Удосконалення технології виробництва алмазного інструменту на основі моделювання розподілу металу при електроформуванні метал-композиційних шарів
Змодельовано процес електроформування мідних осадів товщиною до 100 мкм. Показано можливість досягнення рівномірного профілю осаду з перепадом товщини до 1 мкм шляхом екранування у процесі електросадження виступаючого краю катоду дворівневим екраном. Отриманий результат можна використовувати при...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Породоразрушающий и металлообрабатывающий инструмент – техника и технология его изготовления и применения |
|---|---|
| Datum: | 2017 |
| Hauptverfasser: | , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainian |
| Veröffentlicht: |
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
2017
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/135012 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Удосконалення технології виробництва алмазного інструменту на основі моделювання розподілу металу при електроформуванні метал-композиційних шарів / Д.Ю. Ущаповський, О.В. Лінючева, Р.М. Редько, В.І. Лавріненко, Ю.П. Ущаповський // Породоразрушающий и металлообрабатывающий инструмент – техника и технология его изготовления и применения: Сб. науч. тр. — К.: ІНМ ім. В.М. Бакуля НАН України, 2017. — Вип. 20. — С. 446-452. — Бібліогр.: 12 назв. — укр. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Zusammenfassung: | Змодельовано процес електроформування мідних осадів товщиною до 100 мкм. Показано
можливість досягнення рівномірного профілю осаду з перепадом товщини до 1 мкм шляхом екранування
у процесі електросадження виступаючого краю катоду дворівневим екраном. Отриманий результат
можна використовувати при створенні високоточного правлячого алмазного інструменту.
Смоделирован процесс электроформования медных осадков толщиной до 100 мкм. Показана
возможность достижения равномерности профиля осадка с перепадом толщины до 1 мкм путем
экранирования в процессе электроосаждения выступающего края катода двухуровневым экраном.
Полученный результат можно использовать при создании высокоточного правящего алмазного
инструмента.
The simulation of the copper deposits thickness up to 100 microns electroforming process was carried
out. The possibility of achieving of an even profile of metal deposit with a thickness drop of up to 1 μm by
shielding the protruding edge of the cathode with a two-level screen in duration of electroforming process was
shown. The obtained results can be used to create a high-precision governing diamond tool.
|
|---|---|
| ISSN: | 2223-3938 |