Миграция двухатомных комплексов в структуре графена

Рассматривается кинетика перемещений двухатомных образований в двумерной гексагональной структуре — однослойном графене. Используется схема с Hollow-позиционированием составляющих пары в условиях её неразрывности. Выбор варианта позиционирования связан с распространёнными представлениями об особенно...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Datum:2014
Hauptverfasser: Долгов, А.С., Жабчик, Ю.Л.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2014
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140653
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Миграция двухатомных комплексов в структуре графена / А.С. Долгов, Ю.Л. Жабчик // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 4. — С. 731-741. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862743037959995392
author Долгов, А.С.
Жабчик, Ю.Л.
author_facet Долгов, А.С.
Жабчик, Ю.Л.
citation_txt Миграция двухатомных комплексов в структуре графена / А.С. Долгов, Ю.Л. Жабчик // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 4. — С. 731-741. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
description Рассматривается кинетика перемещений двухатомных образований в двумерной гексагональной структуре — однослойном графене. Используется схема с Hollow-позиционированием составляющих пары в условиях её неразрывности. Выбор варианта позиционирования связан с распространёнными представлениями об особенностях осаждения примесей на графене и предопределяет некоторое упрощение анализа и характера результатов. Розглядається кінетика переміщень двоатомних утворень у двовимірній гексагональній структурі — одношаровому графені. Використовується схема з порожнистим Hollow-позиціонуванням складових пари в умовах її нерозривности. Вибір варіанту позиціонування пов’язаний з поширеними уявленнями про особливості осадження домішок на графені і зумовлює деяке спрощення аналізу і характеру результатів. The kinetics of diatomic-formations’ movements in two-dimensional hexagonal structure, which is a single-layer graphene, is considered. The pattern of Hollow-positioning of the pair components under the continuity conditions is used. The choice of positioning type is conditioned by widespread conceptions of features of impurity sedimentation on the graphene and predetermines some simplification of the analysis and nature of results.
first_indexed 2025-12-07T20:27:58Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-140653
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1816-5230
language Russian
last_indexed 2025-12-07T20:27:58Z
publishDate 2014
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
record_format dspace
spelling Долгов, А.С.
Жабчик, Ю.Л.
2018-07-13T08:54:24Z
2018-07-13T08:54:24Z
2014
Миграция двухатомных комплексов в структуре графена / А.С. Долгов, Ю.Л. Жабчик // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 4. — С. 731-741. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.
1816-5230
PACS: 05.20.Dd, 05.40.Fb, 61.48.Gh, 61.72.Bb, 66.30.Pa, 68.43.Jk, 81.05.ue
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140653
Рассматривается кинетика перемещений двухатомных образований в двумерной гексагональной структуре — однослойном графене. Используется схема с Hollow-позиционированием составляющих пары в условиях её неразрывности. Выбор варианта позиционирования связан с распространёнными представлениями об особенностях осаждения примесей на графене и предопределяет некоторое упрощение анализа и характера результатов.
Розглядається кінетика переміщень двоатомних утворень у двовимірній гексагональній структурі — одношаровому графені. Використовується схема з порожнистим Hollow-позиціонуванням складових пари в умовах її нерозривности. Вибір варіанту позиціонування пов’язаний з поширеними уявленнями про особливості осадження домішок на графені і зумовлює деяке спрощення аналізу і характеру результатів.
The kinetics of diatomic-formations’ movements in two-dimensional hexagonal structure, which is a single-layer graphene, is considered. The pattern of Hollow-positioning of the pair components under the continuity conditions is used. The choice of positioning type is conditioned by widespread conceptions of features of impurity sedimentation on the graphene and predetermines some simplification of the analysis and nature of results.
ru
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Миграция двухатомных комплексов в структуре графена
Article
published earlier
spellingShingle Миграция двухатомных комплексов в структуре графена
Долгов, А.С.
Жабчик, Ю.Л.
title Миграция двухатомных комплексов в структуре графена
title_full Миграция двухатомных комплексов в структуре графена
title_fullStr Миграция двухатомных комплексов в структуре графена
title_full_unstemmed Миграция двухатомных комплексов в структуре графена
title_short Миграция двухатомных комплексов в структуре графена
title_sort миграция двухатомных комплексов в структуре графена
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140653
work_keys_str_mv AT dolgovas migraciâdvuhatomnyhkompleksovvstrukturegrafena
AT žabčikûl migraciâdvuhatomnyhkompleksovvstrukturegrafena