Отрицательное дифференциальное сопротивление N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур

Предложен физический механизм, ответственный за возникновение участка отрицательного дифференциального сопротивления N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур с туннельным барьером, образованным полупроводниковой прослойкой с внедрёнными в неё примесными центрами. Развитая...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Металлофизика и новейшие технологии
Date:2018
Main Authors: Шамаев, В.В., Житлухина, Е.С.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2018
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/146927
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Отрицательное дифференциальное сопротивление N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур / В.В. Шамаев, Е.С. Житлухина // Металлофизика и новейшие технологии. — 2018. — Т. 40, № 6. — С. 729-737. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-146927
record_format dspace
spelling Шамаев, В.В.
Житлухина, Е.С.
2019-02-12T16:16:08Z
2019-02-12T16:16:08Z
2018
Отрицательное дифференциальное сопротивление N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур / В.В. Шамаев, Е.С. Житлухина // Металлофизика и новейшие технологии. — 2018. — Т. 40, № 6. — С. 729-737. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.
1024-1809
PACS: 64.60.ah, 72.20.Dp, 72.80.Tm, 73.40.Gk, 73.40.Rw, 73.50.Fq, 81.05.Zx
DOI: https://doi.org/10.15407/mfint.40.06.0729
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/146927
Предложен физический механизм, ответственный за возникновение участка отрицательного дифференциального сопротивления N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур с туннельным барьером, образованным полупроводниковой прослойкой с внедрёнными в неё примесными центрами. Развитая в работе теория основана на предположении о наличии в потенциальном барьере локализованных двухуровневых структур, которые определяют величину тока, протекающего через соответствующий транспортный канал. Проанализировано влияние параметров задачи на туннельный ток.
Запропоновано фізичний механізм, що відповідає за виникнення ділянки неґативного диференційного опору N-типу у вольт-амперних характеристиках металевих гетероструктур з тунельним бар’єром, утвореним напівпровідниковим прошарком із втіленими у нього домішковими центрами. Розвинуту в роботі теорію засновано на припущенні про наявність у потенціяльному бар’єрі локалізованих дворівневих структур, які визначають величину струму, що протікає через відповідний транспортний канал. Проаналізовано вплив параметрів задачі на тунельний струм.
Physical mechanism is proposed and responsible for the appearance of a negative N-type differential resistance region in current–voltage characteristics of metal heterostructures with a tunnel barrier formed by a semiconductor interlayer with embedded impurity centres. The theory developed in this work is based on the assumption of the presence of localized two-level structures in the potential barrier, which determine the magnitude of the current flowing through the corresponding transport channel. An effect of the problem parameters on the tunnel current is analysed.
ru
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Металлофизика и новейшие технологии
Электронные структура и свойства
Отрицательное дифференциальное сопротивление N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур
Неґативна диференційна провідність N-типу у вольт-амперних характеристиках металевих гетероструктур
Negative N-Type Differential Resistance in Current–Voltage Characteristics of Metal Heterostructures
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Отрицательное дифференциальное сопротивление N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур
spellingShingle Отрицательное дифференциальное сопротивление N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур
Шамаев, В.В.
Житлухина, Е.С.
Электронные структура и свойства
title_short Отрицательное дифференциальное сопротивление N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур
title_full Отрицательное дифференциальное сопротивление N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур
title_fullStr Отрицательное дифференциальное сопротивление N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур
title_full_unstemmed Отрицательное дифференциальное сопротивление N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур
title_sort отрицательное дифференциальное сопротивление n-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур
author Шамаев, В.В.
Житлухина, Е.С.
author_facet Шамаев, В.В.
Житлухина, Е.С.
topic Электронные структура и свойства
topic_facet Электронные структура и свойства
publishDate 2018
language Russian
container_title Металлофизика и новейшие технологии
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
format Article
title_alt Неґативна диференційна провідність N-типу у вольт-амперних характеристиках металевих гетероструктур
Negative N-Type Differential Resistance in Current–Voltage Characteristics of Metal Heterostructures
description Предложен физический механизм, ответственный за возникновение участка отрицательного дифференциального сопротивления N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур с туннельным барьером, образованным полупроводниковой прослойкой с внедрёнными в неё примесными центрами. Развитая в работе теория основана на предположении о наличии в потенциальном барьере локализованных двухуровневых структур, которые определяют величину тока, протекающего через соответствующий транспортный канал. Проанализировано влияние параметров задачи на туннельный ток. Запропоновано фізичний механізм, що відповідає за виникнення ділянки неґативного диференційного опору N-типу у вольт-амперних характеристиках металевих гетероструктур з тунельним бар’єром, утвореним напівпровідниковим прошарком із втіленими у нього домішковими центрами. Розвинуту в роботі теорію засновано на припущенні про наявність у потенціяльному бар’єрі локалізованих дворівневих структур, які визначають величину струму, що протікає через відповідний транспортний канал. Проаналізовано вплив параметрів задачі на тунельний струм. Physical mechanism is proposed and responsible for the appearance of a negative N-type differential resistance region in current–voltage characteristics of metal heterostructures with a tunnel barrier formed by a semiconductor interlayer with embedded impurity centres. The theory developed in this work is based on the assumption of the presence of localized two-level structures in the potential barrier, which determine the magnitude of the current flowing through the corresponding transport channel. An effect of the problem parameters on the tunnel current is analysed.
issn 1024-1809
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/146927
citation_txt Отрицательное дифференциальное сопротивление N-типа в вольт-амперных характеристиках металлических гетероструктур / В.В. Шамаев, Е.С. Житлухина // Металлофизика и новейшие технологии. — 2018. — Т. 40, № 6. — С. 729-737. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT šamaevvv otricatelʹnoedifferencialʹnoesoprotivlenientipavvolʹtampernyhharakteristikahmetalličeskihgeterostruktur
AT žitluhinaes otricatelʹnoedifferencialʹnoesoprotivlenientipavvolʹtampernyhharakteristikahmetalličeskihgeterostruktur
AT šamaevvv negativnadiferencíinaprovídnístʹntipuuvolʹtampernihharakteristikahmetalevihgeterostruktur
AT žitluhinaes negativnadiferencíinaprovídnístʹntipuuvolʹtampernihharakteristikahmetalevihgeterostruktur
AT šamaevvv negativentypedifferentialresistanceincurrentvoltagecharacteristicsofmetalheterostructures
AT žitluhinaes negativentypedifferentialresistanceincurrentvoltagecharacteristicsofmetalheterostructures
first_indexed 2025-12-07T21:14:40Z
last_indexed 2025-12-07T21:14:40Z
_version_ 1850885621986361344