Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття

Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття

Аморфні SiCN-покриття було осаджено на кремнієві підкладки методом плазмохімічного осадження (PECVD) з використанням гексаметилдісилазану в якості основного прекурсора. Досліджено вплив температури осадження на структуру, хімічний склад і механічні властивості покриттів. Встановлено, що при температ...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Сверхтвердые материалы
Date:2016
Main Authors: Порада, О.К., Козак, А.О., Іващенко, В.І., Дуб, С.М., Толмачева, Г.М.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2016
Subjects:
Получение, структура, свойства
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/143855
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття / О.К. Порада, А.О. Козак, В.І. Іващенко, С.М. Дуб, Г.М. Толмачева // Сверхтвердые материалы. — 2016. — № 4. — С. 57-66. — Бібліогр.: 32 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-143855
record_format dspace
spelling Порада, О.К.
Козак, А.О.
Іващенко, В.І.
Дуб, С.М.
Толмачева, Г.М.
2018-11-14T18:17:16Z
2018-11-14T18:17:16Z
2016
Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття / О.К. Порада, А.О. Козак, В.І. Іващенко, С.М. Дуб, Г.М. Толмачева // Сверхтвердые материалы. — 2016. — № 4. — С. 57-66. — Бібліогр.: 32 назв. — укр.
0203-3119
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/143855
621.723:620.669.018:45:621.9.0
Аморфні SiCN-покриття було осаджено на кремнієві підкладки методом плазмохімічного осадження (PECVD) з використанням гексаметилдісилазану в якості основного прекурсора. Досліджено вплив температури осадження на структуру, хімічний склад і механічні властивості покриттів. Встановлено, що при температурах до 400 °С мало місце осадження гідрогенізованих аморфних SiCN (a-SiCN:H)-покриттів, твердість яких не перевищує 23 ГПа. З подальшим підвищенням температури розподіл міцних зв’язків Si–C, Si–N і C–N в покриттях практично не змінюється, а кількість слабких водневих зв’язків С–Н, Si–H і N–H зменшується. Як наслідок такого перерозподілу хімічних зв’язків при температурах 650–700 °C осаджуються a-SiCN-покриття з твердістю понад 32 ГПа. Відпал у вакуумі при 1200 °С не впливає помітно на структуру, твердість і модуль пружності a-SiCN-покриттів.
Аморфные SiCN-покрытия были осаждены на подложки из кремния методом плазмохимического осаждения (PECVD) с применением гексаметилдисилазана как основного прекурсора. Исследовано влияние температуры осаждения на структуру, химический состав и механические свойства покрытий. Установлено, что при температурах до 400 °С происходит осаждение гидрогенизированных аморфных SiCN (a-SiCN:H)-покрытий, твердость которых не превышает 23 ГПа. При дальнейшем повышении температуры распределение сильных связей Si–C, Si–N і C–N в покрытиях практически не изменяется, а количество слабых водородных связей С–Н, Si–H и N–H существенно уменьшается. В результате такого перераспределения химических связей при температурах 650–700 °С осаждаются a-SiCN-покрытия с твердостью до 32 ГПа. Отжиг в вакууме при 1200 °С не оказывает заметного влияния на структуру, твердость и модуль упругости a-SiCN-покрытий.
Amorphous SiCN coatings have been deposited on silicon substrates by plasmochemical technique (PECVD) using hexamethyldisilazane as basic precursor. The effect of deposition temperature on structure, chemical composition and mechanical properties of coatings has been studied. It was found that deposition of hydrogenated amorphous SiCN (a-SiCN:H) coatings take place at temperatures lower 400 °С with hardness < 23 GPa. Distribution of strong Si–C, Si–N і C–N bonds in coatings at further increase of temperature is not changed practically and number of weak hydrogen bonds С–Н, Si–H and N–H decreased considerably. The hardness of a-SiCN coatings increase up to 32 GPa at deposition temperatures from 650 to 700 °С in results of such rearrangement of chemical bonds. Annealing in vacuum at 1200 °C doesn’t effect appreciably the structure, hardness and elastic modulus of a-SiCN coatings.
Автори висловлюють подяку співробітникам Інституту проблем матеріалознавства НАН України І. І. Тимофєєвій за допомогу при дослідженні структури плівок методом рентгенівської дифрактометрії і Т. В. Томілі за допомогу при дослідженні хімічних зв’язків методом інфрачервоної спектроскопії.
