Анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах
В данной работе проведены исследования параметров синтеза тонких пленок диборида тантала, полученных в системах ВЧ- и ПТ-магнетронного распыления. Сделан сравнительный анализ энергетических условий синтеза этих пленок. Показано, что в зависимости от метода, используемого для получения пленки (ВЧ или...
Saved in:
| Published in: | Журнал физики и инженерии поверхности |
|---|---|
| Date: | 2017 |
| Main Authors: | , , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2017
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/130542 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах / А.А. Гончаров, А.Н. Юнда, А.В. Зыков, В.И. Фареник, И.В. Шелест, В.В. Буранич // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2017. — Т. 2, № 2-3. — С. 105–114. — Бібліогр.: 36 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-130542 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Гончаров, А.А. Юнда, А.Н. Зыков, А.В. Фареник, В.И. Шелест, И.В. Буранич, В.В. 2018-02-16T09:12:03Z 2018-02-16T09:12:03Z 2017 Анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах / А.А. Гончаров, А.Н. Юнда, А.В. Зыков, В.И. Фареник, И.В. Шелест, В.В. Буранич // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2017. — Т. 2, № 2-3. — С. 105–114. — Бібліогр.: 36 назв. — рос. 2519-2485 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/130542 621.793+548.735 В данной работе проведены исследования параметров синтеза тонких пленок диборида тантала, полученных в системах ВЧ- и ПТ-магнетронного распыления. Сделан сравнительный анализ энергетических условий синтеза этих пленок. Показано, что в зависимости от метода, используемого для получения пленки (ВЧ или ПТ), существенно меняется количество и энергия ионов и нейтральных частиц, которые принимают участие в осаждении и формировании пленки на поверхности подложки, что приводит к формированию покрытий в различных структурных состояниях от аморфноподобного до нанокристаллического с текстурой роста перпендикулярной плоскости (00.1). У даній роботі проведено дослідження параметрів синтезу тонких плівок дибориду танталу, отриманих в системах ВЧ і ПТ-магнетронного розпилення. Зроблено порівняльний аналіз енергетичних умов синтезу цих плівок. Показано, що в залежності від методу, використовуваного для отримання плівки (ВЧ або ПТ), істотно змінюється кількість і енергія іонів та нейтральних частинок, які беруть участь в осадженні і формуванні плівки на поверхні підкладки, що призводить до формування покриттів в різних структурних станах від аморфноподібного до нанокристалічного з текстурою зростання перпендикулярною площині (00.1). Study of the synthesis parameters of tantalum diboride thin films obtained in RF and DC magnetron sputtering systems was carried out in this paper. A comparative analysis of the synthesis energy conditions of these films was performed. It was shown that the amount, energy of the ions and neutral particles, participating in the deposition and formation of film on the surface of substrate, changes significantly depending on the method (RF or DC) used for film obtaining, which leads to the formation of coatings in different structural states from an amorphous to nanocrystalline with growth texture perpendicular to the plane (00.1). Работа выполнена при финансовой поддержке Министерства образования и науки Украины по научно-исследовательским работам 0117U002247 и 0117U004875. ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Журнал физики и инженерии поверхности Анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах Аналіз умов синтезу надтвердих плівок дибориду танталу у магнетронних розпилювальних системах Analisys of synthesis condition of hard tantalum diboride coatings in magnetron sputtering systems Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах |
| spellingShingle |
Анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах Гончаров, А.А. Юнда, А.Н. Зыков, А.В. Фареник, В.И. Шелест, И.В. Буранич, В.В. |
| title_short |
Анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах |
| title_full |
Анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах |
| title_fullStr |
Анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах |
| title_full_unstemmed |
Анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах |
| title_sort |
анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах |
| author |
Гончаров, А.А. Юнда, А.Н. Зыков, А.В. Фареник, В.И. Шелест, И.В. Буранич, В.В. |
| author_facet |
Гончаров, А.А. Юнда, А.Н. Зыков, А.В. Фареник, В.И. Шелест, И.В. Буранич, В.В. |
| publishDate |
2017 |
| language |
Russian |
| container_title |
Журнал физики и инженерии поверхности |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Аналіз умов синтезу надтвердих плівок дибориду танталу у магнетронних розпилювальних системах Analisys of synthesis condition of hard tantalum diboride coatings in magnetron sputtering systems |
| description |
В данной работе проведены исследования параметров синтеза тонких пленок диборида тантала, полученных в системах ВЧ- и ПТ-магнетронного распыления. Сделан сравнительный анализ энергетических условий синтеза этих пленок. Показано, что в зависимости от метода, используемого для получения пленки (ВЧ или ПТ), существенно меняется количество и энергия ионов и нейтральных частиц, которые принимают участие в осаждении и формировании пленки на поверхности подложки, что приводит к формированию покрытий в различных структурных состояниях от аморфноподобного до нанокристаллического с текстурой роста перпендикулярной плоскости (00.1).
