Взрывная кристаллизация плёнок аморфного кобальта на подслое углерода
Методами просвечивающей электронной микроскопии, электронной дифракции, малоугловой рентгеновской дифракции и вторичной ионной масс-спектрометрии исследован механизм взрывной кристаллизации аморфных плёнок кобальта, выращенных на аморфном углероде методом магнетронного (на постоянном токе) распылени...
Saved in:
| Published in: | Металлофизика и новейшие технологии |
|---|---|
| Date: | 2018 |
| Main Authors: | , , , , , , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
2018
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/145919 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Взрывная кристаллизация плёнок аморфного кобальта на подслое углерода / Е.Н. Зубарев, А.Ю. Девизенко, В.В. Кондратенко, Д.В. Севрюков, В.А. Севрюкова, А.С. Гарбуз, T.M. Сабов, А.В. Дубиковский, А.С. Оберемок, В.П. Мельник // Металлофизика и новейшие технологии. — 2018. — Т. 40, № 3. — С. 359-379. — Бібліогр.: 32 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Summary: | Методами просвечивающей электронной микроскопии, электронной дифракции, малоугловой рентгеновской дифракции и вторичной ионной масс-спектрометрии исследован механизм взрывной кристаллизации аморфных плёнок кобальта, выращенных на аморфном углероде методом магнетронного (на постоянном токе) распыления.
Методами просвітлювальної електронної мікроскопії, електронної дифракції, малокутової рентґенівської дифракції та вторинної йонної мас-спектрометрії досліджено механізм вибухової кристалізації аморфних плівок кобальту, вирощених на аморфному вуглецю методою магнетронного (на сталому струмі) розпорошування.
The mechanism of explosive crystallization of the amorphous cobalt films grown on an amorphous carbon by the DC-magnetron sputtering is studied by means of transmission electron microscopy, electron diffraction, small-angle X-ray diffraction, and secondary ion mass spectrometry.
|
|---|---|
| ISSN: | 1024-1809 |