Peculiarities of Si-Ge whisker growing by CTR method
Growth peculiarities of doped Si₁₋ₓGeₓ (х = 0.01-0.05) solid solution whiskers of 1 to 100 µm in diameter in closed bromide system by chemical transport reactions method have been investigated. А dimensional dependence of specific resistance at 300 К has been revealed. The Si₁₋ₓGeₓ (х = 0.05) whisk...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Functional Materials |
|---|---|
| Datum: | 2005 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
2005
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139317 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Peculiarities of Si-Ge whisker growing by CTR method / A.A. Druzhinin, I.P. Ostrovskii, Yu.M. Khoverko, Ya.V. Gij // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 4. — С. 738-741. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-139317 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Druzhinin, A.A. Ostrovskii, I.P. Khoverko, Yu.M. Gij, Ya.V. 2018-06-20T05:03:09Z 2018-06-20T05:03:09Z 2005 Peculiarities of Si-Ge whisker growing by CTR method / A.A. Druzhinin, I.P. Ostrovskii, Yu.M. Khoverko, Ya.V. Gij // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 4. — С. 738-741. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. 1027-5495 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139317 Growth peculiarities of doped Si₁₋ₓGeₓ (х = 0.01-0.05) solid solution whiskers of 1 to 100 µm in diameter in closed bromide system by chemical transport reactions method have been investigated. А dimensional dependence of specific resistance at 300 К has been revealed. The Si₁₋ₓGeₓ (х = 0.05) whiskers of 30 to 70 µm in diameter with dopant concentration in the vicinity of metal-insulator transition were obtained. Substantial changes of the specific resistance and gauge factor of the crystals depending on their diameters has been observed in temperature range 4.2-50 К. Методом хiмiчних транспортних реакцiй у закритiй бромiднiй системi дослiджено особливостi вирощування легованих ниткоподiбних кристалiв твердого розчину Si₁₋ₓGeₓ (х = 0,01-0,05) рiзного дiаметра (0,1-100 мкм). Встановлено розмiрну залежнiсть питомого опору кристалiв при Т = 300 К. Одержано легованi зразки Si₁₋ₓGeₓ (х = 0,05) рiзного дiаметра (30-70 мкм) з концентрацiєю легуючих домiшок поблизу переходу метал-дiелектрик. Виявлено iстотну змiну їх питомого опору та коефiцiєнта тензочутливостi у температурнiй областi 4,2-50 К в залежностi вiд дiаметра кристалiв. Методом химических транспортных реакций в закрытой бромидной системе исследованы особенности выращивания легированных нитевидных кристаллов твердого раствора Si₁₋ₓGeₓ (х = 0,01-0,05) разного диаметра (0,1-100 мкм). Установлена размерная зависимость удельного сопротивления кристаллов при Т = 300 К. Получены легированные образцы Si₁₋ₓGeₓ (х = 0,05) разного диаметра (30-70 мкм) с концентрацией легирующих примесей вблизи перехода металл-диэлектрик. Обнаружены существенные изменения их удельного сопротивления и коэффициента тензочувствительности в температурной области 4,2-50 К в зависимости от диаметра кристаллов. en НТК «Інститут монокристалів» НАН України Functional Materials Peculiarities of Si-Ge whisker growing by CTR method Особливостi вирощування ниткоподiбних кристалiв Si-Ge методом ХТР Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Peculiarities of Si-Ge whisker growing by CTR method |
| spellingShingle |
Peculiarities of Si-Ge whisker growing by CTR method Druzhinin, A.A. Ostrovskii, I.P. Khoverko, Yu.M. Gij, Ya.V. |
| title_short |
Peculiarities of Si-Ge whisker growing by CTR method |
| title_full |
Peculiarities of Si-Ge whisker growing by CTR method |
| title_fullStr |
Peculiarities of Si-Ge whisker growing by CTR method |
| title_full_unstemmed |
Peculiarities of Si-Ge whisker growing by CTR method |
| title_sort |
peculiarities of si-ge whisker growing by ctr method |
| author |
Druzhinin, A.A. Ostrovskii, I.P. Khoverko, Yu.M. Gij, Ya.V. |
| author_facet |
Druzhinin, A.A. Ostrovskii, I.P. Khoverko, Yu.M. Gij, Ya.V. |
| publishDate |
2005 |
| language |
English |
| container_title |
Functional Materials |
| publisher |
НТК «Інститут монокристалів» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Особливостi вирощування ниткоподiбних кристалiв Si-Ge методом ХТР |
| description |
Growth peculiarities of doped Si₁₋ₓGeₓ (х = 0.01-0.05) solid solution whiskers of 1 to 100 µm in diameter in closed bromide system by chemical transport reactions method have been investigated. А dimensional dependence of specific resistance at 300 К has been revealed. The Si₁₋ₓGeₓ (х = 0.05) whiskers of 30 to 70 µm in diameter with dopant concentration in the vicinity of metal-insulator transition were obtained. Substantial changes of the specific resistance and gauge factor of the crystals depending on their diameters has been observed in temperature range 4.2-50 К.
Методом хiмiчних транспортних реакцiй у закритiй бромiднiй системi дослiджено особливостi вирощування легованих ниткоподiбних кристалiв твердого розчину Si₁₋ₓGeₓ (х = 0,01-0,05) рiзного дiаметра (0,1-100 мкм). Встановлено розмiрну залежнiсть питомого опору кристалiв при Т = 300 К. Одержано легованi зразки Si₁₋ₓGeₓ (х = 0,05) рiзного дiаметра (30-70 мкм) з концентрацiєю легуючих домiшок поблизу переходу метал-дiелектрик. Виявлено iстотну змiну їх питомого опору та коефiцiєнта тензочутливостi у температурнiй областi 4,2-50 К в залежностi вiд дiаметра кристалiв.
Методом химических транспортных реакций в закрытой бромидной системе исследованы особенности выращивания легированных нитевидных кристаллов твердого раствора Si₁₋ₓGeₓ (х = 0,01-0,05) разного диаметра (0,1-100 мкм). Установлена размерная зависимость удельного сопротивления кристаллов при Т = 300 К. Получены легированные образцы Si₁₋ₓGeₓ (х = 0,05) разного диаметра (30-70 мкм) с концентрацией легирующих примесей вблизи перехода металл-диэлектрик. Обнаружены существенные изменения их удельного сопротивления и коэффициента тензочувствительности в температурной области 4,2-50 К в зависимости от диаметра кристаллов.
|
| issn |
1027-5495 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139317 |
| citation_txt |
Peculiarities of Si-Ge whisker growing by CTR method / A.A. Druzhinin, I.P. Ostrovskii, Yu.M. Khoverko, Ya.V. Gij // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 4. — С. 738-741. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT druzhininaa peculiaritiesofsigewhiskergrowingbyctrmethod AT ostrovskiiip peculiaritiesofsigewhiskergrowingbyctrmethod AT khoverkoyum peculiaritiesofsigewhiskergrowingbyctrmethod AT gijyav peculiaritiesofsigewhiskergrowingbyctrmethod AT druzhininaa osoblivostiviroŝuvannânitkopodibnihkristalivsigemetodomhtr AT ostrovskiiip osoblivostiviroŝuvannânitkopodibnihkristalivsigemetodomhtr AT khoverkoyum osoblivostiviroŝuvannânitkopodibnihkristalivsigemetodomhtr AT gijyav osoblivostiviroŝuvannânitkopodibnihkristalivsigemetodomhtr |
| first_indexed |
2025-12-07T17:05:25Z |
| last_indexed |
2025-12-07T17:05:25Z |
| _version_ |
1850869940253360128 |