Кремнеземні носії для контрольованого вивільнення активної речовини

Проведено іммобілізацію диклофенаку натрію шляхом адсорбції та імпрегнації із спиртового розчину на вихідних та хімічно модифікованих кремнеземах. Показано, що хімічна модифікація поверхні кремнезему впливає на швидкість вивільнення активної речовини. Наявність у поверхневому шарі кремнезему метилси...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Поверхность
Datum:2008
ISSN:2617-5975
Hauptverfasser: Козакевич, Р.Б., Больбух, Ю.М., Тьортих, В.А.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainisch
Veröffentlicht: Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України 2008
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/146973
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Кремнеземні носії для контрольованого вивільнення активної речовини / Р.Б. Козакевич, Ю.М. Больбух, В.А. Тьортих // Поверхность. — 2008. — Вип. 14. — С. 325-331. — Бібліогр.: 12 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:Проведено іммобілізацію диклофенаку натрію шляхом адсорбції та імпрегнації із спиртового розчину на вихідних та хімічно модифікованих кремнеземах. Показано, що хімічна модифікація поверхні кремнезему впливає на швидкість вивільнення активної речовини. Наявність у поверхневому шарі кремнезему метилсилільних груп забезпечує істотне зменшення швидкості вивільнення диклофенаку натрію з кремнеземної матриці у дистильовану воду і буферний розчин. Immobilization of sodium diclofenac via adsorption and impregnation from alcohol solution on unmodified and modified silicas was carried out. Influence of chemical modification of silica surface on active substance release rate was shown. Presence of methylsilyl groups in silica surface layer significantly decrease the rate of sodium diclofenac from release silica matrix into water or buffer solution.
ISSN:2617-5975