Разработка процесса газофазного и плазмохимического осаждения покрытия на основе карбида бора

• Опубліковано в: : Вопросы атомной науки и техники
• Дата: 2017
• Автори: Журавлев, А.Ю., Шиян, А.В., Семенов, Н.А., Широков, Б.М.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2017
• Теми: Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136048
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Разработка процесса газофазного и плазмохимического осаждения покрытия на основе карбида бора / А.Ю. Журавлев, А.В. Шиян, Н.А. Семенов, Б.М. Широков // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 2. — С. 156-159. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.

Представлены результаты исследований получения карбида бора водородным восстановлением треххлористого бора (BCl₃) в парах толуола (C₇H₈). Рассмотрены термодинамика процесса осаждения, газодинамические параметры парогазового потока при обтекании покрываемой поверхности в проточном реакторе. Исследованы кинетические особенности осаждения карбида бора в системе BCl₃-C₇H₈-H₂. Представлено результати досліджень отримання карбіду бору водневим відновленням трихлористого бору (BCl₃) у парах толуолу (C₇H₈). Розглянуто термодинаміку процесу осадження, газодинамічні параметри парогазового потоку при обтіканні поверхні, що покривається, у проточному реакторі. Досліджено кінетичні особливості осадження карбіду бору в системі BCl₃-C₇H₈-H₂. This paper presents the results of studies produce boron carbide hydrogen reduction of boron trichloride (BCl₃) and (C₇H₈) in toluene vapor. Considered the thermodynamics of the deposition process, gas-dynamic parameters of steam and gas flow in the flow of the substrate during vapor deposition of coatings in a flow reactor. The kinetic features of deposition of boron carbide in the system BCl₃-C₇H₈-H₂.