Еlectrodes dimensions effect on the self-sustained plasma-beam discharge power
The possibility of increasing the active power inputted into the discharge is shown by reducing the working surface area of the high-voltage electrode in high-current pulsed plasma diode of low-pressure. Under conditions of double electric layer formation, the power densities up to 2 GW/cm² are...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2018 |
| Main Authors: | , , , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2018
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147330 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Еlectrodes dimensions effect on the self-sustained plasma-beam discharge power / Ya.O. Hrechko, N.A. Azarenkov, Ie.V. Babenko, D.L. Ryabchikov, I.N. Sereda, D.A. Boloto, A.F. Tseluyko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 156-159. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Summary: | The possibility of increasing the active power inputted into the discharge is shown by reducing the working
surface area of the high-voltage electrode in high-current pulsed plasma diode of low-pressure. Under conditions of
double electric layer formation, the power densities up to 2 GW/cm² are achieved in the discharge at initial stored
energy up to 200 J.
Показана можливість збільшення активної потужності, що вводиться в розряд, за рахунок зменшення
площі робочої поверхні високовольтного електрода в сильнострумовому імпульсному плазмовому діоді
низького тиску. В умовах утворення подвійного електричного шару в розряді досягається густина
потужності до 2 ГВт/см² при початковому енергозапасі до 200 Дж.
Показана возможность увеличения активной мощности, локально вводимой в разряд, за счет уменьшения
площади рабочей поверхности высоковольтного электрода в сильноточном импульсном плазменном диоде
низкого давления. В условиях образования двойного электрического слоя в разряде достигается плотность
мощности до 2 ГВт/см² при начальном энергозапасе до 200 Дж.
|
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |