Double-layer ITO/Al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters
It has been shown that to increase the efficiency and manufacturability of single-crystal silicon photovoltaic solar energy converters (Si-PVC) with 180-200 μm thick base crystals having a polished photoreceiving surface and double-layer back surface reflector (BSR) consisting of a transparent oxide...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Functional Materials |
|---|---|
| Datum: | 2008 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
2008
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136554 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Double-layer ITO/Al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters // V.R.Kopach, M.V. Kirichenko, S.V. Shramko, R.V. Zaitsev // Functional Materials. — 2008. — Т. 15, № 4. — С. 604-607. — Бібліогр.: 20 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-136554 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Kopach, V.R. Kirichenko, M.V. Shramko, S.V. Zaitsev, R.V. 2018-06-16T13:40:51Z 2018-06-16T13:40:51Z 2008 Double-layer ITO/Al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters // V.R.Kopach, M.V. Kirichenko, S.V. Shramko, R.V. Zaitsev // Functional Materials. — 2008. — Т. 15, № 4. — С. 604-607. — Бібліогр.: 20 назв. — англ. 1027-5495 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136554 It has been shown that to increase the efficiency and manufacturability of single-crystal silicon photovoltaic solar energy converters (Si-PVC) with 180-200 μm thick base crystals having a polished photoreceiving surface and double-layer back surface reflector (BSR) consisting of a transparent oxide and aluminum layers, a conductive transparent indium-tin oxide (ITO) layer of 0.25 μm interference thickness is to be used as the nonmetallic BSR layer. It provides the ITO/Al BSR reflection coefficient in the range of 85 < R < 96 % for solar radiation photoactive component incident the Si-PVC back surface at substantially zero contribution of ITO layer resistance to the device series resistance. In the case of Si-PVC with inverted pyramid type texture of crystal photoreceiving surface at which the specificity of light distribution in the crystal causes total reflection of radiation from Si/ITO interface, the ITO layer thickness should be experimentally optimized in the 1-2 μm range independently of base crystal thickness to minimize the photoactive radiation losses and ITO layer resistance. Показано, що для підвищення ефективності роботи і технологічності виготовлення монокристалічних кремнієвих фотоелектричних перетворювачів (Sі-ФЕП) сонячної енергії з товщиною базових кристалів 180+200 мкм, які мають поліровану фотоприймальну поверхню та двошаровий тильно-поверхневий рефлектор (ТПР), що складається з шарів прозорого оксиду та алюмінію, необхідно в якості неметалічного шару ТПР використовувати провідний прозорий шар із індій-олов'яного оксиду (ІТО) з інтерференційною товщиною 0.25 мкм. Це забезпечує коефіцієнт відбиття ІТО/АІ ТПР у межах 85 < R < 96 % для фотоактивної компоненти сонячного випромінювання, що падає на тильну поверхню Sі-ФЕП, при практично нульовому внеску опору шару ІТО у послідовний опір приладу. У випадку Sі-ФЕП з текстурою фотоприймальної поверхні кристала типу інвертованих пірамід, при якій специфіка поширення світла у кристалі обумовлює реалізацію ефекту повного внутрішнього відбивання випромінювання від границі розділу Sі/ІТО, для мінімізації втрат енергії фотоактивного випромінювання та опору шару ІТО його товщину слід експериментально оптимізувати у межах значень 1+2 мкм незалежно від товщини базового кристала. Показано, что для повышения эффективности работы и технологичности изготовления монокристаллических кремниевых фотоэлектрических преобразователей (Si-ФЭП) солнечной энергии с толщиной базовых кристаллов 180+200 мкм, имеющих полированную фотоприемную поверхность и двухслойный тыльно-поверхностный рефлектор (ТПР), состоящий из слоев прозрачного оксида и алюминия, необходимо в качестве неметаллического слоя ТПР использовать проводящий прозрачный слой из индий-оловяного оксида (IТО) с интерференционной толщиной 0.25 мкм. Это обеспечивает коэффициент отражения IТO/AI ТПР в пределах 85 < R < 96 % для поступающей на тыльную поверхность Si-ФЭП фотоактивной компоненты солнечного излучения при практически нулевом вкладе сопротивления слоя IТО в последовательное сопротивление прибора. В случае Si-ФЭП с текстурой фотоприемной поверхности кристалла типа инвертированных пирамид, при которой специфика распространения света в кристалле обусловливает реализацию эффекта полного внутреннего отражения излучения от границы раздела Si/ITO, для минимизации потерь энергии фотоактивного излучения и сопротивления слоя IТО его толщину следует экспериментально оптимизировать в пределах значений 1+2 мкм независимо от толщины базового кристалла. en НТК «Інститут монокристалів» НАН України Functional Materials Technology Double-layer ITO/Al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters Двошаровий ІТО/АІ тильно-поверхневий рефлектор для одноперехідних кремнієвих фотоперетворювачів Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Double-layer ITO/Al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters |
| spellingShingle |
Double-layer ITO/Al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters Kopach, V.R. Kirichenko, M.V. Shramko, S.V. Zaitsev, R.V. Technology |
| title_short |
Double-layer ITO/Al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters |
| title_full |
Double-layer ITO/Al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters |
| title_fullStr |
Double-layer ITO/Al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters |
| title_full_unstemmed |
Double-layer ITO/Al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters |
| title_sort |
double-layer ito/al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters |
| author |
Kopach, V.R. Kirichenko, M.V. Shramko, S.V. Zaitsev, R.V. |
| author_facet |
Kopach, V.R. Kirichenko, M.V. Shramko, S.V. Zaitsev, R.V. |
| topic |
Technology |
| topic_facet |
Technology |
| publishDate |
2008 |
| language |
English |
| container_title |
Functional Materials |
| publisher |
НТК «Інститут монокристалів» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Двошаровий ІТО/АІ тильно-поверхневий рефлектор для одноперехідних кремнієвих фотоперетворювачів |
| description |
It has been shown that to increase the efficiency and manufacturability of single-crystal silicon photovoltaic solar energy converters (Si-PVC) with 180-200 μm thick base crystals having a polished photoreceiving surface and double-layer back surface reflector (BSR) consisting of a transparent oxide and aluminum layers, a conductive transparent indium-tin oxide (ITO) layer of 0.25 μm interference thickness is to be used as the nonmetallic BSR layer. It provides the ITO/Al BSR reflection coefficient in the range of 85 < R < 96 % for solar radiation photoactive component incident the Si-PVC back surface at substantially zero contribution of ITO layer resistance to the device series resistance. In the case of Si-PVC with inverted pyramid type texture of crystal photoreceiving surface at which the specificity of light distribution in the crystal causes total reflection of radiation from Si/ITO interface, the ITO layer thickness should be experimentally optimized in the 1-2 μm range independently of base crystal thickness to minimize the photoactive radiation losses and ITO layer resistance.
