Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid

The peculiarities of CdТе, CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Те single crystals dissolution in the solutions of HN0₃-HCl-citric acid system are investigated and the surfaces of equal etching rates (Gibbs diagrams) are constructed. The limiting stages of dissolution process and regions of polishing so...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Functional Materials
Datum:2005
Hauptverfasser: Tomashik, Z.F., Bilevych, Ye.O., Feichuk, P.I., Tomashik, V.M.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2005
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/137710
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid / Z.F. Tomashik, Ye.O. Bilevych, P.I. Feichuk, V.M. Tomashik // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 2. — С. 396-400. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-137710
record_format dspace
spelling Tomashik, Z.F.
Bilevych, Ye.O.
Feichuk, P.I.
Tomashik, V.M.
2018-06-17T15:17:03Z
2018-06-17T15:17:03Z
2005
Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid / Z.F. Tomashik, Ye.O. Bilevych, P.I. Feichuk, V.M. Tomashik // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 2. — С. 396-400. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.
1027-5495
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/137710
The peculiarities of CdТе, CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Те single crystals dissolution in the solutions of HN0₃-HCl-citric acid system are investigated and the surfaces of equal etching rates (Gibbs diagrams) are constructed. The limiting stages of dissolution process and regions of polishing solutions for these semiconductors are determined. Increasing of ZnТе contents in the Cd₁-ₓZnₓТе solid solutions has been shown to result in a linear increasing of dissolution rate.
Исследованы особенности растворения CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe и Те в растворах системы HNO₃-HCl-лимонная кислота и построены поверхности одинаковых скоростей растворения (диаграммы Гиббса). Определены лимитирующие стадии процесса растворения и области растворов, которые могут использоваться для химического полирования этих полупроводников. Показано, что увеличение содержания ZnТе в составе твердых растворов Cd₁-ₓZnₓТе приводит к линейному увеличению скорости растворения.
Дослiджено особливостi розчинення монокристалiв CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe та Те в розчинах системи HNO₃-HCl-лимонна кислота та побудовано поверхнi однакових швидкостей розчинення (дiаграми Гiббса). Визначено лiмiтуючi стадi'ї процесу розчинення та областi розчинiв, що можуть використовуватися для хiмiчного полiрування цих напiвпровiдникiв. Показано, що збiльшення вмiсту ZnТе у складi твердих розчинiв Cd₁-ₓZnₓТе приводить до лiнiйного збiльшення швидкостi розчинення.
en
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
Functional Materials
Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid
Хімічне травлення CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe та Те у розчинах HNO₃-HCl-лимонна кислота
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid
spellingShingle Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid
Tomashik, Z.F.
Bilevych, Ye.O.
Feichuk, P.I.
Tomashik, V.M.
title_short Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid
title_full Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid
title_fullStr Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid
title_full_unstemmed Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid
title_sort chemical etching of cdte, cdₓhg₁-ₓte, znₓcd₁-ₓte and te in the hno₃-hcl-citric acid
author Tomashik, Z.F.
Bilevych, Ye.O.
Feichuk, P.I.
Tomashik, V.M.
author_facet Tomashik, Z.F.
Bilevych, Ye.O.
Feichuk, P.I.
Tomashik, V.M.
publishDate 2005
language English
container_title Functional Materials
publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України
format Article
title_alt Хімічне травлення CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe та Те у розчинах HNO₃-HCl-лимонна кислота
description The peculiarities of CdТе, CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Те single crystals dissolution in the solutions of HN0₃-HCl-citric acid system are investigated and the surfaces of equal etching rates (Gibbs diagrams) are constructed. The limiting stages of dissolution process and regions of polishing solutions for these semiconductors are determined. Increasing of ZnТе contents in the Cd₁-ₓZnₓТе solid solutions has been shown to result in a linear increasing of dissolution rate. Исследованы особенности растворения CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe и Те в растворах системы HNO₃-HCl-лимонная кислота и построены поверхности одинаковых скоростей растворения (диаграммы Гиббса). Определены лимитирующие стадии процесса растворения и области растворов, которые могут использоваться для химического полирования этих полупроводников. Показано, что увеличение содержания ZnТе в составе твердых растворов Cd₁-ₓZnₓТе приводит к линейному увеличению скорости растворения. Дослiджено особливостi розчинення монокристалiв CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe та Те в розчинах системи HNO₃-HCl-лимонна кислота та побудовано поверхнi однакових швидкостей розчинення (дiаграми Гiббса). Визначено лiмiтуючi стадi'ї процесу розчинення та областi розчинiв, що можуть використовуватися для хiмiчного полiрування цих напiвпровiдникiв. Показано, що збiльшення вмiсту ZnТе у складi твердих розчинiв Cd₁-ₓZnₓТе приводить до лiнiйного збiльшення швидкостi розчинення.
issn 1027-5495
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/137710
citation_txt Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid / Z.F. Tomashik, Ye.O. Bilevych, P.I. Feichuk, V.M. Tomashik // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 2. — С. 396-400. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT tomashikzf chemicaletchingofcdtecdxhg1xteznxcd1xteandteinthehno3hclcitricacid
AT bilevychyeo chemicaletchingofcdtecdxhg1xteznxcd1xteandteinthehno3hclcitricacid
AT feichukpi chemicaletchingofcdtecdxhg1xteznxcd1xteandteinthehno3hclcitricacid
AT tomashikvm chemicaletchingofcdtecdxhg1xteznxcd1xteandteinthehno3hclcitricacid
AT tomashikzf hímíčnetravlennâcdtecdxhg1xteznxcd1xtetateurozčinahhno3hcllimonnakislota
AT bilevychyeo hímíčnetravlennâcdtecdxhg1xteznxcd1xtetateurozčinahhno3hcllimonnakislota
AT feichukpi hímíčnetravlennâcdtecdxhg1xteznxcd1xtetateurozčinahhno3hcllimonnakislota
AT tomashikvm hímíčnetravlennâcdtecdxhg1xteznxcd1xtetateurozčinahhno3hcllimonnakislota
first_indexed 2025-12-07T15:30:13Z
last_indexed 2025-12-07T15:30:13Z
_version_ 1850863950858551296