Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model

Basing on the model before constructed that describes SB of thin semiconductor film included in an electronic circuit, the breakdown time and the localization size are estimated. These estimations are obtained in the frame of the one-dimensional model basing on the parabolic equations maximum princi...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Functional Materials
Datum:2004
Hauptverfasser: Virchenko, Yu.P., Vodyanitskii, Yu.P.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2004
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/138794
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model / Yu.P.Virchenko, A.A.Vodyanitskii // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 2. — С. 236-240. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-138794
record_format dspace
spelling Virchenko, Yu.P.
Vodyanitskii, Yu.P.
2018-06-19T15:25:27Z
2018-06-19T15:25:27Z
2004
Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model / Yu.P.Virchenko, A.A.Vodyanitskii // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 2. — С. 236-240. — англ.
1027-5495
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/138794
Basing on the model before constructed that describes SB of thin semiconductor film included in an electronic circuit, the breakdown time and the localization size are estimated. These estimations are obtained in the frame of the one-dimensional model basing on the parabolic equations maximum principle using some standard solutions with the sharpening.
На основе ранее построенной модели, описывающей тепловой пробой тонкой полупроводниковой плёнки, входящей в состав электронной цепи, оценивается время пробоя и размер области локализации. Эти оценки получаются, для одномерной модели, на основе принципа максимума для параболических уравнений посредством сравнения с эталонными обостряющимися решениями.
На основі побудованої раніше моделі, яка описує тепловий пробій тонкої напівпровідникової плівки, включеної в електронне коло, оцінено час пробою та розмір області локалізації. Ці оцінки одержано в рамках одновимірної моделі на основі параболічних рівнянь шляхом зіставлення з еталонними рішеннями, які загострюються.
en
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
Functional Materials
Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
Локалізація тепла та формування структури теплового пробою в напівпровідникових матеріалах. III. Аналіз одновимірної моделі
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
spellingShingle Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
Virchenko, Yu.P.
Vodyanitskii, Yu.P.
title_short Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
title_full Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
title_fullStr Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
title_full_unstemmed Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
title_sort heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. iii. analysis of the one-dimensional model
author Virchenko, Yu.P.
Vodyanitskii, Yu.P.
author_facet Virchenko, Yu.P.
Vodyanitskii, Yu.P.
publishDate 2004
language English
container_title Functional Materials
publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України
format Article
title_alt Локалізація тепла та формування структури теплового пробою в напівпровідникових матеріалах. III. Аналіз одновимірної моделі
description Basing on the model before constructed that describes SB of thin semiconductor film included in an electronic circuit, the breakdown time and the localization size are estimated. These estimations are obtained in the frame of the one-dimensional model basing on the parabolic equations maximum principle using some standard solutions with the sharpening. На основе ранее построенной модели, описывающей тепловой пробой тонкой полупроводниковой плёнки, входящей в состав электронной цепи, оценивается время пробоя и размер области локализации. Эти оценки получаются, для одномерной модели, на основе принципа максимума для параболических уравнений посредством сравнения с эталонными обостряющимися решениями. На основі побудованої раніше моделі, яка описує тепловий пробій тонкої напівпровідникової плівки, включеної в електронне коло, оцінено час пробою та розмір області локалізації. Ці оцінки одержано в рамках одновимірної моделі на основі параболічних рівнянь шляхом зіставлення з еталонними рішеннями, які загострюються.
