Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings
To obtain micrometric gratings with a high aspect ratio by lithographic technique, it is proposed to use a proton
 beam focused in a line and electromagnetic scanning in the transverse direction to irradiate the resistive material.
 Numerical modeling is carried out to optimize the p...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2018 |
| Hauptverfasser: | , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2018
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147662 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Using of proton beam writing techniques for fabrication of micro difraction gratings / A.G. Ponomarev, S.V. Kolinko, V.A. Rebrov, V.N. Kolomiets, S.N. Kravchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 285-288. — Бібліогр.: 13 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Zusammenfassung: | To obtain micrometric gratings with a high aspect ratio by lithographic technique, it is proposed to use a proton
beam focused in a line and electromagnetic scanning in the transverse direction to irradiate the resistive material.
Numerical modeling is carried out to optimize the parameters of the probe forming system for this task. The calculations were confirmed during the experimental implementation of the proposed technique. A grating from the
23.4×2060 μm lines was made.
Для виробництва мікродифракційних граток з великим аспектним співвідношенням методом літографії
запропоновано застосувати для опромінення фоторезисту протонний пучок, сфокусований в лінію, та електромагнітне сканування в поперечному напрямку. Проведене чисельне моделювання з оптимізації параметрів
ЗФС для даної задачі. Розрахунки підтверджено при експериментальній реалізації запропонованого методу,
виготовлено гратку зi смугами розмірами 23,4×2060 мкм.
Для получения микродифракционных решеток с высоким аспектным соотношением методом литографии предложено использовать для облучения фоторезиста протонный пучок, сфокусированный в линию, и
электромагнитное сканирование в поперечном направлении. Проведено численное моделирование по оптимизации параметров ЗФС для данной задачи. Расчеты подтверждены при экспериментальной реализации
предложенного метода, получена решетка из полос размерами 23,4×2060 мкм.
|
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |