Удосконалення технології виробництва алмазного інструменту на основі моделювання розподілу металу при електроформуванні метал-композиційних шарів

Змодельовано процес електроформування мідних осадів товщиною до 100 мкм. Показано можливість досягнення рівномірного профілю осаду з перепадом товщини до 1 мкм шляхом екранування у процесі електросадження виступаючого краю катоду дворівневим екраном. Отриманий результат можна використовувати при...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Породоразрушающий и металлообрабатывающий инструмент – техника и технология его изготовления и применения
Date:2017
Main Authors: Ущаповський, Д.Ю., Лінючева, О.В., Редько, Р.М., Лавріненко, В.І., Ущаповський, Ю.П.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2017
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/135012
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Удосконалення технології виробництва алмазного інструменту на основі моделювання розподілу металу при електроформуванні метал-композиційних шарів / Д.Ю. Ущаповський, О.В. Лінючева, Р.М. Редько, В.І. Лавріненко, Ю.П. Ущаповський // Породоразрушающий и металлообрабатывающий инструмент – техника и технология его изготовления и применения: Сб. науч. тр. — К.: ІНМ ім. В.М. Бакуля НАН України, 2017. — Вип. 20. — С. 446-452. — Бібліогр.: 12 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:Змодельовано процес електроформування мідних осадів товщиною до 100 мкм. Показано можливість досягнення рівномірного профілю осаду з перепадом товщини до 1 мкм шляхом екранування у процесі електросадження виступаючого краю катоду дворівневим екраном. Отриманий результат можна використовувати при створенні високоточного правлячого алмазного інструменту. Смоделирован процесс электроформования медных осадков толщиной до 100 мкм. Показана возможность достижения равномерности профиля осадка с перепадом толщины до 1 мкм путем экранирования в процессе электроосаждения выступающего края катода двухуровневым экраном. Полученный результат можно использовать при создании высокоточного правящего алмазного инструмента. The simulation of the copper deposits thickness up to 100 microns electroforming process was carried out. The possibility of achieving of an even profile of metal deposit with a thickness drop of up to 1 μm by shielding the protruding edge of the cathode with a two-level screen in duration of electroforming process was shown. The obtained results can be used to create a high-precision governing diamond tool.
ISSN:2223-3938