Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов

Проанализирована частотная зависимость двузначных вольт-амперных характеристик мемристорных структур, образованных металлическим инжектором и плёнкой сложного оксида переходных металлов. Предложенная теоретическая модель основана на предположении о диффузии кислородных вакансий, локальная концентрац...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Металлофизика и новейшие технологии
Date:2017
Main Authors: Шамаев, В.В., Житлухина, Е.С.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2017
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/130319
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов / В.В. Шамаев, Е.С. Житлухина // Металлофизика и новейшие технологии. — 2017. — Т. 39, № 6. — С. 733-742. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862532377354436608
author Шамаев, В.В.
Житлухина, Е.С.
author_facet Шамаев, В.В.
Житлухина, Е.С.
citation_txt Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов / В.В. Шамаев, Е.С. Житлухина // Металлофизика и новейшие технологии. — 2017. — Т. 39, № 6. — С. 733-742. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Металлофизика и новейшие технологии
description Проанализирована частотная зависимость двузначных вольт-амперных характеристик мемристорных структур, образованных металлическим инжектором и плёнкой сложного оксида переходных металлов. Предложенная теоретическая модель основана на предположении о диффузии кислородных вакансий, локальная концентрация которых полностью определяет электрические характеристики металлооксидного соединения. Показано, что с увеличением частоты переменного тока, пропускаемого через данный контакт, отношение его максимального сопротивления к минимальному падает, в то время как влияние процесса релаксации вакансионной подсистемы к исходному состоянию не является существенным в случае, когда характерное время релаксации заметно превосходит период переменного тока. Проаналізовано частотну залежність двозначних вольт-амперних характеристик мемристорних структур, утворених металевим інжектором і плівкою складного оксиду перехідних металів. Запропонований теоретичний модель ґрунтується на припущенні про дифузію Оксиґенових вакансій, локальна концентрація яких повністю визначає електричні характеристики металооксидної сполуки. Показано, що зі збільшенням частоти змінного струму, що пропускається через даний контакт, відношення його максимального опору до мінімального падає, в той час як вплив процесу релаксації вакансійної підсистеми до вихідного стану не є істотним у випадку, коли характерний час релаксації помітно перевершує період змінного струму. The frequency dependence of double-valued current–voltage characteristics of memristor structures formed by a metal counter-electrode and a complex transition-metal oxide film is analysed. The proposed theoretical model is based on the assumption of the diffusion of oxygen vacancies, the local concentration of which completely determines electrical characteristics of the metal-oxide compound. As shown, the increasing of frequency of the alternating current passed through a given contact decreases the ratio of its maximum resistance to the minimum value, while the influence of the vacancy-subsystem relaxation to the initial state is not significant in the case when the characteristic relaxation time substantially exceeds the period of the alternating current.
first_indexed 2025-11-24T04:28:57Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-130319
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1024-1809
language Russian
last_indexed 2025-11-24T04:28:57Z
publishDate 2017
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
record_format dspace
spelling Шамаев, В.В.
Житлухина, Е.С.
2018-02-10T15:12:07Z
2018-02-10T15:12:07Z
2017
Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов / В.В. Шамаев, Е.С. Житлухина // Металлофизика и новейшие технологии. — 2017. — Т. 39, № 6. — С. 733-742. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.
1024-1809
PACS: 61.72.jd, 62.23.St, 68.47.Gh, 73.40.Ns, 84.32.Dd, 84.32.Ff, 85.25.Hv
DOI: doi.org/10.15407/mfint.39.06.0733
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/130319
Проанализирована частотная зависимость двузначных вольт-амперных характеристик мемристорных структур, образованных металлическим инжектором и плёнкой сложного оксида переходных металлов. Предложенная теоретическая модель основана на предположении о диффузии кислородных вакансий, локальная концентрация которых полностью определяет электрические характеристики металлооксидного соединения. Показано, что с увеличением частоты переменного тока, пропускаемого через данный контакт, отношение его максимального сопротивления к минимальному падает, в то время как влияние процесса релаксации вакансионной подсистемы к исходному состоянию не является существенным в случае, когда характерное время релаксации заметно превосходит период переменного тока.
Проаналізовано частотну залежність двозначних вольт-амперних характеристик мемристорних структур, утворених металевим інжектором і плівкою складного оксиду перехідних металів. Запропонований теоретичний модель ґрунтується на припущенні про дифузію Оксиґенових вакансій, локальна концентрація яких повністю визначає електричні характеристики металооксидної сполуки. Показано, що зі збільшенням частоти змінного струму, що пропускається через даний контакт, відношення його максимального опору до мінімального падає, в той час як вплив процесу релаксації вакансійної підсистеми до вихідного стану не є істотним у випадку, коли характерний час релаксації помітно перевершує період змінного струму.
The frequency dependence of double-valued current–voltage characteristics of memristor structures formed by a metal counter-electrode and a complex transition-metal oxide film is analysed. The proposed theoretical model is based on the assumption of the diffusion of oxygen vacancies, the local concentration of which completely determines electrical characteristics of the metal-oxide compound. As shown, the increasing of frequency of the alternating current passed through a given contact decreases the ratio of its maximum resistance to the minimum value, while the influence of the vacancy-subsystem relaxation to the initial state is not significant in the case when the characteristic relaxation time substantially exceeds the period of the alternating current.
Авторы признательны М. А. Белоголовскому за ценные замечания и советы. Данная работа выполнена в рамках программы фундаментальных исследований Министерства образования и науки Украины (проект № 0117U002360).
ru
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Металлофизика и новейшие технологии
Электронные структура и свойства
Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов
Частотні характеристики мемристорних структур на основі складних оксидів перехідних металів
Frequency Characteristics of Memristor Structures Based on the Complex Transition-Metal Oxides
Article
published earlier
spellingShingle Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов
Шамаев, В.В.
Житлухина, Е.С.
Электронные структура и свойства
title Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов
title_alt Частотні характеристики мемристорних структур на основі складних оксидів перехідних металів
Frequency Characteristics of Memristor Structures Based on the Complex Transition-Metal Oxides
title_full Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов
title_fullStr Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов
title_full_unstemmed Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов
title_short Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов
title_sort частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов
topic Электронные структура и свойства
topic_facet Электронные структура и свойства
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/130319
work_keys_str_mv AT šamaevvv častotnyeharakteristikimemristornyhstrukturnaosnovesložnyhoksidovperehodnyhmetallov
AT žitluhinaes častotnyeharakteristikimemristornyhstrukturnaosnovesložnyhoksidovperehodnyhmetallov
AT šamaevvv častotníharakteristikimemristornihstrukturnaosnovískladnihoksidívperehídnihmetalív
AT žitluhinaes častotníharakteristikimemristornihstrukturnaosnovískladnihoksidívperehídnihmetalív
AT šamaevvv frequencycharacteristicsofmemristorstructuresbasedonthecomplextransitionmetaloxides
AT žitluhinaes frequencycharacteristicsofmemristorstructuresbasedonthecomplextransitionmetaloxides