Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model

Basing on the model before constructed that describes SB of thin semiconductor film included in an electronic circuit, the breakdown time and the localization size are estimated. These estimations are obtained in the frame of the one-dimensional model basing on the parabolic equations maximum princi...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Functional Materials
Дата:2004
Автори: Virchenko, Yu.P., Vodyanitskii, Yu.P.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2004
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/138794
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model / Yu.P.Virchenko, A.A.Vodyanitskii // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 2. — С. 236-240. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862543120735928320
author Virchenko, Yu.P.
Vodyanitskii, Yu.P.
author_facet Virchenko, Yu.P.
Vodyanitskii, Yu.P.
citation_txt Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model / Yu.P.Virchenko, A.A.Vodyanitskii // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 2. — С. 236-240. — англ.
collection DSpace DC
container_title Functional Materials
description Basing on the model before constructed that describes SB of thin semiconductor film included in an electronic circuit, the breakdown time and the localization size are estimated. These estimations are obtained in the frame of the one-dimensional model basing on the parabolic equations maximum principle using some standard solutions with the sharpening. На основе ранее построенной модели, описывающей тепловой пробой тонкой полупроводниковой плёнки, входящей в состав электронной цепи, оценивается время пробоя и размер области локализации. Эти оценки получаются, для одномерной модели, на основе принципа максимума для параболических уравнений посредством сравнения с эталонными обостряющимися решениями. На основі побудованої раніше моделі, яка описує тепловий пробій тонкої напівпровідникової плівки, включеної в електронне коло, оцінено час пробою та розмір області локалізації. Ці оцінки одержано в рамках одновимірної моделі на основі параболічних рівнянь шляхом зіставлення з еталонними рішеннями, які загострюються.
first_indexed 2025-11-24T21:39:57Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-138794
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1027-5495
language English
last_indexed 2025-11-24T21:39:57Z
publishDate 2004
publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України
record_format dspace
spelling Virchenko, Yu.P.
Vodyanitskii, Yu.P.
2018-06-19T15:25:27Z
2018-06-19T15:25:27Z
2004
Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model / Yu.P.Virchenko, A.A.Vodyanitskii // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 2. — С. 236-240. — англ.
1027-5495
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/138794
Basing on the model before constructed that describes SB of thin semiconductor film included in an electronic circuit, the breakdown time and the localization size are estimated. These estimations are obtained in the frame of the one-dimensional model basing on the parabolic equations maximum principle using some standard solutions with the sharpening.
На основе ранее построенной модели, описывающей тепловой пробой тонкой полупроводниковой плёнки, входящей в состав электронной цепи, оценивается время пробоя и размер области локализации. Эти оценки получаются, для одномерной модели, на основе принципа максимума для параболических уравнений посредством сравнения с эталонными обостряющимися решениями.
На основі побудованої раніше моделі, яка описує тепловий пробій тонкої напівпровідникової плівки, включеної в електронне коло, оцінено час пробою та розмір області локалізації. Ці оцінки одержано в рамках одновимірної моделі на основі параболічних рівнянь шляхом зіставлення з еталонними рішеннями, які загострюються.
en
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
Functional Materials
Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
Локалізація тепла та формування структури теплового пробою в напівпровідникових матеріалах. III. Аналіз одновимірної моделі
Article
published earlier
spellingShingle Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
Virchenko, Yu.P.
Vodyanitskii, Yu.P.
title Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
title_alt Локалізація тепла та формування структури теплового пробою в напівпровідникових матеріалах. III. Аналіз одновимірної моделі
title_full Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
title_fullStr Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
title_full_unstemmed Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
title_short Heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. III. Analysis of the one-dimensional model
title_sort heat localization and formation of secondary breakdown structure in semiconductor materials. iii. analysis of the one-dimensional model
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/138794
work_keys_str_mv AT virchenkoyup heatlocalizationandformationofsecondarybreakdownstructureinsemiconductormaterialsiiianalysisoftheonedimensionalmodel
AT vodyanitskiiyup heatlocalizationandformationofsecondarybreakdownstructureinsemiconductormaterialsiiianalysisoftheonedimensionalmodel
AT virchenkoyup lokalízacíâteplataformuvannâstrukturiteplovogoproboûvnapívprovídnikovihmateríalahiiianalízodnovimírnoímodelí
AT vodyanitskiiyup lokalízacíâteplataformuvannâstrukturiteplovogoproboûvnapívprovídnikovihmateríalahiiianalízodnovimírnoímodelí