Еlectrodes dimensions effect on the self-sustained plasma-beam discharge power

The possibility of increasing the active power inputted into the discharge is shown by reducing the working
 surface area of the high-voltage electrode in high-current pulsed plasma diode of low-pressure. Under conditions of
 double electric layer formation, the power densities up...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2018
Автори: Hrechko, Ya.O., Azarenkov, N.A., Babenko, Ie.V., Ryabchikov, D.L., Sereda, I.N., Boloto, D.A., Tseluyko, A.F.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2018
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147330
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Еlectrodes dimensions effect on the self-sustained plasma-beam discharge power / Ya.O. Hrechko, N.A. Azarenkov, Ie.V. Babenko, D.L. Ryabchikov, I.N. Sereda, D.A. Boloto, A.F. Tseluyko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 156-159. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:The possibility of increasing the active power inputted into the discharge is shown by reducing the working
 surface area of the high-voltage electrode in high-current pulsed plasma diode of low-pressure. Under conditions of
 double electric layer formation, the power densities up to 2 GW/cm² are achieved in the discharge at initial stored
 energy up to 200 J. Показана можливість збільшення активної потужності, що вводиться в розряд, за рахунок зменшення
 площі робочої поверхні високовольтного електрода в сильнострумовому імпульсному плазмовому діоді
 низького тиску. В умовах утворення подвійного електричного шару в розряді досягається густина
 потужності до 2 ГВт/см² при початковому енергозапасі до 200 Дж. Показана возможность увеличения активной мощности, локально вводимой в разряд, за счет уменьшения
 площади рабочей поверхности высоковольтного электрода в сильноточном импульсном плазменном диоде
 низкого давления. В условиях образования двойного электрического слоя в разряде достигается плотность
 мощности до 2 ГВт/см² при начальном энергозапасе до 200 Дж.
ISSN:1562-6016