У даній роботі проведено дослідження параметрів синтезу тонких плівок дибориду танталу, отриманих в системах ВЧ і ПТ-магнетронного розпилення. Зроблено порівняльний аналіз енергетичних умов синтезу цих плівок. Показано, що в залежності від методу, використовуваного для отримання плівки (ВЧ або ПТ), істотно змінюється кількість і енергія іонів та нейтральних частинок, які беруть участь в осадженні і формуванні плівки на поверхні підкладки, що призводить до формування покриттів в різних структурних станах від аморфноподібного до нанокристалічного з текстурою зростання перпендикулярною площині (00.1).
Study of the synthesis parameters of tantalum diboride thin films obtained in RF and DC magnetron sputtering systems was carried out in this paper. A comparative analysis of the synthesis energy conditions of these films was performed. It was shown that the amount, energy of the ions and neutral particles, participating in the deposition and formation of film on the surface of substrate, changes significantly depending on the method (RF or DC) used for film obtaining, which leads to the formation of coatings in different structural states from an amorphous to nanocrystalline with growth texture perpendicular to the plane (00.1).
|
| issn |
2519-2485 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/130542 |
| citation_txt |
Анализ условий синтеза сверхтвердых пленок диборида тантала в магнетронных распылительных системах / А.А. Гончаров, А.Н. Юнда, А.В. Зыков, В.И. Фареник, И.В. Шелест, В.В. Буранич // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2017. — Т. 2, № 2-3. — С. 105–114. — Бібліогр.: 36 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT gončarovaa analizusloviisintezasverhtverdyhplenokdiboridatantalavmagnetronnyhraspylitelʹnyhsistemah AT ûndaan analizusloviisintezasverhtverdyhplenokdiboridatantalavmagnetronnyhraspylitelʹnyhsistemah AT zykovav analizusloviisintezasverhtverdyhplenokdiboridatantalavmagnetronnyhraspylitelʹnyhsistemah AT farenikvi analizusloviisintezasverhtverdyhplenokdiboridatantalavmagnetronnyhraspylitelʹnyhsistemah AT šelestiv analizusloviisintezasverhtverdyhplenokdiboridatantalavmagnetronnyhraspylitelʹnyhsistemah AT buraničvv analizusloviisintezasverhtverdyhplenokdiboridatantalavmagnetronnyhraspylitelʹnyhsistemah AT gončarovaa analízumovsintezunadtverdihplívokdiboridutantaluumagnetronnihrozpilûvalʹnihsistemah AT ûndaan analízumovsintezunadtverdihplívokdiboridutantaluumagnetronnihrozpilûvalʹnihsistemah AT zykovav analízumovsintezunadtverdihplívokdiboridutantaluumagnetronnihrozpilûvalʹnihsistemah AT farenikvi analízumovsintezunadtverdihplívokdiboridutantaluumagnetronnihrozpilûvalʹnihsistemah AT šelestiv analízumovsintezunadtverdihplívokdiboridutantaluumagnetronnihrozpilûvalʹnihsistemah AT buraničvv analízumovsintezunadtverdihplívokdiboridutantaluumagnetronnihrozpilûvalʹnihsistemah AT gončarovaa analisysofsynthesisconditionofhardtantalumdiboridecoatingsinmagnetronsputteringsystems AT ûndaan analisysofsynthesisconditionofhardtantalumdiboridecoatingsinmagnetronsputteringsystems AT zykovav analisysofsynthesisconditionofhardtantalumdiboridecoatingsinmagnetronsputteringsystems AT farenikvi analisysofsynthesisconditionofhardtantalumdiboridecoatingsinmagnetronsputteringsystems AT šelestiv analisysofsynthesisconditionofhardtantalumdiboridecoatingsinmagnetronsputteringsystems AT buraničvv analisysofsynthesisconditionofhardtantalumdiboridecoatingsinmagnetronsputteringsystems |
| first_indexed |
2025-12-07T19:07:20Z |
| last_indexed |
2025-12-07T19:07:20Z |
| _version_ |
1850877611284103168 |