uk
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
Сверхтвердые материалы
Получение, структура, свойства
Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття
spellingShingle Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття
Порада, О.К.
Козак, А.О.
Іващенко, В.І.
Дуб, С.М.
Толмачева, Г.М.
Получение, структура, свойства
title_short Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття
title_full Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття
title_fullStr Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття
title_full_unstemmed Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття
title_sort тверді плазмохімічні a-sicn-покриття
author Порада, О.К.
Козак, А.О.
Іващенко, В.І.
Дуб, С.М.
Толмачева, Г.М.
author_facet Порада, О.К.
Козак, А.О.
Іващенко, В.І.
Дуб, С.М.
Толмачева, Г.М.
topic Получение, структура, свойства
topic_facet Получение, структура, свойства
publishDate 2016
language Ukrainian
container_title Сверхтвердые материалы
publisher Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
format Article
description Аморфні SiCN-покриття було осаджено на кремнієві підкладки методом плазмохімічного осадження (PECVD) з використанням гексаметилдісилазану в якості основного прекурсора. Досліджено вплив температури осадження на структуру, хімічний склад і механічні властивості покриттів. Встановлено, що при температурах до 400 °С мало місце осадження гідрогенізованих аморфних SiCN (a-SiCN:H)-покриттів, твердість яких не перевищує 23 ГПа. З подальшим підвищенням температури розподіл міцних зв’язків Si–C, Si–N і C–N в покриттях практично не змінюється, а кількість слабких водневих зв’язків С–Н, Si–H і N–H зменшується. Як наслідок такого перерозподілу хімічних зв’язків при температурах 650–700 °C осаджуються a-SiCN-покриття з твердістю понад 32 ГПа. Відпал у вакуумі при 1200 °С не впливає помітно на структуру, твердість і модуль пружності a-SiCN-покриттів. Аморфные SiCN-покрытия были осаждены на подложки из кремния методом плазмохимического осаждения (PECVD) с применением гексаметилдисилазана как основного прекурсора. Исследовано влияние температуры осаждения на структуру, химический состав и механические свойства покрытий. Установлено, что при температурах до 400 °С происходит осаждение гидрогенизированных аморфных SiCN (a-SiCN:H)-покрытий, твердость которых не превышает 23 ГПа. При дальнейшем повышении температуры распределение сильных связей Si–C, Si–N і C–N в покрытиях практически не изменяется, а количество слабых водородных связей С–Н, Si–H и N–H существенно уменьшается. В результате такого перераспределения химических связей при температурах 650–700 °С осаждаются a-SiCN-покрытия с твердостью до 32 ГПа. Отжиг в вакууме при 1200 °С не оказывает заметного влияния на структуру, твердость и модуль упругости a-SiCN-покрытий. Amorphous SiCN coatings have been deposited on silicon substrates by plasmochemical technique (PECVD) using hexamethyldisilazane as basic precursor. The effect of deposition temperature on structure, chemical composition and mechanical properties of coatings has been studied. It was found that deposition of hydrogenated amorphous SiCN (a-SiCN:H) coatings take place at temperatures lower 400 °С with hardness < 23 GPa. Distribution of strong Si–C, Si–N і C–N bonds in coatings at further increase of temperature is not changed practically and number of weak hydrogen bonds С–Н, Si–H and N–H decreased considerably. The hardness of a-SiCN coatings increase up to 32 GPa at deposition temperatures from 650 to 700 °С in results of such rearrangement of chemical bonds. Annealing in vacuum at 1200 °C doesn’t effect appreciably the structure, hardness and elastic modulus of a-SiCN coatings.
issn 0203-3119
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/143855
citation_txt Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття / О.К. Порада, А.О. Козак, В.І. Іващенко, С.М. Дуб, Г.М. Толмачева // Сверхтвердые материалы. — 2016. — № 4. — С. 57-66. — Бібліогр.: 32 назв. — укр.
work_keys_str_mv AT poradaok tverdíplazmohímíčníasicnpokrittâ
AT kozakao tverdíplazmohímíčníasicnpokrittâ
AT ívaŝenkoví tverdíplazmohímíčníasicnpokrittâ
AT dubsm tverdíplazmohímíčníasicnpokrittâ
AT tolmačevagm tverdíplazmohímíčníasicnpokrittâ
first_indexed 2025-12-07T18:42:51Z
last_indexed 2025-12-07T18:42:51Z
_version_ 1850876070990970880

Similar Items