Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления
Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3. The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputter...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Datum: | 1998 |
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
1998
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140779 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862551706765623296 |
|---|---|
| author | Вакив, Н.М. Погорилко, Я.Р. Шпотюк, О.И. |
| author_facet | Вакив, Н.М. Погорилко, Я.Р. Шпотюк, О.И. |
| citation_txt | Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description | Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3.
The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputtering plant are discussed.
|
| first_indexed | 2025-11-25T20:54:33Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-140779 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2225-5818 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-11-25T20:54:33Z |
| publishDate | 1998 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Вакив, Н.М. Погорилко, Я.Р. Шпотюк, О.И. 2018-07-15T11:32:07Z 2018-07-15T11:32:07Z 1998 Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140779 Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3. The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputtering plant are discussed. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления Article published earlier |
| spellingShingle | Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления Вакив, Н.М. Погорилко, Я.Р. Шпотюк, О.И. Технологические процессы |
| title | Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| title_full | Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| title_fullStr | Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| title_full_unstemmed | Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| title_short | Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| title_sort | получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления |
| topic | Технологические процессы |
| topic_facet | Технологические процессы |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140779 |
| work_keys_str_mv | AT vakivnm polučenievysokoomnyhtonkoplenočnyhkondensatovmetodomionnoplazmennogoraspyleniâ AT pogorilkoâr polučenievysokoomnyhtonkoplenočnyhkondensatovmetodomionnoplazmennogoraspyleniâ AT špotûkoi polučenievysokoomnyhtonkoplenočnyhkondensatovmetodomionnoplazmennogoraspyleniâ |