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Growth and structure of WC/Si multilayer x-ray mirror

WC/Si multilayer X-ray mirrors (MXMs) with nominal layers thicknesses of 0.2…30.3 nm (periods: 0.7…38.9 nm) were deposited by direct current magnetron sputtering and studied by X-ray diffraction and cross-sectional transmission electron microscopy (TEM). Carbide and silicon layers are amorphous thro...

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Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2018
Hauptverfasser:	Pershyn, Y.P., Chumak, V.S., Shypkova, I.G., Mamon, V.V., Devizenko, A.Yu., Kondratenko, V.V., Reshetnyak, M.V., Zubarev, E.N.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2018
Schlagworte:	Физика и технология конструкционных материалов
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/137337
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Growth and structure of WC/Si multilayer x-ray mirror / Y.P. Pershyn, V.S. Chumak, I.G. Shypkova, V.V. Mamon, A.Yu. Devizenko, V.V. Kondratenko, M.V. Reshetnyak, E.N. Zubarev // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 1. — С. 69-76. — Бібліогр.: 8 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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