The formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix

The existence of n-n⁺ transition in the elastic area of the implanted crystal matrix GaAs(100) + Ar(Si) is discussed within the framework of the electron-deformation model. It is shown that n-n+ transition becomes sharper with the increase of conductivity zone population (0 <= n <= 0.5). Thus...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Functional Materials
Datum:2004
Hauptverfasser: Peleshchak, R.M., Kuzyk, O.V., Tupichak, V.P., Shuptar, D.D.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2004
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/134811
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:The formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix / R.M. Peleshchak, O.V. Kuzyk, V.P. Tupichak, D.D. Shuptar // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 2. — С. 201-205. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-134811
record_format dspace
spelling Peleshchak, R.M.
Kuzyk, O.V.
Tupichak, V.P.
Shuptar, D.D.
2018-06-14T09:10:29Z
2018-06-14T09:10:29Z
2004
The formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix / R.M. Peleshchak, O.V. Kuzyk, V.P. Tupichak, D.D. Shuptar // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 2. — С. 201-205. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
1027-5495
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/134811
The existence of n-n⁺ transition in the elastic area of the implanted crystal matrix GaAs(100) + Ar(Si) is discussed within the framework of the electron-deformation model. It is shown that n-n+ transition becomes sharper with the increase of conductivity zone population (0 <= n <= 0.5). Thus the plane, which corresponds to the border of transition, is shifted to the border of elasticity with the increase of n.
В рамках электрон-деформационной модели раскрыто существование n-n⁺ перехода в упругой области имплантированной кристаллической матрицы GaAs(100) + Ar(Si). Показано, что с ростом степени заполнения зоны проводимости (0 <= n <= 0.5) переход становится более резким. При этом плоскость, соответствующая границе перехода, с ростом n сдвигается к границе упругости.
en
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
Functional Materials
The formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title The formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix
spellingShingle The formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix
Peleshchak, R.M.
Kuzyk, O.V.
Tupichak, V.P.
Shuptar, D.D.
title_short The formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix
title_full The formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix
title_fullStr The formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix
title_full_unstemmed The formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix
title_sort formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix
author Peleshchak, R.M.
Kuzyk, O.V.
Tupichak, V.P.
Shuptar, D.D.
author_facet Peleshchak, R.M.
Kuzyk, O.V.
Tupichak, V.P.
Shuptar, D.D.
publishDate 2004
language English
container_title Functional Materials
publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України
format Article
description The existence of n-n⁺ transition in the elastic area of the implanted crystal matrix GaAs(100) + Ar(Si) is discussed within the framework of the electron-deformation model. It is shown that n-n+ transition becomes sharper with the increase of conductivity zone population (0 <= n <= 0.5). Thus the plane, which corresponds to the border of transition, is shifted to the border of elasticity with the increase of n. В рамках электрон-деформационной модели раскрыто существование n-n⁺ перехода в упругой области имплантированной кристаллической матрицы GaAs(100) + Ar(Si). Показано, что с ростом степени заполнения зоны проводимости (0 <= n <= 0.5) переход становится более резким. При этом плоскость, соответствующая границе перехода, с ростом n сдвигается к границе упругости.
issn 1027-5495
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/134811
citation_txt The formation of n-n⁺ transition in the implanted crystal matrix / R.M. Peleshchak, O.V. Kuzyk, V.P. Tupichak, D.D. Shuptar // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 2. — С. 201-205. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT peleshchakrm theformationofnntransitionintheimplantedcrystalmatrix
AT kuzykov theformationofnntransitionintheimplantedcrystalmatrix
AT tupichakvp theformationofnntransitionintheimplantedcrystalmatrix
AT shuptardd theformationofnntransitionintheimplantedcrystalmatrix
AT peleshchakrm formationofnntransitionintheimplantedcrystalmatrix
AT kuzykov formationofnntransitionintheimplantedcrystalmatrix
AT tupichakvp formationofnntransitionintheimplantedcrystalmatrix
AT shuptardd formationofnntransitionintheimplantedcrystalmatrix
first_indexed 2025-12-07T18:55:49Z
last_indexed 2025-12-07T18:55:49Z
_version_ 1850876886984425472