Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu

Досліджено структуру поверхні тонких плівок Y₂O₃:Eu, одержаних методою ВЧ-йонно-плазмового напорошення, при зміні концентрації активатора в межах 1,0–7,5 мол.%. Виміряно спектри ІЧ-відбивання одержаних систем тонка плівка Y₂O₃:Eu–підкладинка з топленого кварцу υ-SiO₂ у спектральній області 400–1600...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Date:2017
Main Authors: Бордун, О.М., Бордун, І.О., Кухарський, І.Й., Пташник, В.В., Цаповська, Ж.Я., Леонов, Д.С.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2017
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/130029
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu / О.М. Бордун, І.О. Бордун, І.Й. Кухарський, В.В. Пташник, Ж.Я. Цаповська, Д.С. Леонов // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2017. — Т. 15, № 1. — С. 27-36. — Бібліогр.: 22 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-130029
record_format dspace
spelling Бордун, О.М.
Бордун, І.О.
Кухарський, І.Й.
Пташник, В.В.
Цаповська, Ж.Я.
Леонов, Д.С.
2018-02-04T17:16:45Z
2018-02-04T17:16:45Z
2017
Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu / О.М. Бордун, І.О. Бордун, І.Й. Кухарський, В.В. Пташник, Ж.Я. Цаповська, Д.С. Леонов // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2017. — Т. 15, № 1. — С. 27-36. — Бібліогр.: 22 назв. — укр.
1816-5230
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/130029
PACS: 42.30.-d, 63.22.dc, 68.37.Ps, 78.20.Ci, 78.30.-j, 78.60.Hk, 81.15.-z
Досліджено структуру поверхні тонких плівок Y₂O₃:Eu, одержаних методою ВЧ-йонно-плазмового напорошення, при зміні концентрації активатора в межах 1,0–7,5 мол.%. Виміряно спектри ІЧ-відбивання одержаних систем тонка плівка Y₂O₃:Eu–підкладинка з топленого кварцу υ-SiO₂ у спектральній області 400–1600 см–1 при Т = 295 К. Проведено інтерпретацію смуг, пов’язаних з коливними процесами у плівках Y₂O₃:Eu. Встановлено, що смуги ІЧ-відбивання з максимумами в області 1218 і 1253 см⁻¹ є достатньо чутливими до зміни концентрації активатора Eu³⁺, розміру кристалітів, які формують плівку, та структурної досконалості одержаних плівок.
Исследована структура поверхности тонких плёнок Y₂O₃:Eu, полученных методом ВЧ-ионно-плазменного напыления, при изменении концентрации активатора в пределах 1,0–7,5 мол.%. Измерены спектры ИК-отражения полученных систем тонкая плёнка Y₂O₃:Eu–подложка из плавленого кварца υ-SiO₂ в спектральной области 400–1600 см⁻¹ при T = 295 К. Проведена интерпретация полос, связанных с колебательными процессами в плёнках Y₂O₃:Eu. Установлено, что полосы ИК-отражения с максимумами в области 1218 и 1253 см⁻¹ являются довольно чувствительными к изменению концентрации активатора Eu³⁺, размеру кристаллитов, которые формируют плёнку, и структурному совершенству полученных плёнок.
The structure of the surface of thin films of Y₂O₃:Eu obtained by RF sputtering when the activator concentration varies within the range 1.0–7.5 mol.% is investigated. The spectra of IR reflection of the thin film Y₂O₃:Eu–fused quartz (υ-SiO₂) substrate system at 295 K in region 400–1600 cm⁻¹ are measured. The peaks in the vibrational spectrum of films Y₂O₃:Eu are interpreted. AS revealed, the peaks of IR reflection with maxima at 1218 and 1253 cm⁻¹ are quite sensitive to changes of Eu³⁺ activator concentration, size of crystallites forming the film, and structural perfection of obtained films.
uk
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu
Structure and Vibrational Spectra of Thin Films Y₂O₃:Eu
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu
spellingShingle Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu
Бордун, О.М.
Бордун, І.О.
Кухарський, І.Й.
Пташник, В.В.
Цаповська, Ж.Я.
Леонов, Д.С.
title_short Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu
title_full Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu
title_fullStr Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu
title_full_unstemmed Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu
title_sort структура і коливні спектри тонких плівок y₂o₃:eu
author Бордун, О.М.