issn 1027-5495
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/138794
fulltext +HDW�ORFDOL]DWLRQ�DQG�IRUPDWLRQ�RI�VHFRQGDU\�EUHDNGRZQ�VWUXFWXUH�LQ�VHPLFRQGXFWRU�PDWHULDOV��,,,��$QDO\VLV�RI�WKH�RQH�GLPHQVLRQDO�PRGHO <X�3�9LUFKHQNR��$�$�9RG\DQLWVNLL 67&��,QVWLWXWH�IRU�6LQJOH�&U\VWDOV���1DWLRQDO�$FDGHP\�RI�6FLHQFHV�RI�8NUDLQH�,QVWLWXWH�IRU�6LQJOH�&U\VWDOV����/HQLQ�$YH���������.KDUNLY��8NUDLQH %DVLQJ�RQ� WKH�PRGHO�EHIRUH� FRQVWUXFWHG�WKDW�GHVFULEHV�6%�RI� WKLQ� VHPLFRQGXFWRU� ILOPLQFOXGHG� LQ� DQ� HOHFWURQLF� FLUFXLW�� WKH� EUHDNGRZQ� WLPH� DQG� WKH� ORFDOL]DWLRQ� VL]H� DUH� HVWL �PDWHG��7KHVH�HVWLPDWLRQV� DUH�REWDLQHG� LQ� WKH�IUDPH�RI� WKH�RQH�GLPHQVLRQDO�PRGHO�EDVLQJRQ� WKH� SDUDEROLF� HTXDWLRQV� PD[LPXP� SULQFLSOH� XVLQJ� VRPH� VWDQGDUG� VROXWLRQV� ZLWK� WKHVKDUSHQLQJ� Ëj�vxtvkn�éjtnn�wvxzévnttvp�uvlnsq�� vwqx�kjí�np�znwsvkvp�wévivp�zvtrvp�wvsy�wévkvltqrvkvp�wsÝtrq�� k}vl¹�np�k�xvxzjk�ësnrzévttvp�|nwq��v|ntqkjnzx¹�kénu¹�wév�iv¹�q�éjouné�visjxzq�svrjsqoj|qq��êzq�v|ntrq�wvsy·jízx¹��ls¹�vltvunétvp�uvlnsq�tj�vxtvkn�wéqt|qwj�ujrxquyuj�ls¹�wjéjivsq·nxrq}�yéjktntqp�wvxénlxzkvu�xéjktntq¹x�ëzjsvtt�uq�vivxzé¹í�quqx¹�én¡ntq¹uq� )XQFWLRQDO�0DWHULDOV�����1R��������� �������²�,QVWLWXWH�IRU�6LQJOH�&U\VWDOV ��� )XQFWLRQDO�PDWHULDOV������������� <X�3�9LUFKHQNR��$�$�9RG\DQLWVNLL���+HDW�ORFDOL]DWLRQ����� )XQFWLRQDO�PDWHULDOV������������� ��� <X�3�9LUFKHQNR��$�$�9RG\DQLWVNLL���+HDW�ORFDOL]DWLRQ����� ��� )XQFWLRQDO�PDWHULDOV������������� <X�3�9LUFKHQNR��$�$�9RG\DQLWVNLL���+HDW�ORFDOL]DWLRQ����� )XQFWLRQDO�PDWHULDOV������������� ��� ÉvrjsLoj|L¹�znwsj�zj�{véuykjtt¹�xzéyrzyéqznwsvkvmv�wéviví�k�tjwLkwévkLltqrvkq}�ujznéLjsj}�,,,��¬tjsLo�vltvkquLétv¢�uvlnsL ����{L¯�ËÓ}º��$�$�{º�«ÓÒ� }Ò® Ëj�vxtvkL�wviylvkjtv¢�éjtL¡n�uvlnsL��¹rj�vwqxy��znwsvkqp�wéviLp�zvtrv¢�tjwLkwévkL�ltqrvkv¢� wsLkrq�� krsí·ntv¢� k� nsnrzévttn�rvsv�� v|Ltntv�·jx�wéviví�zj�évouLé�visjxzLsvrjsLoj|L¢��gL�v|Ltrq�vlné jtv�k�éjurj}�vltvkquLétv¢�uvlnsL�tj�vxtvkL�wjéjivsL·tq}éLkt¹t��¡s¹}vu�oLxzjksntt¹�o�nzjsvttquq�éL¡ntt¹uq��¹rL�ojmvxzéííz�x¹� <X�3�9LUFKHQNR��$�$�9RG\DQLWVNLL���+HDW�ORFDOL]DWLRQ����� ��� )XQFWLRQDO�PDWHULDOV�������������
citation_txt Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model / Yu.P.Virchenko, A.A.Vodyanitskii // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 2. — С. 236-240. — англ.
work_keys_str_mv AT virchenkoyup heatlocalizationandformationofsecondarybreakdownstructureinsemiconductormaterialsiiianalysisoftheonedimensionalmodel
AT vodyanitskiiyup heatlocalizationandformationofsecondarybreakdownstructureinsemiconductormaterialsiiianalysisoftheonedimensionalmodel
AT virchenkoyup lokalízacíâteplataformuvannâstrukturiteplovogoproboûvnapívprovídnikovihmateríalahiiianalízodnovimírnoímodelí
AT vodyanitskiiyup lokalízacíâteplataformuvannâstrukturiteplovogoproboûvnapívprovídnikovihmateríalahiiianalízodnovimírnoímodelí
first_indexed 2025-11-24T21:39:57Z
last_indexed 2025-11-24T21:39:57Z
_version_ 1850495339999526912