XPS study of ammonia-exposed C₆₀ films both original and photopolymerized

Surface of C₆₀ films (original and photopolymerized with UV radiation) exposed to ammonia at different pressure was investigated by the method of X-ray photoelectron spectroscopy. Effect of X-ray stimulated interaction between films and adsorbed water, which resulted in bonds like C-O-H and enhanced...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Functional Materials
Дата:2004
Автори: Dobrotvorska, M.V., Karachevtsev, V.A., Vovk, O.M., Rao, A.M.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2004
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139580
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:XPS study of ammonia-exposed C₆₀ films both original and photopolymerized / M.V. Dobrotvorska, V.A. Karachevtsev , O.M. Vovk , A.M. Rao // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 4. — С. 755-760. — Бібліогр.: 27 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-139580
record_format dspace
spelling Dobrotvorska, M.V.
Karachevtsev, V.A.
Vovk, O.M.
Rao, A.M.
2018-06-20T18:10:46Z
2018-06-20T18:10:46Z
2004
XPS study of ammonia-exposed C₆₀ films both original and photopolymerized / M.V. Dobrotvorska, V.A. Karachevtsev , O.M. Vovk , A.M. Rao // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 4. — С. 755-760. — Бібліогр.: 27 назв. — англ.
1027-5495
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139580
Surface of C₆₀ films (original and photopolymerized with UV radiation) exposed to ammonia at different pressure was investigated by the method of X-ray photoelectron spectroscopy. Effect of X-ray stimulated interaction between films and adsorbed water, which resulted in bonds like C-O-H and enhanced by ammonia was detected. It was shown that ammonia unreacted chemically with C₆₀ films, both original and photo-polymerized.
Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии исследована поверхность фуллереновых пленок (не полимеризованных и полимеризованных с помощью ультрафиолетового облучения), выдержанных в аммиаке при различных давлениях газа. Обнаружен эффект взаимодействия пленок с адсорбированной водой с образованием связей типа C-O-H, который стимулируется рентгеновским облучением и ускоряется аммиаком. Показано, что аммиак не взаимодействует химически с фуллереновой пленкой как полимеризованной, так и не полимеризованной.
Методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії досліджено поверхню фуле-ренових плівок (не полімеризованих і полімеризованих за допомогою ультрафіолетового опромінення), витриманих в аміаку при різних тисках газу. Виявлено ефект взаємодії плівок з адсорбованою водою з утворенням зв’язків типу C-O-H, що стимулюється рентгенівським опроміненням і прискорюється аміаком. Показано, що аміак не взаємодіє хімічно з фулереновою плівкою як полімеризованою так і не полімеризо-ваною.
en
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
Functional Materials
XPS study of ammonia-exposed C₆₀ films both original and photopolymerized
Рентгенівська фотоелектронна спектроскопія вихідних та фотополімернзованнх плівок С₆₀, що були експоновані в аміаку
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title XPS study of ammonia-exposed C₆₀ films both original and photopolymerized
spellingShingle XPS study of ammonia-exposed C₆₀ films both original and photopolymerized
Dobrotvorska, M.V.
Karachevtsev, V.A.
Vovk, O.M.
Rao, A.M.
title_short XPS study of ammonia-exposed C₆₀ films both original and photopolymerized
title_full XPS study of ammonia-exposed C₆₀ films both original and photopolymerized
title_fullStr XPS study of ammonia-exposed C₆₀ films both original and photopolymerized
title_full_unstemmed XPS study of ammonia-exposed C₆₀ films both original and photopolymerized
title_sort xps study of ammonia-exposed c₆₀ films both original and photopolymerized
author Dobrotvorska, M.V.
Karachevtsev, V.A.
Vovk, O.M.
Rao, A.M.
author_facet Dobrotvorska, M.V.
Karachevtsev, V.A.
Vovk, O.M.
Rao, A.M.
publishDate 2004
language English
container_title Functional Materials
publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України
format Article
title_alt Рентгенівська фотоелектронна спектроскопія вихідних та фотополімернзованнх плівок С₆₀, що були експоновані в аміаку
description Surface of C₆₀ films (original and photopolymerized with UV radiation) exposed to ammonia at different pressure was investigated by the method of X-ray photoelectron spectroscopy. Effect of X-ray stimulated interaction between films and adsorbed water, which resulted in bonds like C-O-H and enhanced by ammonia was detected. It was shown that ammonia unreacted chemically with C₆₀ films, both original and photo-polymerized. Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии исследована поверхность фуллереновых пленок (не полимеризованных и полимеризованных с помощью ультрафиолетового облучения), выдержанных в аммиаке при различных давлениях газа. Обнаружен эффект взаимодействия пленок с адсорбированной водой с образованием связей типа C-O-H, который стимулируется рентгеновским облучением и ускоряется аммиаком. Показано, что аммиак не взаимодействует химически с фуллереновой пленкой как полимеризованной, так и не полимеризованной. Методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії досліджено поверхню фуле-ренових плівок (не полімеризованих і полімеризованих за допомогою ультрафіолетового опромінення), витриманих в аміаку при різних тисках газу. Виявлено ефект взаємодії плівок з адсорбованою водою з утворенням зв’язків типу C-O-H, що стимулюється рентгенівським опроміненням і прискорюється аміаком. Показано, що аміак не взаємодіє хімічно з фулереновою плівкою як полімеризованою так і не полімеризо-ваною.
issn 1027-5495
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139580
citation_txt XPS study of ammonia-exposed C₆₀ films both original and photopolymerized / M.V. Dobrotvorska, V.A. Karachevtsev , O.M. Vovk , A.M. Rao // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 4. — С. 755-760. — Бібліогр.: 27 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT dobrotvorskamv xpsstudyofammoniaexposedc60filmsbothoriginalandphotopolymerized
AT karachevtsevva xpsstudyofammoniaexposedc60filmsbothoriginalandphotopolymerized
AT vovkom xpsstudyofammoniaexposedc60filmsbothoriginalandphotopolymerized
AT raoam xpsstudyofammoniaexposedc60filmsbothoriginalandphotopolymerized
AT dobrotvorskamv rentgenívsʹkafotoelektronnaspektroskopíâvihídnihtafotopolímernzovannhplívoks60ŝobulieksponovanívamíaku
AT karachevtsevva rentgenívsʹkafotoelektronnaspektroskopíâvihídnihtafotopolímernzovannhplívoks60ŝobulieksponovanívamíaku
AT vovkom rentgenívsʹkafotoelektronnaspektroskopíâvihídnihtafotopolímernzovannhplívoks60ŝobulieksponovanívamíaku
AT raoam rentgenívsʹkafotoelektronnaspektroskopíâvihídnihtafotopolímernzovannhplívoks60ŝobulieksponovanívamíaku
first_indexed 2025-12-07T15:48:20Z
last_indexed 2025-12-07T15:48:20Z
_version_ 1850865090920710144