Показано, що для підвищення ефективності роботи і технологічності виготовлення монокристалічних кремнієвих фотоелектричних перетворювачів (Sі-ФЕП) сонячної енергії з товщиною базових кристалів 180+200 мкм, які мають поліровану фотоприймальну поверхню та двошаровий тильно-поверхневий рефлектор (ТПР), що складається з шарів прозорого оксиду та алюмінію, необхідно в якості неметалічного шару ТПР використовувати провідний прозорий шар із індій-олов'яного оксиду (ІТО) з інтерференційною товщиною 0.25 мкм. Це забезпечує коефіцієнт відбиття ІТО/АІ ТПР у межах 85 < R < 96 % для фотоактивної компоненти сонячного випромінювання, що падає на тильну поверхню Sі-ФЕП, при практично нульовому внеску опору шару ІТО у послідовний опір приладу. У випадку Sі-ФЕП з текстурою фотоприймальної поверхні кристала типу інвертованих пірамід, при якій специфіка поширення світла у кристалі обумовлює реалізацію ефекту повного внутрішнього відбивання випромінювання від границі розділу Sі/ІТО, для мінімізації втрат енергії фотоактивного випромінювання та опору шару ІТО його товщину слід експериментально оптимізувати у межах значень 1+2 мкм незалежно від товщини базового кристала.
Показано, что для повышения эффективности работы и технологичности изготовления монокристаллических кремниевых фотоэлектрических преобразователей (Si-ФЭП) солнечной энергии с толщиной базовых кристаллов 180+200 мкм, имеющих полированную фотоприемную поверхность и двухслойный тыльно-поверхностный рефлектор (ТПР), состоящий из слоев прозрачного оксида и алюминия, необходимо в качестве неметаллического слоя ТПР использовать проводящий прозрачный слой из индий-оловяного оксида (IТО) с интерференционной толщиной 0.25 мкм. Это обеспечивает коэффициент отражения IТO/AI ТПР в пределах 85 < R < 96 % для поступающей на тыльную поверхность Si-ФЭП фотоактивной компоненты солнечного излучения при практически нулевом вкладе сопротивления слоя IТО в последовательное сопротивление прибора. В случае Si-ФЭП с текстурой фотоприемной поверхности кристалла типа инвертированных пирамид, при которой специфика распространения света в кристалле обусловливает реализацию эффекта полного внутреннего отражения излучения от границы раздела Si/ITO, для минимизации потерь энергии фотоактивного излучения и сопротивления слоя IТО его толщину следует экспериментально оптимизировать в пределах значений 1+2 мкм независимо от толщины базового кристалла.
|
| issn |
1027-5495 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136554 |
| citation_txt |
Double-layer ITO/Al back surface reflector for single-junction silicon photoconverters // V.R.Kopach, M.V. Kirichenko, S.V. Shramko, R.V. Zaitsev // Functional Materials. — 2008. — Т. 15, № 4. — С. 604-607. — Бібліогр.: 20 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT kopachvr doublelayeritoalbacksurfacereflectorforsinglejunctionsiliconphotoconverters AT kirichenkomv doublelayeritoalbacksurfacereflectorforsinglejunctionsiliconphotoconverters AT shramkosv doublelayeritoalbacksurfacereflectorforsinglejunctionsiliconphotoconverters AT zaitsevrv doublelayeritoalbacksurfacereflectorforsinglejunctionsiliconphotoconverters AT kopachvr dvošaroviiítoaítilʹnopoverhneviireflektordlâodnoperehídnihkremníêvihfotoperetvorûvačív AT kirichenkomv dvošaroviiítoaítilʹnopoverhneviireflektordlâodnoperehídnihkremníêvihfotoperetvorûvačív AT shramkosv dvošaroviiítoaítilʹnopoverhneviireflektordlâodnoperehídnihkremníêvihfotoperetvorûvačív AT zaitsevrv dvošaroviiítoaítilʹnopoverhneviireflektordlâodnoperehídnihkremníêvihfotoperetvorûvačív |
| first_indexed |
2025-11-28T01:19:41Z |
| last_indexed |
2025-11-28T01:19:41Z |
| _version_ |
1850853019599503360 |