Surface morphology and structure of nanocrystalline diamond films deposited in CH₄/H₂/Ar glow discharge plasma

Diamond films of up to 12 μm thickness have been deposited onto single crystal silicon substrates by CVD method in CH₄/H₂/Ar glow discharge plasma stabilized by magnetic field. X-ray diffraction analysis and atomic force microscopy have shown the films consist of about 1 μm in diameter conglomerates...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Functional Materials
Datum:2009
Hauptverfasser: Vyrovets, I.I., Gritsyna, V.I., Dudnik, S.F., Opalev, O.A., Reshetnyak, E.N., Strel'nitskiy, V.E.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2009
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/137726
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Surface morphology and structure of nanocrystalline diamond films deposited in CH₄/H₂/Ar glow discharge plasma // I.I. Vyrovets, V.I. Gritsyna, S.F. Dudnik, O.A. Opalev, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel'nitskiy // Functional Materials. — 2009. — Т. 16, № 2. — С. 155-160. — Бібліогр.: 13 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:Diamond films of up to 12 μm thickness have been deposited onto single crystal silicon substrates by CVD method in CH₄/H₂/Ar glow discharge plasma stabilized by magnetic field. X-ray diffraction analysis and atomic force microscopy have shown the films consist of about 1 μm in diameter conglomerates of 30-40 nm average size diamond nanocrystals. The conglomerate size increases by a factor of 2 as the film thickness grows from 1.7 up to 11.7 μm. At the same time, the nanocrystallite size remains essentially unchanged. In the diamond films, texture, compressive residual stresses and high concentration of crystal structure defects have been revealed. Алмазні плівки товщиною до 12 мкм отримано на підкладках з монокристалічного кремнію методом газофазного осадження у CH₄/H₂/Ar плазмі тліючого розряду, стабілізованого магнітним полем. Методами рентгеноструктурного аналізу та атомно-силової мікроскопії встановлено, що плівки складаються з конгломератів діаметром - 1 мкм, утворених нанокристалами алмазу із середнім розміром 30-40 нм. 3 ростом товщини плівки від 1,7 до 11,7 мкм розмір конгломератів збільшується у 2 рази. При цьому розмір нанокристалів практично не змінюється. У плівках виявлено текстуру, залишкові напруження стиску та високий вміст дефектів кристалічної структури. Алмазные пленки толщиной до 12 мкм получены на подложках из монокристаллического кремния методом газофазного осаждения в CH₄/H₂/Ar плазме тлеющего разряда, стабилизированного магнитным полем. Методами рентгеноструктурного анализа и атомно-силовой микроскопии установлено, что пленки состоят из конгломератов диаметром -1 мкм, образованных нанокристаллами алмаза со средним размером 30-40 нм. С ростом толщины rтенки от 1,7 до 11,7 мкм размер конгломератов увеличивается в 2 раза. При этом размер нанокристаллов практически не меняется. В пленках выявлены текстура, остаточные напряжения сжатия и высокое содержание дефектов кристаллического строения.
ISSN:1027-5495