Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation

Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation

The room temperature oxidation of ion-implanted copper surface has been studied ex situ and in situ using ellipsometry. The ellipsometric parameters T and Д were measured at light incidence angle 75° for different wavelength values in the range of 280 to 760 nm using averaging both over two azimutha...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Functional Materials
Дата:2005
Автори: Poperenko, L.V., Lohner, T., Stashchuk, V.S., Khanh, N.Q., Vinnichenko, M.V., Yurgelevych, I.V., Essam Ramadan Shaaban, Nosach, D.V.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2005
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139709
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation / L.V. Poperenko, T. Lohner, V.S. Stashchuk, N.Q. Khanh, M.V. Vinnichenko, I.V. Yurgelevych, Essam Ramadan Shaaban, D.V. Nosach // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 1. — С. 83-86. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-139709
record_format dspace
spelling Poperenko, L.V.
Lohner, T.
Stashchuk, V.S.
Khanh, N.Q.
Vinnichenko, M.V.
Yurgelevych, I.V.
Essam Ramadan Shaaban
Nosach, D.V.
2018-06-21T09:17:25Z
2018-06-21T09:17:25Z
2005
Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation / L.V. Poperenko, T. Lohner, V.S. Stashchuk, N.Q. Khanh, M.V. Vinnichenko, I.V. Yurgelevych, Essam Ramadan Shaaban, D.V. Nosach // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 1. — С. 83-86. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
1027-5495
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139709
The room temperature oxidation of ion-implanted copper surface has been studied ex situ and in situ using ellipsometry. The ellipsometric parameters T and Д were measured at light incidence angle 75° for different wavelength values in the range of 280 to 760 nm using averaging both over two azimuthal zones and single one. The oxide layer was removed from the copper surface during the aluminum ion implantation an then the growth of the newly formed oxide film on the ion implanted surface was studied by ellipsometry. Basing on the spectroellipsometric data, the oxide film thickness has been calculated for two types of copper oxides.
Проведены эллипсометрические исследования окисления при комнатной температуре ионно-имплантированных поверхностей меди. Эллипсометрические параметры T и Д измерены при угле падения света 75° для различных величин длины волны света в области 280—760 нм с усреднением как по двум, так и по одной азимутальным зонам. Оксидная пленка с поверхности меди удалялась в процессе ее имплантации ионами алюминия, а затем рост вновь формируемой пленки оксида меди на имплантированной поверхности исследован эллипсометрическим методом. Проведены на основе спектроэллипсометрических данных расчеты толщин пленок для двух типов оксидов меди.
Проведено еліпсометричні дослідження окиснення при кімнатній температурі іонно-імплантованих поверхонь міді. Еліпсометричні параметри Т і Д виміряно при куті падіння світла 75° для різних величин довжини хвилі світла в області 280-760 нм з усередненням як за двома, так і за однією азимутальними зонами. Оксидна плівка з поверхні міді розпилювалась у процесі її імплантації іонами алюмінію, і наступний ріст нової плівки оксиду міді на імплантованій поверхні досліджено еліпсометричним методом. На основі спектроеліпсометричних даних розраховано товщину плівок для двох типів оксидів міді.
en
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
Functional Materials
Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation
Еліпсометричні дослідження іонно-імплантованої поверхні міді та її окиснення при кімнатній температурі
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation
spellingShingle Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation
Poperenko, L.V.
Lohner, T.
Stashchuk, V.S.
Khanh, N.Q.
Vinnichenko, M.V.
Yurgelevych, I.V.
Essam Ramadan Shaaban
Nosach, D.V.
title_short Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation
title_full Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation
title_fullStr Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation
title_full_unstemmed Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation
title_sort ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation
author Poperenko, L.V.
Lohner, T.
Stashchuk, V.S.
Khanh, N.Q.
