Кінетика розпаду при відпалі у вакуумі титанових та цирконієвих наноплівок, нанесених на карбід кремнію та нітрид алюмінію

• Опубліковано в: Адгезия расплавов и пайка материалов
• Дата: 2016
• ISSN: 0136-1732
• Автори: Найдіч, Ю.В., Габ, І.І., Стецюк, Т.В., Костюк, Б.Д., Мартинюк, С.І.
• Формат: Стаття
• Мова: Українська
• Опубліковано: Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України 2016
• Теми: Контактное взаимодействие твердых тел на границе с твердыми и жидкими фазами
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/132825
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Кінетика розпаду при відпалі у вакуумі титанових та цирконієвих наноплівок, нанесених на карбід кремнію та нітрид алюмінію / Ю.В. Найдіч, І.І. Габ, Т.В. Стецюк, Б.Д. Костюк, С.І. Мартинюк // Адгезия расплавов и пайка материалов. — 2016. — Вып. 49. — С. 35-44. — Бібліогр.: 10 назв. — укр.

Наведено результати досліджень кінетики розпаду титанових та цирконієвих наноплівок завтовшки 100 нм, які нанесені на поверхні зразків, виготовлених з монокристалів карбіду кремнію та нітриду алюмінію, і відпалені у вакуумі при температурах 1200—1600 °С впродовж різного часу витримки при кожній температурі в інтервалі 2—20 хв. Приведены результаты исследований кинетики распада титановых и циркониевых нанопленок толщиной 100 нм, которые нанесены на поверхности образцов, изготовленных из монокристаллов карбида кремния и нитрида алюминия, и отожжены в вакууме при температурах 1200—1600 °С в течение различного времени выдержки при каждой температуре в интервале 2—20 хв. The results of studies kinetics of disintegration of titanium and zirconium nanofilms 100 nm thickness deposited onto substrates surfaces which were made from aluminium nitride and monocrystal of silicon carbide and were annealed in a vacuum at temperatures of 1200—1600 °С during different exposure times at each temperature in interval of 2—20 min are given.