Formation of porous zinc nanosystems using direct and reverse flows of DC magnetron sputtering
The work is devoted to comparative analysis of two technological solutions for Zn nanosystems formation which have been implemented on the basis of direct-current magnetron sputtering. In the first case, conventional magnetron sputtering was used and direct flows were deposited on the substrate posi...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Functional Materials |
|---|---|
| Дата: | 2017 |
| Автори: | Latyshev, V.M., Perekrestov, V.I., Kornyushchenko, A.S., Zahaiko, I.V. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
2017
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136669 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Formation of porous zinc nanosystems using direct and reverse flows of DC magnetron sputtering / V.M. Latyshev, V.I. Perekrestov, A.S. Kornyushchenko, I.V. Zahaiko // Functional Materials. — 2017. — Т. 24, № 1. — С. 154-161. — Бібліогр.: 35 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)
Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015)
Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn₁₋xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
за авторством: Kolomys, O., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Kolomys, O., та інші
Опубліковано: (2014)
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn1-xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
за авторством: O. Kolomys, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. Kolomys, та інші
Опубліковано: (2014)
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
Synthesis of dielectric compounds based on a DC magnetron
за авторством: O. V. Zykov, та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: O. V. Zykov, та інші
Опубліковано: (2009)
Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)
Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)
Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
Phase composition, structure and stress state of magnetron sputtered W-Ti condensates
за авторством: Sobol`, O.V.
Опубліковано: (2006)
за авторством: Sobol`, O.V.
Опубліковано: (2006)
Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
за авторством: Bogdanov, R.V., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Bogdanov, R.V., та інші
Опубліковано: (2013)
Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
Influence of parameters of magnetron sputtering process on phase composition and structure of carbon nitride coatings
за авторством: Yu. S. Borysov, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Yu. S. Borysov, та інші
Опубліковано: (2022)
Infrared heaters with thin-film conductive layers were synthesized on the glass by the magnetron sputtering
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
за авторством: O. I. Vjunov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. I. Vjunov, та інші
Опубліковано: (2014)
Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
Control of planar magnetron sputtering system operating modes by additional anode magnetic field
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)
ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)
Brillouin and kynetic flows in a magnetron diode
за авторством: Agafonov, A.V.
Опубліковано: (2004)
за авторством: Agafonov, A.V.
Опубліковано: (2004)
Zinc oxide nanoparticles fabricated in the porous silica matrix by the sublimation method
за авторством: Yu. Rudko, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Yu. Rudko, та інші
Опубліковано: (2015)
Схожі ресурси
-
Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014) -
Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012) -
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005) -
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015) -
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)