Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief

The crystallography and topography of the (100) cleavage surfaces of layered semiconductor In₄Se₃ crystal have been studied by low energy electron diffraction (LEED), scanning tunnelling and atomic-force microscopy (STM, AFM) in ultrahigh vacuum (UHV). The structure of surface LEED patterns, shape a...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Functional Materials
Datum:2009
Hauptverfasser: Galiy, P.V., Ciszewski, A., Dveriy, O.R., Losovyj, Ya.B., Mazur, P., Nenchuk, T.M., Zuber, S., Fiyala, Ya.M.
Format: Artikel
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2009
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/138900
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief // P.V. Galiy, A. Ciszewski, O.R. Dveriy, Ya.B. Losovyj, P. Mazur, T.M. Nenchuk, S. Zuber, Ya.M. Fiyala // Functional Materials. — 2009. — Т. 16, № 3. — С. 279-285. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862728496011280384
author Galiy, P.V.
Ciszewski, A.
Dveriy, O.R.
Losovyj, Ya.B.
Mazur, P.
Nenchuk, T.M.
Zuber, S.
Fiyala, Ya.M.
author_facet Galiy, P.V.
Ciszewski, A.
Dveriy, O.R.
Losovyj, Ya.B.
Mazur, P.
Nenchuk, T.M.
Zuber, S.
Fiyala, Ya.M.
citation_txt Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief // P.V. Galiy, A. Ciszewski, O.R. Dveriy, Ya.B. Losovyj, P. Mazur, T.M. Nenchuk, S. Zuber, Ya.M. Fiyala // Functional Materials. — 2009. — Т. 16, № 3. — С. 279-285. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.
collection DSpace DC
container_title Functional Materials
description The crystallography and topography of the (100) cleavage surfaces of layered semiconductor In₄Se₃ crystal have been studied by low energy electron diffraction (LEED), scanning tunnelling and atomic-force microscopy (STM, AFM) in ultrahigh vacuum (UHV). The structure of surface LEED patterns, shape and dimensions of subsequent STM- and AFMprofiles agree well with the lattice parameters derived from the bulk crystal structure obtained by X-ray diffraction. The local density of states and band gap for (100) In₄Se₃ have been obtained by scanning tunnelling spectroscopy and point to the same integral gap value as for bulk crystal. The STM/STS results evidence the stability of interlayer cleavage surface and confirm that anisotropic striated low conductive cleavage surfaces might be suitable as matrices/templates in formation of surface nanowires or nanostructures. Кристалографію та топографію поверхонь (100) сколювання кристалів шаруватих напівпровідників In₄Se₃ досліджено методами дифракції повільних електронів (ДПЕ), скануючої тунельної та атомно-силової мікроскопій (СТМ, АСМ) у надвисокому вакуумі. Структура рефлексів ДПЕ, форма і характерні розміри в одержаних СТМ- та АСМ-профілях поверхонь сколювання відповідають структурі і параметрам гратки, одержаним для кристалів In₄Se₃ орторомбічної структури методом ренгенівської дифракції. Локальна густина електронних станів і ширина забороненої зони для поверхонь сколювання (100) In₄Se₃, що отримані методом скануючої тунельної спектроскопії (вказують на їі інтегральну величину, таку ж як для об'ємних кристалів. Результати ДПЕ, СТМ/АСМ вказують на стабільність міжшарових поверхонь сколювання та перспективність використання слабкопровідних борознистих анізотропних сколів як матриць/шаблонів для формування поверхневих нанодротів та наноструктур. Кристаллография и топография поверхностей (100) скалывания кристаллов слоистых полупроводников In₄Se₃ исследованы методами дифракции медленных электронов (ДМЭ), сканирующей туннельной и атомно-силовой микроскопий (СТМ, АСМ) в сверхвысоком вакууме. Структура рефлексов ДМЭ, форма и характерные размеры в полученных СТМ- и АСМ-профилях поверхностей скалывания хорошо согласуются со структурой и параметрами решетки, полученными для кристаллов In₄Se₃ орторомбической структуры методом рентгеновской дифракции. Локальная плотность электронных состояний и ширина запрещенной зоны для поверхностей скалывания (100) In₄Se₃, полученная методом сканирующей туннельной спектроскопии, указывают на ее интегральное значение, такое же как для объемных кристаллов. Результаты ДМЭ, СТМ/АСМ указывают на стабильность междуслоевых поверхностей скалывания и перспективность использования слабо проводящих бороздчатых анизотропных сколов в качестве матриц/шаблонов для формирования поверхностных нанопроволок или наноструктур.
first_indexed 2025-12-07T19:09:06Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-138900
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1027-5495
language English
last_indexed 2025-12-07T19:09:06Z
publishDate 2009
publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України
record_format dspace
spelling Galiy, P.V.
Ciszewski, A.
Dveriy, O.R.
Losovyj, Ya.B.
Mazur, P.
Nenchuk, T.M.
Zuber, S.
Fiyala, Ya.M.
2018-06-19T16:52:53Z
2018-06-19T16:52:53Z
2009
Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief // P.V. Galiy, A. Ciszewski, O.R. Dveriy, Ya.B. Losovyj, P. Mazur, T.M. Nenchuk, S. Zuber, Ya.M. Fiyala // Functional Materials. — 2009. — Т. 16, № 3. — С. 279-285. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.