Бордун, І.О.
Кухарський, І.Й.
Пташник, В.В.
Цаповська, Ж.Я.
Леонов, Д.С.
author_facet Бордун, О.М.
Бордун, І.О.
Кухарський, І.Й.
Пташник, В.В.
Цаповська, Ж.Я.
Леонов, Д.С.
publishDate 2017
language Ukrainian
container_title Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
format Article
title_alt Structure and Vibrational Spectra of Thin Films Y₂O₃:Eu
description Досліджено структуру поверхні тонких плівок Y₂O₃:Eu, одержаних методою ВЧ-йонно-плазмового напорошення, при зміні концентрації активатора в межах 1,0–7,5 мол.%. Виміряно спектри ІЧ-відбивання одержаних систем тонка плівка Y₂O₃:Eu–підкладинка з топленого кварцу υ-SiO₂ у спектральній області 400–1600 см–1 при Т = 295 К. Проведено інтерпретацію смуг, пов’язаних з коливними процесами у плівках Y₂O₃:Eu. Встановлено, що смуги ІЧ-відбивання з максимумами в області 1218 і 1253 см⁻¹ є достатньо чутливими до зміни концентрації активатора Eu³⁺, розміру кристалітів, які формують плівку, та структурної досконалості одержаних плівок. Исследована структура поверхности тонких плёнок Y₂O₃:Eu, полученных методом ВЧ-ионно-плазменного напыления, при изменении концентрации активатора в пределах 1,0–7,5 мол.%. Измерены спектры ИК-отражения полученных систем тонкая плёнка Y₂O₃:Eu–подложка из плавленого кварца υ-SiO₂ в спектральной области 400–1600 см⁻¹ при T = 295 К. Проведена интерпретация полос, связанных с колебательными процессами в плёнках Y₂O₃:Eu. Установлено, что полосы ИК-отражения с максимумами в области 1218 и 1253 см⁻¹ являются довольно чувствительными к изменению концентрации активатора Eu³⁺, размеру кристаллитов, которые формируют плёнку, и структурному совершенству полученных плёнок. The structure of the surface of thin films of Y₂O₃:Eu obtained by RF sputtering when the activator concentration varies within the range 1.0–7.5 mol.% is investigated. The spectra of IR reflection of the thin film Y₂O₃:Eu–fused quartz (υ-SiO₂) substrate system at 295 K in region 400–1600 cm⁻¹ are measured. The peaks in the vibrational spectrum of films Y₂O₃:Eu are interpreted. AS revealed, the peaks of IR reflection with maxima at 1218 and 1253 cm⁻¹ are quite sensitive to changes of Eu³⁺ activator concentration, size of crystallites forming the film, and structural perfection of obtained films.
issn 1816-5230
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/130029
citation_txt Структура і коливні спектри тонких плівок Y₂O₃:Eu / О.М. Бордун, І.О. Бордун, І.Й. Кухарський, В.В. Пташник, Ж.Я. Цаповська, Д.С. Леонов // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2017. — Т. 15, № 1. — С. 27-36. — Бібліогр.: 22 назв. — укр.
work_keys_str_mv AT bordunom strukturaíkolivníspektritonkihplívoky2o3eu
AT bordunío strukturaíkolivníspektritonkihplívoky2o3eu
AT kuharsʹkiiíi strukturaíkolivníspektritonkihplívoky2o3eu
AT ptašnikvv strukturaíkolivníspektritonkihplívoky2o3eu
AT capovsʹkažâ strukturaíkolivníspektritonkihplívoky2o3eu
AT leonovds strukturaíkolivníspektritonkihplívoky2o3eu
AT bordunom structureandvibrationalspectraofthinfilmsy2o3eu
AT bordunío structureandvibrationalspectraofthinfilmsy2o3eu
AT kuharsʹkiiíi structureandvibrationalspectraofthinfilmsy2o3eu
AT ptašnikvv structureandvibrationalspectraofthinfilmsy2o3eu
AT capovsʹkažâ structureandvibrationalspectraofthinfilmsy2o3eu
AT leonovds structureandvibrationalspectraofthinfilmsy2o3eu
first_indexed 2025-12-07T17:33:42Z
last_indexed 2025-12-07T17:33:42Z
_version_ 1850871719721435136