Комп’ютерне моделювання впливу кисневих адсорбційних центрів цеоліту на хемосорбцію іонів водню

• Опубліковано в: : Фізико-хімічна механіка матеріалів
• Дата: 2012
• Автор: Копилець, В.І.
• Формат: Стаття
• Мова: Ukrainian
• Опубліковано: Фізико-механічний інститут ім. Г.В. Карпенка НАН України 2012
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/139774
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Комп’ютерне моделювання впливу кисневих адсорбційних центрів цеоліту на хемосорбцію іонів водню / В.І. Копилець // Фізико-хімічна механіка матеріалів. — 2012. — Т. 48, № 4. — С. 76-79. — Бібліогр.: 6 назв. — укp.

Побудовано спрощену комп’ютерну модель взаємодії гідратованих та негідратованих іонів водню, кальцію і цинку з центрами адсорбції фрагмента SiO₂ цеоліту у кластерному наближенні. За допомогою квантово-хімічного методу РМ6 розраховано енергії активації адсорбції та утворення хімічних зв’язків за поступового заповнення цих центрів і показано позитивний вплив іонів металів на блокування адсорбції іонів водню зі зменшенням їх проникнення до поверхні основного металу. Построена упрощенная компьютерная модель взаимодействия гидратированных и негидратированных ионов водорода, кальция и цинка с центрами адсорбции фрагмента SiO₂ цеолита в кластерном приближении. С помощью квантово-химического метода РМ6 расчитано энергии активации адсорбции и образования химических связей при постепенном заполнении этих центров и показано положительное влияние ионов металлов на блокировку адсорбции ионов водорода с уменьшением их проникновения к поверхности основного металла. A computer model is developed to take into account the interaction of hydrated and non-hydrated hydrogen, calcium and zinc ions with centers of zeolite SiO₂ fragment adsorption in cluster approximation. By means of the quantum-chemical method PM6 the adsorption activation energies and chemical bond energies are calculated. A positive effect of metal ions on hydrogen adsorption blocking with the decrease of their further penetration into basic metal surface is shown.