Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
Electric resistivity and microstructure of silicon-doped (5 to 38 at. % Si) amorphous carbon (α-C) films deposited by de magnetron sputtering in argon plasma of composed (graphite + single crystalline silicon) target has been studied as a function of silicon content in films. The film resistivity pa...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Functional Materials |
|---|---|
| Datum: | 2006 |
| Hauptverfasser: | Onoprienko, A.A., Yanchuk, I.B. |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
2006
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/135059 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films / A.A. Onoprienko, I.B. Yanchuk // Functional Materials. — 2006. — Т. 13, № 4. — С. 652-656. — Бібліогр.: 17 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineÄhnliche Einträge
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
von: A. A. Onoprienko, et al.
Veröffentlicht: (2019)
von: A. A. Onoprienko, et al.
Veröffentlicht: (2019)
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
von: Onoprienko, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2015)
von: Onoprienko, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2015)
Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
von: V. A. Sevrjukova, et al.
Veröffentlicht: (2011)
von: V. A. Sevrjukova, et al.
Veröffentlicht: (2011)
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2015)
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2015)
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
von: A. A. Onoprienko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
von: A. A. Onoprienko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2020)
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2020)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
von: Yakovin, S., et al.
Veröffentlicht: (2016)
von: Yakovin, S., et al.
Veröffentlicht: (2016)
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
von: Zayats, M.S., et al.
Veröffentlicht: (2010)
von: Zayats, M.S., et al.
Veröffentlicht: (2010)
Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
von: O. I. Vjunov, et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: O. I. Vjunov, et al.
Veröffentlicht: (2014)
The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
von: A. I. Bazhin, et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: A. I. Bazhin, et al.
Veröffentlicht: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: Sagalovych, A., et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: Sagalovych, A., et al.
Veröffentlicht: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: A. Sagalovych, et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: A. Sagalovych, et al.
Veröffentlicht: (2012)
Chemical composition and light emission properties of Si-rich-SiOx layers prepared by magnetron sputtering
von: Khomenkova, L., et al.
Veröffentlicht: (2007)
von: Khomenkova, L., et al.
Veröffentlicht: (2007)
Infrared heaters with thin-film conductive layers were synthesized on the glass by the magnetron sputtering
von: Lytvynenko, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: Lytvynenko, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2017)
Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
von: O. O. Onopriienko, et al.
Veröffentlicht: (2020)
von: O. O. Onopriienko, et al.
Veröffentlicht: (2020)
Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
von: A. D. Pogrebnjak, et al.
Veröffentlicht: (2012)
von: A. D. Pogrebnjak, et al.
Veröffentlicht: (2012)
Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2004)
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2004)
Structural and optical studies of Cu₆PSe₅I-based thin film deposited by magnetron sputtering
von: Studenyak, I.P., et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: Studenyak, I.P., et al.
Veröffentlicht: (2017)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
von: Panchenko, O.A., et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: Panchenko, O.A., et al.
Veröffentlicht: (2005)
Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
von: O. V. Kalinkevich, et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: O. V. Kalinkevich, et al.
Veröffentlicht: (2017)
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
von: S. V. Dudin, et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: S. V. Dudin, et al.
Veröffentlicht: (2005)
Electrical and optical parameters of Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
von: Studenyak, I.P., et al.
Veröffentlicht: (2016)
von: Studenyak, I.P., et al.
Veröffentlicht: (2016)
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2005)
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2005)
The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
von: G. S. Khrypunov, et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: G. S. Khrypunov, et al.
Veröffentlicht: (2017)
The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
von: Khrypunov, G.S., et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: Khrypunov, G.S., et al.
Veröffentlicht: (2017)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2003)
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2003)
Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
von: Dobrovolskiy, A., et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: Dobrovolskiy, A., et al.
Veröffentlicht: (2014)
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
von: Afanasіeva, I.A., et al.
Veröffentlicht: (2019)
von: Afanasіeva, I.A., et al.
Veröffentlicht: (2019)
Structural properties of nanocomposite SiO₂(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
von: Bratus, O.L., et al.
Veröffentlicht: (2011)
von: Bratus, O.L., et al.
Veröffentlicht: (2011)
Magnetron sputtering of high temperature composite ceramics AlN-TiB2-TiSi2
von: I. N. Torianik, et al.
Veröffentlicht: (2013)
von: I. N. Torianik, et al.
Veröffentlicht: (2013)
Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
von: M. I. Mokhnenko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
von: M. I. Mokhnenko, et al.
Veröffentlicht: (2015)
Structural and optical studies of Cu6PSe5I-based thin film deposited by magnetron sputtering
von: I. P. Studenyak, et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: I. P. Studenyak, et al.
Veröffentlicht: (2017)
Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
von: Nowakowska-Langier, K., et al.
Veröffentlicht: (2010)
von: Nowakowska-Langier, K., et al.
Veröffentlicht: (2010)
Electrical and optical parameters of Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
von: I. P. Studenyak, et al.
Veröffentlicht: (2016)
von: I. P. Studenyak, et al.
Veröffentlicht: (2016)
Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
von: A. A. Goncharov, et al.
Veröffentlicht: (2014)
von: A. A. Goncharov, et al.
Veröffentlicht: (2014)
Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
von: Yakovin, S., et al.
Veröffentlicht: (2017)
von: Yakovin, S., et al.
Veröffentlicht: (2017)
Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
von: Panasyuk, A.D., et al.
Veröffentlicht: (2009)
von: Panasyuk, A.D., et al.
Veröffentlicht: (2009)
Control of planar magnetron sputtering system operating modes by additional anode magnetic field
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2010)
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2010)
Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
von: Brus, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2011)
von: Brus, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2011)
The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
von: V. M. Kolomiiets, et al.
Veröffentlicht: (2020)
von: V. M. Kolomiiets, et al.
Veröffentlicht: (2020)
Ähnliche Einträge
-
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
von: A. A. Onoprienko, et al.
Veröffentlicht: (2019) -
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
von: Onoprienko, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2015) -
Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
von: V. A. Sevrjukova, et al.
Veröffentlicht: (2011) -
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2015) -
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
von: A. A. Onoprienko, et al.
Veröffentlicht: (2015)