Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2017
• Main Authors: Афанасьева, И.А., Бобков, В.В., Грицына, В.В., Ковтун, К.В., Коппе, В.Т., Литвинов, В.А., Оксенюк, И.И., Ховрич, С.В., Шевченко, Д.И.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2017
• Subjects: Ядерная физика и элементарные частицы
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136146
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава / И.А. Афанасьева, В.В. Бобков, В.В. Грицына, К.В. Ковтун, В.Т. Коппе, В.А. Литвинов, И.И. Оксенюк, С.В. Ховрич, Д.И. Шевченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 4. — С. 39-46. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.

Эмиссия вторичных ионов и возбужденных частиц при ионной бомбардировке исследована методами вторичной ионной масс-спектрометрии (ВИМС) и ионно-фотонной спектрометрии (ИФС). Установлено, что зависимость выхода вторичных частиц от дозы облучения (вплоть до 3,5·10¹⁷ ион·см⁻²) имеет различный вид для частиц, выбитых из химических соединений на поверхности и из объема мишени. Показано, что пространственное распределение излучения вторичных возбужденных частиц отличается для аморфного и кристаллического стекол. Из анализа влияния процесса резонансной ионизации на вероятность отлета частиц в возбужденном состоянии сделана оценка значения работы выхода объемного аморфного стекла Zr₄₁Ti₁₄Cu₀₁₂̦₅Ni₁₀Be₂₂̦₅ (3,93 < φ < 4,131 эВ). Емісія вторинних іонів та збуджених частинок при іонному бомбардуванні досліджена методами вторинної іонної мас-спектрометрії (ВІМС) та іонно-фотонної спектрометрії (ІФС). Встановлено, що залежність виходу вторинних частинок від дози опромінення (до 3,5·10¹⁷ іон·см⁻²) має різний вигляд для частинок, вибитих з хімічних сполук на поверхні та з об’єму мішені. Показано, що просторовий розподіл випромінювання вторинних збуджених частинок відрізняється для аморфного і кристалічного скла. З аналізу впливу процесу резонансної іонізації на ймовірність відльоту частинок у збудженому стані зроблена оцінка значення роботи виходу об'ємного аморфного скла Zr₄₁Ti₁₄Cu₀₁₂̦₅Ni₁₀Be₂₂̦₅ (3,93 < φ < 4,131 еВ). The emission of secondary ions and excited particles under ion bombardment of the zirconium alloy (metallic glass) was studied by methods of secondary ion mass spectrometry (SIMS) and ion-photon spectrometry (IPS). It was ascertained that the dependence of the secondary particles yield on the radiation dose (up to 3.5·10¹⁷ ion·cm⁻²) is different for the particles knocked out from the chemical compounds surface and for those knocked out from the target volume. It is shown that the spatial distribution of the secondary excited particles the amorphous metallic glass differs from that for the crystalline glass. From the analysis of the effect of resonant ionization process on the probability flying off of the excited particles, the work function of the bulk metallic glasses Zr₄₁Ti₁₄Cu₀₁₂̦₅Ni₁₀Be₂₂̦₅ (3.93 < φ < 4.131 eV) was estimated.