Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення
З використанням іонно-плазмової розрядної системи одержано діелектричні шари
 нітриду алюмінію, що мають нанорозмірну структуру. Товщина шарів коливається
 від 35 до 50 μm при розмірі зерен 60…400 nm. Шорсткість поверхні при цьому знаходиться в межах 12…20 μm. Діелектричний шар склад...
Saved in:
| Published in: | Фізико-хімічна механіка матеріалів |
|---|---|
| Date: | 2013 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Ukrainian |
| Published: |
Фізико-механічний інститут ім. Г.В. Карпенка НАН України
2013
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136065 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення / З.А. Дурягіна, В.Я. Підкова // Фізико-хімічна механіка матеріалів. — 2013. — Т. 49, № 3. — С. 74-79. — Бібліогр.: 9 назв. — укp. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862547517922607104 |
|---|---|
| author | Дурягіна, З.А. Підкова, В.Я. |
| author_facet | Дурягіна, З.А. Підкова, В.Я. |
| citation_txt | Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення / З.А. Дурягіна, В.Я. Підкова // Фізико-хімічна механіка матеріалів. — 2013. — Т. 49, № 3. — С. 74-79. — Бібліогр.: 9 назв. — укp. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Фізико-хімічна механіка матеріалів |
| description | З використанням іонно-плазмової розрядної системи одержано діелектричні шари
нітриду алюмінію, що мають нанорозмірну структуру. Товщина шарів коливається
від 35 до 50 μm при розмірі зерен 60…400 nm. Шорсткість поверхні при цьому знаходиться в межах 12…20 μm. Діелектричний шар складається з фази AlN структурного типу ZnO з періодом комірки a = 3,10 Å, c = 4,998 Å. Зерна фази текстуровані
за напрямком [001].
С использованием ионно-плазменной разрядной системы получено диэлектрические слои нитрида алюминия, которые имеют наноразмерную структуру. Толщина слоев колеблется от 35 до 50 μm при размере зерен 60…400 nm. Шероховатость поверхности при этом находится в пределах 12…20 μm. Диэлектрический слой состоит из
фазы AlN структурного типа ZnO с периодом ячейки a = 3,10 Å, c = 4,998 Å. Зерна фазы
текстурированны по направлению [001].
Using the ion-plasma discharge system the aluminium nitride dielectric films
with nanoscale structure were obtained. The thickness of layers varies from 35 to 50 μm with a
grain size of 60…400 nm. Surface roughness is 12…20 μm. Type of crystal lattice is ZnO with
periods a = 3.10 Å, c = 4.998 Å. Grains of phase are textured in direction [001].
|
| first_indexed | 2025-11-25T15:56:34Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-136065 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 0430-6252 |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2025-11-25T15:56:34Z |
| publishDate | 2013 |
| publisher | Фізико-механічний інститут ім. Г.В. Карпенка НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Дурягіна, З.А. Підкова, В.Я. 2018-06-15T18:53:44Z 2018-06-15T18:53:44Z 2013 Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення / З.А. Дурягіна, В.Я. Підкова // Фізико-хімічна механіка матеріалів. — 2013. — Т. 49, № 3. — С. 74-79. — Бібліогр.: 9 назв. — укp. 0430-6252 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136065 З використанням іонно-плазмової розрядної системи одержано діелектричні шари
 нітриду алюмінію, що мають нанорозмірну структуру. Товщина шарів коливається
 від 35 до 50 μm при розмірі зерен 60…400 nm. Шорсткість поверхні при цьому знаходиться в межах 12…20 μm. Діелектричний шар складається з фази AlN структурного типу ZnO з періодом комірки a = 3,10 Å, c = 4,998 Å. Зерна фази текстуровані
 за напрямком [001]. С использованием ионно-плазменной разрядной системы получено диэлектрические слои нитрида алюминия, которые имеют наноразмерную структуру. Толщина слоев колеблется от 35 до 50 μm при размере зерен 60…400 nm. Шероховатость поверхности при этом находится в пределах 12…20 μm. Диэлектрический слой состоит из
 фазы AlN структурного типа ZnO с периодом ячейки a = 3,10 Å, c = 4,998 Å. Зерна фазы
 текстурированны по направлению [001]. Using the ion-plasma discharge system the aluminium nitride dielectric films
 with nanoscale structure were obtained. The thickness of layers varies from 35 to 50 μm with a
 grain size of 60…400 nm. Surface roughness is 12…20 μm. Type of crystal lattice is ZnO with
 periods a = 3.10 Å, c = 4.998 Å. Grains of phase are textured in direction [001]. uk Фізико-механічний інститут ім. Г.В. Карпенка НАН України Фізико-хімічна механіка матеріалів Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення Строение слоев нитрида алюминия, сформированных ионно-плазменным напылением Structure of aluminum nitride layers formed under ion-plasma spraying Article published earlier |
| spellingShingle | Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення Дурягіна, З.А. Підкова, В.Я. |
| title | Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення |
| title_alt | Строение слоев нитрида алюминия, сформированных ионно-плазменным напылением Structure of aluminum nitride layers formed under ion-plasma spraying |
| title_full | Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення |
| title_fullStr | Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення |
| title_full_unstemmed | Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення |
| title_short | Будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення |
| title_sort | будова шарів нітриду алюмінію, сформованих під час іонно-плазмового напилення |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136065 |
| work_keys_str_mv | AT durâgínaza budovašarívnítridualûmíníûsformovanihpídčasíonnoplazmovogonapilennâ AT pídkovavâ budovašarívnítridualûmíníûsformovanihpídčasíonnoplazmovogonapilennâ AT durâgínaza stroeniesloevnitridaalûminiâsformirovannyhionnoplazmennymnapyleniem AT pídkovavâ stroeniesloevnitridaalûminiâsformirovannyhionnoplazmennymnapyleniem AT durâgínaza structureofaluminumnitridelayersformedunderionplasmaspraying AT pídkovavâ structureofaluminumnitridelayersformedunderionplasmaspraying |