Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления - Вакив, Н.М.; Погорилко, Я.Р.; Шпотюк, О.И. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 1998)
Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3. The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputtering plant are discussed.