Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава
Эмиссия вторичных ионов и возбужденных частиц при ионной бомбардировке исследована методами вторичной ионной масс-спектрометрии (ВИМС) и ионно-фотонной спектрометрии (ИФС). Установлено, что зависимость выхода вторичных частиц от дозы облучения (вплоть до 3,5·10¹⁷ ион·см⁻²) имеет различный вид для ча...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2017 |
| ISSN: | 1562-6016 |
| Hauptverfasser: | , , , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2017
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136146 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава / И.А. Афанасьева, В.В. Бобков, В.В. Грицына, К.В. Ковтун, В.Т. Коппе, В.А. Литвинов, И.И. Оксенюк, С.В. Ховрич, Д.И. Шевченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 4. — С. 39-46. — Бібліогр.: 16 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862726995431915520 |
|---|---|
| author | Афанасьева, И.А. Бобков, В.В. Грицына, В.В. Ковтун, К.В. Коппе, В.Т. Литвинов, В.А. Оксенюк, И.И. Ховрич, С.В. Шевченко, Д.И. |
| author_facet | Афанасьева, И.А. Бобков, В.В. Грицына, В.В. Ковтун, К.В. Коппе, В.Т. Литвинов, В.А. Оксенюк, И.И. Ховрич, С.В. Шевченко, Д.И. |
| citation_txt | Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава / И.А. Афанасьева, В.В. Бобков, В.В. Грицына, К.В. Ковтун, В.Т. Коппе, В.А. Литвинов, И.И. Оксенюк, С.В. Ховрич, Д.И. Шевченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 4. — С. 39-46. — Бібліогр.: 16 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Эмиссия вторичных ионов и возбужденных частиц при ионной бомбардировке исследована методами вторичной ионной масс-спектрометрии (ВИМС) и ионно-фотонной спектрометрии (ИФС). Установлено, что зависимость выхода вторичных частиц от дозы облучения (вплоть до 3,5·10¹⁷ ион·см⁻²) имеет различный вид для частиц, выбитых из химических соединений на поверхности и из объема мишени. Показано, что пространственное распределение излучения вторичных возбужденных частиц отличается для аморфного и кристаллического стекол. Из анализа влияния процесса резонансной ионизации на вероятность отлета частиц в возбужденном состоянии сделана оценка значения работы выхода объемного аморфного стекла Zr₄₁Ti₁₄Cu₀₁₂̦₅Ni₁₀Be₂₂̦₅ (3,93 < φ < 4,131 эВ).
Емісія вторинних іонів та збуджених частинок при іонному бомбардуванні досліджена методами вторинної іонної мас-спектрометрії (ВІМС) та іонно-фотонної спектрометрії (ІФС). Встановлено, що залежність виходу вторинних частинок від дози опромінення (до 3,5·10¹⁷ іон·см⁻²) має різний вигляд для частинок, вибитих з хімічних сполук на поверхні та з об’єму мішені. Показано, що просторовий розподіл випромінювання вторинних збуджених частинок відрізняється для аморфного і кристалічного скла. З аналізу впливу процесу резонансної іонізації на ймовірність відльоту частинок у збудженому стані зроблена оцінка значення роботи виходу об'ємного аморфного скла Zr₄₁Ti₁₄Cu₀₁₂̦₅Ni₁₀Be₂₂̦₅ (3,93 < φ < 4,131 еВ).
The emission of secondary ions and excited particles under ion bombardment of the zirconium alloy (metallic glass) was studied by methods of secondary ion mass spectrometry (SIMS) and ion-photon spectrometry (IPS). It was ascertained that the dependence of the secondary particles yield on the radiation dose (up to 3.5·10¹⁷ ion·cm⁻²) is different for the particles knocked out from the chemical compounds surface and for those knocked out from the target volume. It is shown that the spatial distribution of the secondary excited particles the amorphous metallic glass differs from that for the crystalline glass. From the analysis of the effect of resonant ionization process on the probability flying off of the excited particles, the work function of the bulk metallic glasses Zr₄₁Ti₁₄Cu₀₁₂̦₅Ni₁₀Be₂₂̦₅ (3.93 < φ < 4.131 eV) was estimated.
