Взрывная кристаллизация плёнок аморфного кобальта на подслое углерода
Методами просвечивающей электронной микроскопии, электронной дифракции, малоугловой рентгеновской дифракции и вторичной ионной масс-спектрометрии исследован механизм взрывной кристаллизации аморфных плёнок кобальта, выращенных на аморфном углероде методом магнетронного (на постоянном токе) распылени...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Металлофизика и новейшие технологии |
|---|---|
| Дата: | 2018 |
| Автори: | , , , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
2018
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/145919 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Взрывная кристаллизация плёнок аморфного кобальта на подслое углерода / Е.Н. Зубарев, А.Ю. Девизенко, В.В. Кондратенко, Д.В. Севрюков, В.А. Севрюкова, А.С. Гарбуз, T.M. Сабов, А.В. Дубиковский, А.С. Оберемок, В.П. Мельник // Металлофизика и новейшие технологии. — 2018. — Т. 40, № 3. — С. 359-379. — Бібліогр.: 32 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Методами просвечивающей электронной микроскопии, электронной дифракции, малоугловой рентгеновской дифракции и вторичной ионной масс-спектрометрии исследован механизм взрывной кристаллизации аморфных плёнок кобальта, выращенных на аморфном углероде методом магнетронного (на постоянном токе) распыления.
Методами просвітлювальної електронної мікроскопії, електронної дифракції, малокутової рентґенівської дифракції та вторинної йонної мас-спектрометрії досліджено механізм вибухової кристалізації аморфних плівок кобальту, вирощених на аморфному вуглецю методою магнетронного (на сталому струмі) розпорошування.
The mechanism of explosive crystallization of the amorphous cobalt films grown on an amorphous carbon by the DC-magnetron sputtering is studied by means of transmission electron microscopy, electron diffraction, small-angle X-ray diffraction, and secondary ion mass spectrometry.
|
|---|---|
| ISSN: | 1024-1809 |