Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления
Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3. The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputter...
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 1998 |
| Main Authors: | , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
1998
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140779 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-140779 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Вакив, Н.М. Погорилко, Я.Р. Шпотюк, О.И. 2018-07-15T11:32:07Z 2018-07-15T11:32:07Z 1998 Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140779 Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3. The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputtering plant are discussed. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| spellingShingle |
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления Вакив, Н.М. Погорилко, Я.Р. Шпотюк, О.И. Технологические процессы |
| title_short |
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| title_full |
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| title_fullStr |
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| title_full_unstemmed |
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| title_sort |
получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| author |
Вакив, Н.М. Погорилко, Я.Р. Шпотюк, О.И. |
| author_facet |
Вакив, Н.М. Погорилко, Я.Р. Шпотюк, О.И. |
| topic |
Технологические процессы |
| topic_facet |
Технологические процессы |
| publishDate |
1998 |
| language |
Russian |
| container_title |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| format |
Article |
| description |
Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3.
The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputtering plant are discussed.
|
| issn |
2225-5818 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140779 |
| fulltext |
|
| citation_txt |
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT vakivnm polučenievysokoomnyhtonkoplenočnyhkondensatovmetodomionnoplazmennogoraspyleniâ AT pogorilkoâr polučenievysokoomnyhtonkoplenočnyhkondensatovmetodomionnoplazmennogoraspyleniâ AT špotûkoi polučenievysokoomnyhtonkoplenočnyhkondensatovmetodomionnoplazmennogoraspyleniâ |
| first_indexed |
2025-11-25T20:54:33Z |
| last_indexed |
2025-11-25T20:54:33Z |
| _version_ |
1850538867904479232 |