Формирование тонкопленочного диэлектрика на основе β-тантала
Разработана технология формирования тонкопленочных конденсаторов на основе базовых слоев β-тантала ионным распылением танталовой мишени при одновременном легировании элементами Iб, IIб, III, IV, Vа, VIа, VIIа, VIIIа Периодической системы. Такие тонкопленочные элементы конденсаторов могут быть исполь...
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 1998 |
| Main Authors: | Буджак, Я.С., Новосядлый, С.П. |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
1998
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140787 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Формирование тонкопленочного диэлектрика на основе β-тантала / Я.С. Буджак, С.П. Новосядлый // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 62. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineSimilar Items
Similar Items
-
Технология локальной изоляции активных элементов больших интегральных схем
by: Новосядлый, С.П.
Published: (1998) -
Геттерирование примесей и дефектов в системной технологии микроэлектроники БИС
by: Новосядлый, С.П.
Published: (1998) -
Про першоздання Києва
by: Даниленко, В.М.
Published: (2012) -
Создание высоковольтных импульсных конденсаторов на основе комбинированного пленочного диэлектрика
by: Гунько, В.И., et al.
Published: (2014) -
Юстировка пороговых напряжений в технологии БИС
by: Новосядлый, С.П., et al.
Published: (1999)