|
| first_indexed | 2025-12-07T19:00:02Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-136146 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T19:00:02Z |
| publishDate | 2017 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Афанасьева, И.А. Бобков, В.В. Грицына, В.В. Ковтун, К.В. Коппе, В.Т. Литвинов, В.А. Оксенюк, И.И. Ховрич, С.В. Шевченко, Д.И. 2018-06-16T06:01:56Z 2018-06-16T06:01:56Z 2017 Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава / И.А. Афанасьева, В.В. Бобков, В.В. Грицына, К.В. Ковтун, В.Т. Коппе, В.А. Литвинов, И.И. Оксенюк, С.В. Ховрич, Д.И. Шевченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 4. — С. 39-46. — Бібліогр.: 16 назв. — рос. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136146 535.376 Эмиссия вторичных ионов и возбужденных частиц при ионной бомбардировке исследована методами вторичной ионной масс-спектрометрии (ВИМС) и ионно-фотонной спектрометрии (ИФС). Установлено, что зависимость выхода вторичных частиц от дозы облучения (вплоть до 3,5·10¹⁷ ион·см⁻²) имеет различный вид для частиц, выбитых из химических соединений на поверхности и из объема мишени. Показано, что пространственное распределение излучения вторичных возбужденных частиц отличается для аморфного и кристаллического стекол. Из анализа влияния процесса резонансной ионизации на вероятность отлета частиц в возбужденном состоянии сделана оценка значения работы выхода объемного аморфного стекла Zr₄₁Ti₁₄Cu₀₁₂̦₅Ni₁₀Be₂₂̦₅ (3,93 < φ < 4,131 эВ). Емісія вторинних іонів та збуджених частинок при іонному бомбардуванні досліджена методами вторинної іонної мас-спектрометрії (ВІМС) та іонно-фотонної спектрометрії (ІФС). Встановлено, що залежність виходу вторинних частинок від дози опромінення (до 3,5·10¹⁷ іон·см⁻²) має різний вигляд для частинок, вибитих з хімічних сполук на поверхні та з об’єму мішені. Показано, що просторовий розподіл випромінювання вторинних збуджених частинок відрізняється для аморфного і кристалічного скла. З аналізу впливу процесу резонансної іонізації на ймовірність відльоту частинок у збудженому стані зроблена оцінка значення роботи виходу об'ємного аморфного скла Zr₄₁Ti₁₄Cu₀₁₂̦₅Ni₁₀Be₂₂̦₅ (3,93 < φ < 4,131 еВ). The emission of secondary ions and excited particles under ion bombardment of the zirconium alloy (metallic glass) was studied by methods of secondary ion mass spectrometry (SIMS) and ion-photon spectrometry (IPS). It was ascertained that the dependence of the secondary particles yield on the radiation dose (up to 3.5·10¹⁷ ion·cm⁻²) is different for the particles knocked out from the chemical compounds surface and for those knocked out from the target volume. It is shown that the spatial distribution of the secondary excited particles the amorphous metallic glass differs from that for the crystalline glass. From the analysis of the effect of resonant ionization process on the probability flying off of the excited particles, the work function of the bulk metallic glasses Zr₄₁Ti₁₄Cu₀₁₂̦₅Ni₁₀Be₂₂̦₅ (3.93 < φ < 4.131 eV) was estimated. ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Ядерная физика и элементарные частицы Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава Вплив відпалу на емісію вторинних частинок з поверхні цирконіевого сплаву Effect of annealing on the secondary particles emission from the zirconium alloy surface Article published earlier |
| spellingShingle | Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава Афанасьева, И.А. Бобков, В.В. Грицына, В.В. Ковтун, К.В. Коппе, В.Т. Литвинов, В.А. Оксенюк, И.И. Ховрич, С.В. Шевченко, Д.И. Ядерная физика и элементарные частицы |
| title | Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава |
| title_alt | Вплив відпалу на емісію вторинних частинок з поверхні цирконіевого сплаву Effect of annealing on the secondary particles emission from the zirconium alloy surface |
| title_full | Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава |
| title_fullStr | Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава |
| title_full_unstemmed | Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава |
| title_short | Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава |
| title_sort | влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава |
| topic | Ядерная физика и элементарные частицы |
| topic_facet | Ядерная физика и элементарные частицы |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136146 |
| work_keys_str_mv | AT afanasʹevaia vliânieotžiganaémissiûvtoričnyhčasticspoverhnosticirkonievogosplava AT bobkovvv vliânieotžiganaémissiûvtoričnyhčasticspoverhnosticirkonievogosplava AT gricynavv vliânieotžiganaémissiûvtoričnyhčasticspoverhnosticirkonievogosplava AT kovtunkv vliânieotžiganaémissiûvtoričnyhčasticspoverhnosticirkonievogosplava AT koppevt vliânieotžiganaémissiûvtoričnyhčasticspoverhnosticirkonievogosplava AT litvinovva vliânieotžiganaémissiûvtoričnyhčasticspoverhnosticirkonievogosplava AT oksenûkii vliânieotžiganaémissiûvtoričnyhčasticspoverhnosticirkonievogosplava AT hovričsv vliânieotžiganaémissiûvtoričnyhčasticspoverhnosticirkonievogosplava AT ševčenkodi vliânieotžiganaémissiûvtoričnyhčasticspoverhnosticirkonievogosplava AT afanasʹevaia vplivvídpalunaemísíûvtorinnihčastinokzpoverhnícirkoníevogosplavu AT bobkovvv vplivvídpalunaemísíûvtorinnihčastinokzpoverhnícirkoníevogosplavu AT gricynavv vplivvídpalunaemísíûvtorinnihčastinokzpoverhnícirkoníevogosplavu AT kovtunkv vplivvídpalunaemísíûvtorinnihčastinokzpoverhnícirkoníevogosplavu AT koppevt vplivvídpalunaemísíûvtorinnihčastinokzpoverhnícirkoníevogosplavu AT litvinovva vplivvídpalunaemísíûvtorinnihčastinokzpoverhnícirkoníevogosplavu AT oksenûkii vplivvídpalunaemísíûvtorinnihčastinokzpoverhnícirkoníevogosplavu AT hovričsv vplivvídpalunaemísíûvtorinnihčastinokzpoverhnícirkoníevogosplavu AT ševčenkodi vplivvídpalunaemísíûvtorinnihčastinokzpoverhnícirkoníevogosplavu AT afanasʹevaia effectofannealingonthesecondaryparticlesemissionfromthezirconiumalloysurface AT bobkovvv effectofannealingonthesecondaryparticlesemissionfromthezirconiumalloysurface AT gricynavv effectofannealingonthesecondaryparticlesemissionfromthezirconiumalloysurface AT kovtunkv effectofannealingonthesecondaryparticlesemissionfromthezirconiumalloysurface AT koppevt effectofannealingonthesecondaryparticlesemissionfromthezirconiumalloysurface AT litvinovva effectofannealingonthesecondaryparticlesemissionfromthezirconiumalloysurface AT oksenûkii effectofannealingonthesecondaryparticlesemissionfromthezirconiumalloysurface AT hovričsv effectofannealingonthesecondaryparticlesemissionfromthezirconiumalloysurface AT ševčenkodi effectofannealingonthesecondaryparticlesemissionfromthezirconiumalloysurface |