Effect of ZnGeP₂ annealing in Zn vapor on the laser spectrum

The work is devoted to experimental investigation of the band structure, deep local centers and complexes as well as of generation/recombination processes in the ZnGeP₂ semiconductor crystal. The crystals grown by Bridgeman technique, annealed in Zn vapor and unannealed were studied. The dynamics o...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Functional Materials
Datum:2005
Hauptverfasser: Patskun, I.I., Rybalko, A.V.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2005
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/135337
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Effect of ZnGeP₂ annealing in Zn vapor on the laser spectrum / I.I. Patskun, A.V. Rybalko // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 2. — С. 235-239. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:The work is devoted to experimental investigation of the band structure, deep local centers and complexes as well as of generation/recombination processes in the ZnGeP₂ semiconductor crystal. The crystals grown by Bridgeman technique, annealed in Zn vapor and unannealed were studied. The dynamics of the defect structure change in the ZnGeP₂ crystal due to annealing in Zn vapor has been considered as well as the presumable identification of impurity centers. Статья посвящена экспериментальному исследованию зонной структуры, глубоких локальных центров и комплексов, а также генерационно-рекомбинационных процессов в полупроводниковом кристалле ZnGeP₂. Исследовались кристаллы, выращенные методом Бриджмена: отожженные и неотожженные в парах Zn. Рассмотрена динамика изменения дефектной структуры в кристалле ZnGeP₂ после отжига в парах Zn, а также возможная идентификация примесных центров.
ISSN:1027-5495