мішені; забезпечити необхідне співвідношення матеріялів у плівці, що осаджується. В роботі проаналізовано способи розв’язання проблеми шунтування магнетного поля матеріялом мішені. Розроблено конструкцію магнетронної розпорошувальної системи, яка уможливлює розпорошувати одночасно магнетний і немагнетний матеріяли. Розроблено просту методу визначення співвідношення матеріялів у плівці, що осаджується, при їх осадженні з однієї магнетронної розпорошувальної системи. Представлено результати моделювання й експериментального дослідження розробленої магнетронної розпорошувальної системи. To create a two-component magnetron sputtering system, where one component of it is a magnetic material, it is necessary to solve the following tasks: to develop the design of the magnetron sputtering system with shunted magnetic field lines by the target material; to provide the necessary ratio of materials in the deposited film. This paper analyses the ways to solve a problem of shunting the magnetic field lines by the target material. A design of the magnetron sputtering system, which allows sputtering the magnetic and nonmagnetic materials, is developed. A simple determination method for the ratio of materials in the deposited film is suggested. The simulation results and experimental research of developed magnetron sputtering system are presented. ru Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы Deposition of the Two-Component Composition Containing a Magnetic Material by Magnetron Sputtering System Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы |
| spellingShingle |
Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы Бевза, О.М. Сидоренко, С.Б. Мумладзе, А.В. |
| title_short |
Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы |
| title_full |
Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы |
| title_fullStr |
Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы |
| title_full_unstemmed |
Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы |
| title_sort |
осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы |
| author |
Бевза, О.М. Сидоренко, С.Б. Мумладзе, А.В. |
| author_facet |
Бевза, О.М. Сидоренко, С.Б. Мумладзе, А.В. |
| publishDate |
2016 |
| language |
Russian |
| container_title |
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології |
| publisher |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Deposition of the Two-Component Composition Containing a Magnetic Material by Magnetron Sputtering System |
| description |
При разработке магнетронной распылительной системы для осаждения двухкомпонентной плёнки заданного состава с одного источника, где один из компонентов — магнитный материал, необходимо решить ряд задач: разработать конструкцию магнетрона, которая позволит решить проблему шунтирования магнитного поля материалом мишени; обеспечить необходимое соотношение материалов в осаждаемой плёнке. В работе проанализированы способы решения проблемы шунтирования магнитного поля материалом мишени. Разработана конструкция магнетронной распылительной системы, которая позволяет распылять одновременно магнитный и немагнитный материалы. Разработан простой метод определения соотношения материалов в осаждаемой плёнке при осаждении их с одной магнетронной распылительной системы. Представлены результаты моделирования и экспериментального исследования разработанной магнетронной распылительной системы
При розробці магнетронної розпорошувальної системи для осадження двокомпонентної плівки заданого складу з одного джерела, де один з компонентів — магнетний матеріял, необхідно вирішити ряд завдань: розробити конструкцію магнетрона, яка уможливить розв’язати проблему шунтування магнетного поля матеріялом мішені; забезпечити необхідне співвідношення матеріялів у плівці, що осаджується. В роботі проаналізовано способи розв’язання проблеми шунтування магнетного поля матеріялом мішені. Розроблено конструкцію магнетронної розпорошувальної системи, яка уможливлює розпорошувати одночасно магнетний і немагнетний матеріяли. Розроблено просту методу визначення співвідношення матеріялів у плівці, що осаджується, при їх осадженні з однієї магнетронної розпорошувальної системи. Представлено результати моделювання й експериментального дослідження розробленої магнетронної розпорошувальної системи.
To create a two-component magnetron sputtering system, where one component of it is a magnetic material, it is necessary to solve the following tasks: to develop the design of the magnetron sputtering system with shunted magnetic field lines by the target material; to provide the necessary ratio of materials in the deposited film. This paper analyses the ways to solve a problem of shunting the magnetic field lines by the target material. A design of the magnetron sputtering system, which allows sputtering the magnetic and nonmagnetic materials, is developed. A simple determination method for the ratio of materials in the deposited film is suggested. The simulation results and experimental research of developed magnetron sputtering system are presented.
|
| issn |
1816-5230 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/129956 |
| citation_txt |
Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы / О.М. Бевза, С.Б. Сидоренко, А.В. Мумладзе // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2016. — Т. 14, № 4. — С. 577-589. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT bevzaom osaždeniedvuhkomponentnogosostavasoderžaŝegomagnitnyimaterialpripomoŝimagnetronnoiraspylitelʹnoisistemy AT sidorenkosb osaždeniedvuhkomponentnogosostavasoderžaŝegomagnitnyimaterialpripomoŝimagnetronnoiraspylitelʹnoisistemy AT mumladzeav osaždeniedvuhkomponentnogosostavasoderžaŝegomagnitnyimaterialpripomoŝimagnetronnoiraspylitelʹnoisistemy AT bevzaom depositionofthetwocomponentcompositioncontainingamagneticmaterialbymagnetronsputteringsystem AT sidorenkosb depositionofthetwocomponentcompositioncontainingamagneticmaterialbymagnetronsputteringsystem AT mumladzeav depositionofthetwocomponentcompositioncontainingamagneticmaterialbymagnetronsputteringsystem |
| first_indexed |
2025-12-07T13:23:51Z |
| last_indexed |
2025-12-07T13:23:51Z |
| _version_ |
1850856001026129920 |