Vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings

Design and operation principle of a novel vacuum-arc source of filtered erosive plasma are described. The macroparticles are removed from the plasma by transformation of radial plasma streams emitted by the cathode spot of the arc on the side surface of cylindrical cathode, into axial stream by mean...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Functional Materials
Date:2008
Main Authors: Aksenov, I.I., Aksyonov, D.S.
Format: Article
Language:English
Published: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2008
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/135355
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings // I.I. Aksenov, D.S. Aksyonov // Functional Materials. — 2008. — Т. 15, № 3. — С. 442-447. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-135355
record_format dspace
spelling Aksenov, I.I.
Aksyonov, D.S.
2018-06-15T05:31:32Z
2018-06-15T05:31:32Z
2008
Vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings // I.I. Aksenov, D.S. Aksyonov // Functional Materials. — 2008. — Т. 15, № 3. — С. 442-447. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.
1027-5495
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/135355
Design and operation principle of a novel vacuum-arc source of filtered erosive plasma are described. The macroparticles are removed from the plasma by transformation of radial plasma streams emitted by the cathode spot of the arc on the side surface of cylindrical cathode, into axial stream by means of "single bottle neck" magnetic field. The efficiency factor of the source is about 3.5 %. The output plasma stream generated by the source in optimum conditions is characterized by highly homogeneous distribution of the ion component density over the stream cross-section about 12 cm in diameter. The growth rate of a carbon coating in a spot of the same diameter attains 35 μm/h at the condensate microhardness up to 150 GPa.
Описано будову та принцип дії вакуумно-дугового джерела фільтрованої ерозійної плазми. Очищення плазми від макрочастинок здійснюється перетворенням радіальних потоків плазми, що емітуються катодними плямами дуги на боковій поверхні циліндричного катода, в аксіальний потік за допомогою "однопробкового" магнітного поля. Коефіцієнт ефективності джерела становить близько 3,5 %. Вихідний потік плазми в оптимальних умовах характеризується високою рівномірністю розподілу густини іонної компоненти за перерізом потоку діаметром близько 12 см. Швидкість зростання товщини покриття у плямі того ж діаметра сягає 35 мкм/г при мікротвердості конденсата до 150 ГПа.
Описаны устройство и принцип действия вакуумно-дугового источника фильтрованной эрозионной плазмы. Очистка плазмы от макрочастиц осуществляется преобразованием радиальных потоков плазмы, эмитируемых катодным пятном дуги на боковой поверхности цилиндрического катода, в аксиальный поток с помощью "однопробочного" магнитного поля. Коэффициент эффективности источника составляет около 3,5 %. Выходной поток плазмы, генерируемый источником, в оптимальных условиях характеризуется высокой равномерностью распределения плотности ионной компоненты по сечению потока диаметром около 12 см. Скорость роста углеродного покрытия в пятне того же диаметра достигает 35 мкм/ч при микротвёрдости конденсата до 150 ГПа.
en
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
Functional Materials
Technology
Vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings
Вакуумно-дугове джерело плазми з прямолінійним фільтром для осадження функціональних покриттів
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings
spellingShingle Vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings
Aksenov, I.I.
Aksyonov, D.S.
Technology
title_short Vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings
title_full Vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings
title_fullStr Vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings
title_full_unstemmed Vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings
title_sort vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings
author Aksenov, I.I.
Aksyonov, D.S.
author_facet Aksenov, I.I.
Aksyonov, D.S.
topic Technology
topic_facet Technology
publishDate 2008
language English
container_title Functional Materials
publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України
format Article
title_alt Вакуумно-дугове джерело плазми з прямолінійним фільтром для осадження функціональних покриттів
description Design and operation principle of a novel vacuum-arc source of filtered erosive plasma are described. The macroparticles are removed from the plasma by transformation of radial plasma streams emitted by the cathode spot of the arc on the side surface of cylindrical cathode, into axial stream by means of "single bottle neck" magnetic field. The efficiency factor of the source is about 3.5 %. The output plasma stream generated by the source in optimum conditions is characterized by highly homogeneous distribution of the ion component density over the stream cross-section about 12 cm in diameter. The growth rate of a carbon coating in a spot of the same diameter attains 35 μm/h at the condensate microhardness up to 150 GPa. Описано будову та принцип дії вакуумно-дугового джерела фільтрованої ерозійної плазми. Очищення плазми від макрочастинок здійснюється перетворенням радіальних потоків плазми, що емітуються катодними плямами дуги на боковій поверхні циліндричного катода, в аксіальний потік за допомогою "однопробкового" магнітного поля. Коефіцієнт ефективності джерела становить близько 3,5 %. Вихідний потік плазми в оптимальних умовах характеризується високою рівномірністю розподілу густини іонної компоненти за перерізом потоку діаметром близько 12 см. Швидкість зростання товщини покриття у плямі того ж діаметра сягає 35 мкм/г при мікротвердості конденсата до 150 ГПа. Описаны устройство и принцип действия вакуумно-дугового источника фильтрованной эрозионной плазмы. Очистка плазмы от макрочастиц осуществляется преобразованием радиальных потоков плазмы, эмитируемых катодным пятном дуги на боковой поверхности цилиндрического катода, в аксиальный поток с помощью "однопробочного" магнитного поля. Коэффициент эффективности источника составляет около 3,5 %. Выходной поток плазмы, генерируемый источником, в оптимальных условиях характеризуется высокой равномерностью распределения плотности ионной компоненты по сечению потока диаметром около 12 см. Скорость роста углеродного покрытия в пятне того же диаметра достигает 35 мкм/ч при микротвёрдости конденсата до 150 ГПа.
issn 1027-5495
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/135355
citation_txt Vacuum arc plasma source with rectilinear filter for deposition of functional coatings // I.I. Aksenov, D.S. Aksyonov // Functional Materials. — 2008. — Т. 15, № 3. — С. 442-447. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT aksenovii vacuumarcplasmasourcewithrectilinearfilterfordepositionoffunctionalcoatings
AT aksyonovds vacuumarcplasmasourcewithrectilinearfilterfordepositionoffunctionalcoatings
AT aksenovii vakuumnodugovedžereloplazmizprâmolíníinimfílʹtromdlâosadžennâfunkcíonalʹnihpokrittív
AT aksyonovds vakuumnodugovedžereloplazmizprâmolíníinimfílʹtromdlâosadžennâfunkcíonalʹnihpokrittív
first_indexed 2025-12-07T18:59:39Z
last_indexed 2025-12-07T18:59:39Z
_version_ 1850877127740620800