Si as dopant impurity in CdTe
CdTe<Si> single crystals have been investigated by high-temperature Hall effect meas- urements under Cd vapor pressure in 200-900 ℃ temperature range. Basing on the experimental results, the Si solubility in CdTe at 500-600 ℃ has been supposed to be lower than ≈ 3*10¹⁶ at/cm . The Si segre...
Saved in:
| Published in: | Functional Materials |
|---|---|
| Date: | 2005 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
2005
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139311 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Si as dopant impurity in CdTe / P.M. Fochuk, O.E. Panchuk // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 4. — С. 771-774. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862752321176338432 |
|---|---|
| author | Fochuk, P.M. Panchuk, O.E. |
| author_facet | Fochuk, P.M. Panchuk, O.E. |
| citation_txt | Si as dopant impurity in CdTe / P.M. Fochuk, O.E. Panchuk // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 4. — С. 771-774. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Functional Materials |
| description | CdTe<Si> single crystals have been investigated by high-temperature Hall effect meas- urements under Cd vapor pressure in 200-900 ℃ temperature range. Basing on the experimental results, the Si solubility in CdTe at 500-600 ℃ has been supposed to be lower than ≈ 3*10¹⁶ at/cm . The Si segregation coefficient in CdTe is exceeds unity (kₛₑᵣᵍ > 1). This peculiarity of Si behavior in CdTe differs it from other IVA group elements. At high Si content in CdTe (~ 10¹⁷ at/cm³), it is mainly contained in precipitates. Their dissolution starts at Т ~ 500 ℃ and the subsequent cooling does not reduce the concentration of
electrically active Si form. The dominating Si point defect is Si+ᶜᵈ , although a certain
fraction of this impurity forms associates (Si+ᶜᵈ V²⁻ᶜᵈ ).
Монокристали CdTe<Si> дослiджено вимiрюваннями ефекту Холла пiд тиском пари Cd в iнтервалi температур 200-900 ℃. На основi експериментальних даних припущено, що розчиннiсть Si менша за ~ 3*10¹⁶ ат/см³ at 500-600 ℃. Коефiцiєнт розподiлу Si у CdTe бiльший за одиницю (kₛₑᵣᵍ > 1), що вiдрiзняє його вiд iнших елементiв IVA пiдгрупи елементiв. При високому вмiстi Si (~ 10¹⁷ ат/см³) переважна його бiльшiсть знаходиться у преципiтатах. Їх розчинення починається при ~500 ℃ i наступне охолодження не зменшує концентрацiю електрично активної форми Si. Домiнуючим точковим дефектом є Si+ᶜᵈ, хоча деяка частина його утворює асоцiати (Si+ᶜᵈ V²⁻ᶜᵈ ).
Монокристаллы CdTe<Si> были исследованы путем измерениями эффекта Холла под давлением пара Cd в интервале температур 200-900 ℃. На основании экспериментальных результатов предположено, что растворимость Si при 500-600 ℃ меньше, чем ~ 3*10¹⁶ ат/см³. Коэффициент распределения Si в CdTe больше единицы (kₛₑᵣᵍ > 1), что отличает его от других элементов IVA подгруппы. При высоком содержании Si (~ 10¹⁷ ат/см³) большая его часть находится в преципитатах. Их растворение начинается при ~500 ℃ и последующее охлаждение не уменьшает концентрацию электрически активной формы Si. Доминирующим точечным дефектом является Si+ᶜᵈ, хотя некоторая его часть образует ассоциаты (Si+ᶜᵈ V²⁻ᶜᵈ).
|
| first_indexed | 2025-12-07T21:16:25Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-139311 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1027-5495 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T21:16:25Z |
| publishDate | 2005 |
| publisher | НТК «Інститут монокристалів» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Fochuk, P.M. Panchuk, O.E. 2018-06-20T05:00:44Z 2018-06-20T05:00:44Z 2005 Si as dopant impurity in CdTe / P.M. Fochuk, O.E. Panchuk // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 4. — С. 771-774. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. 1027-5495 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139311 CdTe<Si> single crystals have been investigated by high-temperature Hall effect meas- urements under Cd vapor pressure in 200-900 ℃ temperature range. Basing on the experimental results, the Si solubility in CdTe at 500-600 ℃ has been supposed to be lower than ≈ 3*10¹⁶ at/cm . The Si segregation coefficient in CdTe is exceeds unity (kₛₑᵣᵍ > 1). This peculiarity of Si behavior in CdTe differs it from other IVA group elements. At high Si content in CdTe (~ 10¹⁷ at/cm³), it is mainly contained in precipitates. Their dissolution starts at Т ~ 500 ℃ and the subsequent cooling does not reduce the concentration of
 electrically active Si form. The dominating Si point defect is Si+ᶜᵈ , although a certain
 fraction of this impurity forms associates (Si+ᶜᵈ V²⁻ᶜᵈ ). Монокристали CdTe<Si> дослiджено вимiрюваннями ефекту Холла пiд тиском пари Cd в iнтервалi температур 200-900 ℃. На основi експериментальних даних припущено, що розчиннiсть Si менша за ~ 3*10¹⁶ ат/см³ at 500-600 ℃. Коефiцiєнт розподiлу Si у CdTe бiльший за одиницю (kₛₑᵣᵍ > 1), що вiдрiзняє його вiд iнших елементiв IVA пiдгрупи елементiв. При високому вмiстi Si (~ 10¹⁷ ат/см³) переважна його бiльшiсть знаходиться у преципiтатах. Їх розчинення починається при ~500 ℃ i наступне охолодження не зменшує концентрацiю електрично активної форми Si. Домiнуючим точковим дефектом є Si+ᶜᵈ, хоча деяка частина його утворює асоцiати (Si+ᶜᵈ V²⁻ᶜᵈ ). Монокристаллы CdTe<Si> были исследованы путем измерениями эффекта Холла под давлением пара Cd в интервале температур 200-900 ℃. На основании экспериментальных результатов предположено, что растворимость Si при 500-600 ℃ меньше, чем ~ 3*10¹⁶ ат/см³. Коэффициент распределения Si в CdTe больше единицы (kₛₑᵣᵍ > 1), что отличает его от других элементов IVA подгруппы. При высоком содержании Si (~ 10¹⁷ ат/см³) большая его часть находится в преципитатах. Их растворение начинается при ~500 ℃ и последующее охлаждение не уменьшает концентрацию электрически активной формы Si. Доминирующим точечным дефектом является Si+ᶜᵈ, хотя некоторая его часть образует ассоциаты (Si+ᶜᵈ V²⁻ᶜᵈ). en НТК «Інститут монокристалів» НАН України Functional Materials Si as dopant impurity in CdTe Si як легуюча домішка у CdTe Article published earlier |
| spellingShingle | Si as dopant impurity in CdTe Fochuk, P.M. Panchuk, O.E. |
| title | Si as dopant impurity in CdTe |
| title_alt | Si як легуюча домішка у CdTe |
| title_full | Si as dopant impurity in CdTe |
| title_fullStr | Si as dopant impurity in CdTe |
| title_full_unstemmed | Si as dopant impurity in CdTe |
| title_short | Si as dopant impurity in CdTe |
| title_sort | si as dopant impurity in cdte |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139311 |
| work_keys_str_mv | AT fochukpm siasdopantimpurityincdte AT panchukoe siasdopantimpurityincdte AT fochukpm siâkleguûčadomíškaucdte AT panchukoe siâkleguûčadomíškaucdte |