1027-5495
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/138900
The crystallography and topography of the (100) cleavage surfaces of layered semiconductor In₄Se₃ crystal have been studied by low energy electron diffraction (LEED), scanning tunnelling and atomic-force microscopy (STM, AFM) in ultrahigh vacuum (UHV). The structure of surface LEED patterns, shape and dimensions of subsequent STM- and AFMprofiles agree well with the lattice parameters derived from the bulk crystal structure obtained by X-ray diffraction. The local density of states and band gap for (100) In₄Se₃ have been obtained by scanning tunnelling spectroscopy and point to the same integral gap value as for bulk crystal. The STM/STS results evidence the stability of interlayer cleavage surface and confirm that anisotropic striated low conductive cleavage surfaces might be suitable as matrices/templates in formation of surface nanowires or nanostructures.
Кристалографію та топографію поверхонь (100) сколювання кристалів шаруватих напівпровідників In₄Se₃ досліджено методами дифракції повільних електронів (ДПЕ), скануючої тунельної та атомно-силової мікроскопій (СТМ, АСМ) у надвисокому вакуумі. Структура рефлексів ДПЕ, форма і характерні розміри в одержаних СТМ- та АСМ-профілях поверхонь сколювання відповідають структурі і параметрам гратки, одержаним для кристалів In₄Se₃ орторомбічної структури методом ренгенівської дифракції. Локальна густина електронних станів і ширина забороненої зони для поверхонь сколювання (100) In₄Se₃, що отримані методом скануючої тунельної спектроскопії (вказують на їі інтегральну величину, таку ж як для об'ємних кристалів. Результати ДПЕ, СТМ/АСМ вказують на стабільність міжшарових поверхонь сколювання та перспективність використання слабкопровідних борознистих анізотропних сколів як матриць/шаблонів для формування поверхневих нанодротів та наноструктур.
Кристаллография и топография поверхностей (100) скалывания кристаллов слоистых полупроводников In₄Se₃ исследованы методами дифракции медленных электронов (ДМЭ), сканирующей туннельной и атомно-силовой микроскопий (СТМ, АСМ) в сверхвысоком вакууме. Структура рефлексов ДМЭ, форма и характерные размеры в полученных СТМ- и АСМ-профилях поверхностей скалывания хорошо согласуются со структурой и параметрами решетки, полученными для кристаллов In₄Se₃ орторомбической структуры методом рентгеновской дифракции. Локальная плотность электронных состояний и ширина запрещенной зоны для поверхностей скалывания (100) In₄Se₃, полученная методом сканирующей туннельной спектроскопии, указывают на ее интегральное значение, такое же как для объемных кристаллов. Результаты ДМЭ, СТМ/АСМ указывают на стабильность междуслоевых поверхностей скалывания и перспективность использования слабо проводящих бороздчатых анизотропных сколов в качестве матриц/шаблонов для формирования поверхностных нанопроволок или наноструктур.
en
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
Functional Materials
Characterization and properties
Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief
Дослідження нанорельєфу поверхонь (100) кристалів In₄Se₃
Article
published earlier
spellingShingle Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief
Galiy, P.V.
Ciszewski, A.
Dveriy, O.R.
Losovyj, Ya.B.
Mazur, P.
Nenchuk, T.M.
Zuber, S.
Fiyala, Ya.M.
Characterization and properties
title Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief
title_alt Дослідження нанорельєфу поверхонь (100) кристалів In₄Se₃
title_full Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief
title_fullStr Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief
title_full_unstemmed Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief
title_short Investigation of (100) In₄Se₃ crystal surface nanorelief
title_sort investigation of (100) in₄se₃ crystal surface nanorelief
topic Characterization and properties
topic_facet Characterization and properties
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/138900
work_keys_str_mv AT galiypv investigationof100in4se3crystalsurfacenanorelief
AT ciszewskia investigationof100in4se3crystalsurfacenanorelief
AT dveriyor investigationof100in4se3crystalsurfacenanorelief
AT losovyjyab investigationof100in4se3crystalsurfacenanorelief
AT mazurp investigationof100in4se3crystalsurfacenanorelief
AT nenchuktm investigationof100in4se3crystalsurfacenanorelief
AT zubers investigationof100in4se3crystalsurfacenanorelief
AT fiyalayam investigationof100in4se3crystalsurfacenanorelief
AT galiypv doslídžennânanorelʹêfupoverhonʹ100kristalívin4se3
AT ciszewskia doslídžennânanorelʹêfupoverhonʹ100kristalívin4se3
AT dveriyor doslídžennânanorelʹêfupoverhonʹ100kristalívin4se3
AT losovyjyab doslídžennânanorelʹêfupoverhonʹ100kristalívin4se3
AT mazurp doslídžennânanorelʹêfupoverhonʹ100kristalívin4se3
AT nenchuktm doslídžennânanorelʹêfupoverhonʹ100kristalívin4se3
AT zubers doslídžennânanorelʹêfupoverhonʹ100kristalívin4se3
AT fiyalayam doslídžennânanorelʹêfupoverhonʹ100kristalívin4se3