Зображення обкладинки

Influence of intensive etching processes on structure and properties of carbon nitride films

The influence of electromagnetic radiation and oxygen impurity in the growth atmosphere on the growth processes of nanostructured carbon nitride CNx films has been studied. The oxygen impurity in the gas mixture and an UV irradiation has been found to decrease the thickness and refraction index of c...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Functional Materials
Дата:2008
Автори: Shalaev, R.V., Varyukhin, V.N., Prudnikov, A.M., Linnik, A.I., Zhikharev, I.V., Belousov, N.N., Raspornya, D.V., Ulyanov, A.N.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2008
Теми:
Technology
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136548
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Influence of intensive etching processes on structure and properties of carbon nitride films // R.V. Shalaev, V.N. Varyukhin, A.M. Prudnikov, A.I. Linnik, I.V. Zhikharev, N.N. Belousov, D.V. Raspornya, A.N. Ulyanov // Functional Materials. — 2008. — Т. 15, № 4. — С. 580-584. — Бібліогр.: 15 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Схожі ресурси