Vinnichenko, M.V.
Yurgelevych, I.V.
Essam Ramadan Shaaban
Nosach, D.V.
author_facet Poperenko, L.V.
Lohner, T.
Stashchuk, V.S.
Khanh, N.Q.
Vinnichenko, M.V.
Yurgelevych, I.V.
Essam Ramadan Shaaban
Nosach, D.V.
publishDate 2005
language English
container_title Functional Materials
publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України
format Article
title_alt Еліпсометричні дослідження іонно-імплантованої поверхні міді та її окиснення при кімнатній температурі
description The room temperature oxidation of ion-implanted copper surface has been studied ex situ and in situ using ellipsometry. The ellipsometric parameters T and Д were measured at light incidence angle 75° for different wavelength values in the range of 280 to 760 nm using averaging both over two azimuthal zones and single one. The oxide layer was removed from the copper surface during the aluminum ion implantation an then the growth of the newly formed oxide film on the ion implanted surface was studied by ellipsometry. Basing on the spectroellipsometric data, the oxide film thickness has been calculated for two types of copper oxides. Проведены эллипсометрические исследования окисления при комнатной температуре ионно-имплантированных поверхностей меди. Эллипсометрические параметры T и Д измерены при угле падения света 75° для различных величин длины волны света в области 280—760 нм с усреднением как по двум, так и по одной азимутальным зонам. Оксидная пленка с поверхности меди удалялась в процессе ее имплантации ионами алюминия, а затем рост вновь формируемой пленки оксида меди на имплантированной поверхности исследован эллипсометрическим методом. Проведены на основе спектроэллипсометрических данных расчеты толщин пленок для двух типов оксидов меди. Проведено еліпсометричні дослідження окиснення при кімнатній температурі іонно-імплантованих поверхонь міді. Еліпсометричні параметри Т і Д виміряно при куті падіння світла 75° для різних величин довжини хвилі світла в області 280-760 нм з усередненням як за двома, так і за однією азимутальними зонами. Оксидна плівка з поверхні міді розпилювалась у процесі її імплантації іонами алюмінію, і наступний ріст нової плівки оксиду міді на імплантованій поверхні досліджено еліпсометричним методом. На основі спектроеліпсометричних даних розраховано товщину плівок для двох типів оксидів міді.
issn 1027-5495
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139709
citation_txt Ellipsometric study of ion implanted copper surface and its room temperature oxidation / L.V. Poperenko, T. Lohner, V.S. Stashchuk, N.Q. Khanh, M.V. Vinnichenko, I.V. Yurgelevych, Essam Ramadan Shaaban, D.V. Nosach // Functional Materials. — 2005. — Т. 12, № 1. — С. 83-86. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT poperenkolv ellipsometricstudyofionimplantedcoppersurfaceanditsroomtemperatureoxidation
AT lohnert ellipsometricstudyofionimplantedcoppersurfaceanditsroomtemperatureoxidation
AT stashchukvs ellipsometricstudyofionimplantedcoppersurfaceanditsroomtemperatureoxidation
AT khanhnq ellipsometricstudyofionimplantedcoppersurfaceanditsroomtemperatureoxidation
AT vinnichenkomv ellipsometricstudyofionimplantedcoppersurfaceanditsroomtemperatureoxidation
AT yurgelevychiv ellipsometricstudyofionimplantedcoppersurfaceanditsroomtemperatureoxidation
AT essamramadanshaaban ellipsometricstudyofionimplantedcoppersurfaceanditsroomtemperatureoxidation
AT nosachdv ellipsometricstudyofionimplantedcoppersurfaceanditsroomtemperatureoxidation
AT poperenkolv elípsometričnídoslídžennâíonnoímplantovanoípoverhnímídítaííokisnennâprikímnatníitemperaturí
AT lohnert elípsometričnídoslídžennâíonnoímplantovanoípoverhnímídítaííokisnennâprikímnatníitemperaturí
AT stashchukvs elípsometričnídoslídžennâíonnoímplantovanoípoverhnímídítaííokisnennâprikímnatníitemperaturí
AT khanhnq elípsometričnídoslídžennâíonnoímplantovanoípoverhnímídítaííokisnennâprikímnatníitemperaturí
AT vinnichenkomv elípsometričnídoslídžennâíonnoímplantovanoípoverhnímídítaííokisnennâprikímnatníitemperaturí
AT yurgelevychiv elípsometričnídoslídžennâíonnoímplantovanoípoverhnímídítaííokisnennâprikímnatníitemperaturí
AT essamramadanshaaban elípsometričnídoslídžennâíonnoímplantovanoípoverhnímídítaííokisnennâprikímnatníitemperaturí
AT nosachdv elípsometričnídoslídžennâíonnoímplantovanoípoverhnímídítaííokisnennâprikímnatníitemperaturí
first_indexed 2025-12-02T09:48:34Z
last_indexed 2025-12-02T09:48:34Z
_version_ 1850862180990189568

Схожі ресурси