Использование суспензий на основе пирогенного кремнезема для химико-механической полировки монокристаллического кремния

• Published in: Поверхность
• Date: 2008
• Main Authors: Гайшун, В.Е., Косенок, Я.А., Тюленкова, О.И., Туров, В.В., Гунько, В.М.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України 2008
• Subjects: Наноматериалы и нанотехнологии
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147497
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Использование суспензий на основе пирогенного кремнезема для химико-механической полировки монокристаллического кремния / В.Е. Гайшун, Я.А. Косенок, О.И. Тюленкова, В.В. Туров, В.М. Гунько // Поверхность. — 2008. — Вип. 14. — С. 423-428. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

В статье описывается методика приготовления полирующих суспензий на основе наноразмерных частиц пирогенного кремнезема, приводятся их основные технологические характеристики, а также даются рекомендации по их использованию в химико-механической полировке полупроводниковых пластин монокристаллического кремния. This article describes a preparation technique of polishing suspensions based on pyrogenic silicon dioxide nanoparticles, determines their basic technical characteristics, and also the guidelines on their usage are given in the mechano-chemical polishing process of semiconductor wafers of single-crystalline silicon.